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1. 发明申请

WO2011162566A2 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법 审中-公开
标题翻译：用于通过硅波的孔测量的装置和方法
公开(公告)号：WO2011162566A2
公开(公告)日：2011-12-29
申请号：PCT/KR2011/004616
申请日：2011-06-24
申请人： 한국표준과학연구원 , 진종한 , 김재완 , 김종안 , 강주식
发明人： 진종한 , 김재완 , 김종안 , 강주식
IPC分类号： G01B11/22 , G01B11/08 , G01B9/02 , G01N21/45
CPC分类号： G01B11/22 , G01B9/02008 , G01B11/12 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N2021/95653
摘要： 본 발명은 웨이퍼를 손상시키지 않고 비아홀의 깊이를 정확하게 측정할 수 있는 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것으로, 광 투과 특성이 우수한 실리콘 웨이퍼에 광대역 적외선 광을 조사하여 웨이퍼의 각 경계면으로부터 반사되는 빛과 기준광의 간섭 신호로부터 비아홀의 깊이를 측정할 수 있게 한 실리콘 웨이퍼의 비아홀 측정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 비아홀 측정 장치는 광대역의 적외선 광을 생성하는 광원부와 상기 광원부로부터 생성된 광을 실리콘 웨이퍼에 조사하여 상기 실리콘 웨이퍼로부터 반사된 빛의 간섭 신호의 스펙트럼 주기로부터 웨이퍼에 형성된 비아홀의 깊이를 측정하는 간섭계를 포함한다.
摘要翻译：本发明涉及用于测量硅晶片的通孔的装置和方法，其中可以精确地测量通孔的深度而不损坏晶片。宽带红外光被照射到具有优异的透光性的硅晶片，从而可以从从晶片的每个边界面反射的光和参考光的干涉信号测量通孔的深度。根据本发明的通孔测量装置包括：用于产生宽带红外光的光源单元; 以及干涉仪，用于将从光源单元产生的光发射到硅晶片，以便根据光的干涉信号的光谱周期来测量形成在晶片上的通孔的深度，该距离从硅晶片。

2. 发明申请

WO2013172561A2 절대 위치 측정 방법, 절대 위치 측정 장치, 및 스케일 审中-公开
标题翻译：绝对位置测量方法，绝对位置测量装置和尺寸
公开(公告)号：WO2013172561A2
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：PCT/KR2013/003469
申请日：2013-04-23
申请人： 한국표준과학연구원
发明人： 김종안 , 김재완 , 엄태봉 , 강주식 , 진종한
IPC分类号： G01D5/26 , G01D5/244
CPC分类号： G01D5/34707 , G01D5/2455 , G01D5/34746 , G01D5/34776 , G01D5/34792
摘要： 본 발명은 절대 위치 측정 방법, 절대 위치 측정 장치, 및 스케일을 제공한다. 이 스케일은 제1 폭을 가지고 제1 상태를 나타내는 제1 심볼(symbol), 상기 제1 폭을 가지고 제2 상태를 나타내는 제2 심볼을 이용하여 N 스테이지(stage)의 선형 피드백 천이 레지스터의 시퀀스를 가지고 반복적으로 배치된 의사 잡음 코드(Pseudo-random-code)를 대체하여 형성된 스케일 패턴을 포함한다. 제1 심볼은 2 개 이상의 제1 심볼 영역들로 분할되고, 제2 심볼은 2 개 이상으로 제2 심볼 영역들로 분할되고, 제1 심볼과 상기 제2 심볼이 중첩되어 동일한 구조를 가지는 중첩 영역이 적어도 하나는 존재한다.
摘要翻译：本发明提供绝对位置测量方法，绝对位置测量装置和刻度。缩放比例包括通过使用具有第一宽度并表示第一状态的第一符号和具有第一宽度的第二符号代替重复排列的伪随机码与N级线性反馈转换电阻序列而形成的比例模式，第二个状态第一符号被划分为两个或更多个第一符号区域，第二符号被划分为两个或更多个第二符号区域，并且由于第一符号和第二符号的重叠而存在具有相同结构的至少一个重叠区域。

3. 发明申请

WO2018174392A1 반사면 프로파일 측정 방법 및 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2018174392A1
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：PCT/KR2018/000494
申请日：2018-01-10
申请人： 한국표준과학연구원
发明人： 김종안 , 엄태봉 , 김재완 , 진종한 , 이재용
IPC分类号： G01N21/45 , G01N21/55
CPC分类号： G01N21/45 , G01N21/55
摘要： 본 발명은 반사면 프로파일 측정 장치 및 방법을 제공한다. 이 반사면 프로파일 측정 장치는, Twyman-Green 간섭계(120); 상기 Twyman-Green 간섭계의 측정 경로에 배치된 반사 광학 소자(12)를 이동시키는 스캐닝 스테이지(110); 상기 스캐닝 스테이지(110)에 장착되어 이동하는 스테이지 미러(112); 상기 스테이지 미러에서 반사되는 빔을 이용하여 상기 스캐닝 스테이지(110)의 위치와 회전 운동 오차를 측정하는 선형/각도 간섭계(linear/angular interferometer, 150); 및 신호 처리부(130)를 포함한다.

4. 发明申请

WO2017209352A1 측정 불가 구간과 방향 모호성이 없는 절대거리 측정을 위한 분광형 간섭계 시스템 审中-公开
标题翻译：用于绝对距离测量的光谱干涉仪系统，没有可测量的间隔和方向模糊
公开(公告)号：WO2017209352A1
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：PCT/KR2016/010612
申请日：2016-09-23
申请人： 한국표준과학연구원
发明人： 진종한 , 박정재 , 김종안 , 김재완
IPC分类号： G01B11/02 , G01B9/02 , G02B27/14 , H01S3/11
CPC分类号： G01B9/02 , G01B11/02 , G02B27/14 , H01S3/11
摘要： 본 발명은 절대거리 측정 장치를 제공한다. 이 절대거리 측정 장치는 모드 잠금 광빗 레이저; 상기 모드 잠금 광빗 레이저의 출력광을 제공받아 기준 경로와 측정 경로로 빔을 분할하는 제1 광 분할기; 상기 기준 경로의 기준 빔을 제공받아 제1 기준 거울와 제2 기준거울로 빔을 분할하는 제2 광 분할기; 상기 제1 광분할기로부터 상기 측정 경로의 측정 빔을 제공받아 반사시키는 측정 대상; 상기 측정 대상으로부터 반사된 빔을 상기 측정 경로를 따라 상기 제1 광 분할기를 통하여 제공받고, 상기 제1 기준 거울로부터 반사된 빔, 그리고 상기 제2 기준 거울로부터 반사된 빔을 상기 기준 경로를 따라 상기 제1 광 분할기를 통하여 제공받아 파장에 따른 스펙트럼을 측정하는 광 스펙트럼 분석기; 및 상기 광 스펙트럼 분석기의 측정 결과를 분석하여 상기 측정 대상의 절대거리를 추출하는 연산부를 포함한다.
摘要翻译：本发明提供了一种绝对距离测量装置。绝对距离测量装置包括锁模光纤激光器; 第一分光器，用于接收所述锁模光梳激光器的输出光并将所述光束分成参考路径和测量路径; 第二分光器，用于接收参考路径的参考光束并将光束分成第一参考反射镜和第二参考反射镜; 测量目标，用于接收并反射来自第一分光器的测量路径的测量光束; 从待测量物体反射的光束沿测量路径通过第一分束器，从第一参考反射镜反射的光束以及从第二参考反射镜反射的光束，一种光谱分析仪，通过第一分光器提供并根据波长测量光谱; 以及操作单元，用于分析光谱分析仪的测量结果并提取测量对象的绝对距离。

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