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1. 发明申请

WO2014083151A1 STATION ET PROCEDE DE MESURE DE LA CONTAMINATION EN PARTICULES D'UNE ENCEINTE DE TRANSPORT POUR LE CONVOYAGE ET LE STOCKAGE ATMOSPHERIQUE DE SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS 审中-公开
标题翻译：用于测量输送室和大气储存半导体基板的运输室的颗粒污染的站和方法
公开(公告)号：WO2014083151A1
公开(公告)日：2014-06-05
申请号：PCT/EP2013/075075
申请日：2013-11-29
申请人： ADIXEN VACUUM PRODUCTS
发明人： THOVEX, Cindy , BOUNOUAR, Julien , FAVRE, Arnaud
IPC分类号： H01L21/673
CPC分类号： G01N15/10 , G01N2015/1062 , H01L21/67389
摘要： L'invention concerne une station de mesure de la contamination en particules d'une enceinte de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, ladite enceinte de transport comprenant une enveloppe rigide (2) munie d'une ouverture et une porte (3) amovible permettant d'obturer l'ouverture, la station de mesure comportant : - une chambre à environnement contrôlé (4) comportant au moins un port de chargement (8) susceptible de s'accoupler d'une part à l'enveloppe rigide (2) et d'autre part à la porte (3) de l'enceinte de transport, pour déplacer la porte (3) dans la chambre à environnement contrôlé (4) et mettre l'intérieur de l'enveloppe rigide (2) en communication avec l'intérieur de la chambre à environnement contrôlé (4), - un module de mesure (5) comportant une unité de mesure des particules (14) et une interface de mesure enveloppe (16) configurée pour s'accoupler à l'enveloppe rigide (2) d'enceinte de transport accouplée à la chambre à environnement contrôlé (4) à la place de la porte (3), caractérisée en ce que ladite interface de mesure enveloppe (16) comporte une tête de mesure faisant saillie d'une base de l'interface de mesure enveloppe portant un premier orifice de prélèvement (12) raccordé à l'unité de mesure des particules (14) et au moins deux buses d'injection (20) configurées pour diriger un jet de gaz sur au moins deux endroits distincts de l'enveloppe rigide (2) accouplée à la chambre à environnement contrôlé (4), les orientations respectives des buses d'injection (20) étant fixes par rapport à l'enveloppe rigide (2) accouplée. L'invention concerne également un procédé de mesure de la contamination en particules d'une enceinte de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量用于输送和大气存储半导体衬底的传送室的颗粒污染的站，所述传送室包括设置有开口的刚性外壳（2）和使开口闭合的可拆卸门（3）。测量站包括：具有受控环境的室（4），包括适于联接到刚性外壳（2）的至少一个装载端口（8）并且还连接到传送室的门（3），例如将门（3）移动到具有受控环境的室（4）中，并将刚性外壳（2）的内部与具有受控环境的室（4）的内部连通; 以及包括用于测量所述颗粒的单元（14）的测量模块（5）以及被配置为联接到耦合到所述室（4）的所述刚性外壳（2）传送室的外壳测量接口（16）控制环境，而不是门（3）。所述测量站的特征在于，所述外壳测量接口（16）包括从外壳测量接口的底部突出的测量头，具有连接到所述单元（14）的第一采样开口（12），用于测量所述颗粒，以及至少两个注射喷嘴（20），其构造成将气流引导到具有受控环境的连接到所述腔室（4）的刚性外壳（2）的至少两个分开的位置。注射喷嘴（20）的相应取向相对于联接的刚性外壳（2）是静止的。本发明还涉及一种用于测量用于输送和大气存储半导体衬底的传送室的颗粒污染物的方法。

2. 发明申请

WO2014083152A1 STATION ET PROCEDE DE MESURE DE LA CONTAMINATION EN PARTICULES D'UNE ENCEINTE DE TRANSPORT POUR LE CONVOYAGE ET LE STOCKAGE ATMOSPHERIQUE DE SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS 审中-公开
标题翻译：用于测量输送室和大气储存半导体基板的运输室的颗粒污染的站和方法
公开(公告)号：WO2014083152A1
公开(公告)日：2014-06-05
申请号：PCT/EP2013/075076
申请日：2013-11-29
申请人： ADIXEN VACUUM PRODUCTS
发明人： THOVEX, Cindy , BELLET, Bertrand , CHAPEL, Nicolas
IPC分类号： H01L21/673
CPC分类号： G01N33/0009 , H01L21/673 , H01L21/67389
摘要： La présente invention concerne un procédé de mesure de la contamination en particules d'une enceinte de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, mis en œuvre dans une station de mesure. Le procédé de mesure comporte : - une étape dans laquelle le module de mesure (5) s'accouple à l'enveloppe rigide (2) en définissant un premier volume de mesure (V1) entre l'interface de mesure enveloppe (16) et l'enveloppe rigide (2) accouplée pour réaliser une mesure de contamination des parois internes de l'enveloppe rigide (2), et - une étape dans laquelle la porte (3) s'accouple au module de mesure (5) en définissant un deuxième volume de mesure (V2) entre ladite face de mesure (22) et la porte (3) en vis-à-vis pour réaliser une mesure de contamination de la porte (3). L'invention concerne également une station de mesure associée.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量用于测量站的用于输送和大气存储半导体衬底的运输室的颗粒污染的方法。测量方法包括：测量模块（5）联接到刚性外壳（2）的步骤，在测量接口外壳（16）和刚性外壳（2）之间限定第一测量空间（V1）为了执行对刚性外壳（2）的内壁的污染的测量，以及门（3）联接到测量模块（5）的步骤，在第二测量空间（V2）之间限定第二测量空间所述测量表面（22）和所述面对门（3），以便对所述门（3）的污染进行测量。本发明还涉及相关的测量站。

3. 发明申请

WO2012000951A1 DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE SÉCHAGE D'UN PHOTOMASQUE 审中-公开
标题翻译：用于干燥光刻胶的装置和方法
公开(公告)号：WO2012000951A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：PCT/EP2011/060750
申请日：2011-06-27
申请人： ADIXEN VACUUM PRODUCTS , THOVEX, Cindy , BELLET, Bertrand
发明人： THOVEX, Cindy , BELLET, Bertrand
IPC分类号： F26B5/04 , F26B7/00 , F26B21/14
CPC分类号： G03F1/68 , F26B5/048 , F26B7/00 , F26B21/14 , G03F1/82
摘要： La présente invention a pour objet un dispositif de séchage d'un photomasque comprenant: -une enceinte (2) étanche contenant au moins un photomasque (13), -un groupe de pompage (3 ) pour installer et maintenir le vide à l'intérieur de ladite 1 ' enceinte (2), -un support (12) du photomasque (13), placé à l'intérieur de ladite enceinte(2), -des moyens de rayonnement infrarouge (6) placés à l'intérieur de ladite enceinte (2), -un système d'injection de gaz (10) dans ladite enceinte (2), Selon l'invention, les moyens de rayonnement infrarouge comprennent une pluralité de sources de rayonnement infrarouge (6) réparties dans un plan parallèle au plan du photomasque (13) de telle sorte que la distance du photomasque (13) aux moyens de rayonnement IR soit donnée par la relation: D=1,5 x d dans laquelle D est la distance entre le plan contenant les sources de rayonnement infrarouge (6) et le photomasque (13), et d est la distance entre les points centraux de deux sources de rayonnement infrarouge (6), et le système d'injection de gaz (10) comprend une pluralité d'injecteurs de gaz (30) réparties dans un plan parallèle au plan du photomasque (13) de telle sorte que les injecteurs (30) respectent une invariance par rotation de 90° autour du point central du photomasque (13).
摘要翻译：本发明的目的是一种用于干燥光掩模的装置，包括：密封室（2），包括至少一个光掩模（13）; 用于在所述室（2）内提供和保持真空的泵组（3）; 用于光掩模（13）的保持器（12），放置在所述腔室（2）内; 放置在所述室（2）内的红外辐射装置（6）; 以及用于将气体注入所述室（2）中的系统（10）。根据本发明，红外辐射装置包括分布在与光掩模（13）的平面平行的平面中的多个红外源（6），使得从光掩模（13）到产生IR的装置的距离被给予通过等式：D = 1.5×d，其中D是包含红外源（6）和光掩模（13）的平面之间的距离，d是两个红外源（6）的中心点之间的距离，以及用于喷射气体的系统（10）包括分布在平行于光掩模（13）的平面的平面中的多个气体喷射器（30），使得喷射器（30）围绕中心点（13）围绕90°旋转不变，的光掩模。

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