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1. 发明申请

WO2019050198A2 OLED 화소 증착을 위한 금속 재질의 증착용 마스크 및 이의 제조방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2019050198A2
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：PCT/KR2018/009806
申请日：2018-08-24
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 백지흠 , 김해식 , 조영득 , 이상유 , 조수현 , 손효원
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/00 , H01L21/02 , C23C14/22 , H01L21/66 , H01L27/32 , H01L21/027
摘要： 본 발명의 실시 예에 따른 OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크에 있어서, 상기 증착용 마스크는 증착 패턴을 형성하기 위한 증착 영역 및 상기 증착 영역 이외의 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 영역은 길이 방향으로 이격된 복수 개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는, 일면 상에 형성된 다수의 소면공; 상기 일면과 반대되는 타면상에 형성된 다수의 대면공; 상기 소면공과 상기 대면공을 연통하는 관통홀; 및 상기 다수의 관통홀 사이의 아일랜드부;를 포함하고, 상기 관통홀의 직경은 33um 이하이고, 상기 관통홀 중 인접한 두 개의 관통홀의 각 중심 간의 간격이 48um 이하인 500PPI 이상의 해상도를 가지며, 상기 타면에 대한 대면공의 경사각은 40도 내지 55도이고, 상기 비증착 영역의 길이 방향으로의 평균 중심선 평균 표면 거칠기 및 폭 방향으로의 평균 중심선 평균 표면 거칠기는 0.1um 내지 0.3um이고, 상기 비증착 영역의 길이 방향으로의 평균 10점 평균 표면 거칠기(Rz) 및 폭 방향으로의 평균 10점 평균 표면 거칠기는 0.5um 내지 2.0um 이고, 상기 폭 방향으로의 평균 중심선 평균 표면 거칠기에 대한 상기 길이 방향으로의 평균 중심선 평균 표면 거칠기 값의 편차는 50% 미만이고, 상기 폭 방향으로의 평균 10점 평균 표면 거칠기에 대한 상기 길이 방향으로의 평균 10점 평균 표면 거칠기 값의 편차는 50% 미만이다.

2. 发明申请

WO2018052197A1 증착 마스크용 금속판, 증착 마스크 및 이의 제조방법 审中-公开
标题翻译：蒸镀掩模用金属板，蒸镀掩模及其制造方法
公开(公告)号：WO2018052197A1
公开(公告)日：2018-03-22
申请号：PCT/KR2017/009110
申请日：2017-08-22
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 성동묵 , 윤종민 , 조수현 , 김해식 , 한태훈 , 손효원 , 이상유 , 이상범
IPC分类号： H01L51/00 , H01L21/027 , H01L21/475 , H01L21/203 , H01L51/56 , C23C14/04 , C23F1/02
摘要： 증착 마스크의 제작에 사용되는 금속판은, 베이스 금속판; 상기 베이스 금속판 상에 배치되는 표면층을 포함하고, 상기 표면층은 상기 베이스 금속판과 서로 다른 원소를 포함하거나 다른 조성비를 가지고, 상기 베이스 금속판의 식각속도는 상기표면층의 식각속도보다 큰 것을 포함한다. 실시예는 식각 팩터가 2.5이상인 증착 마스크의 제조방법을 포함한다. 실시예의 증착 마스크는, 증착 패턴 영역과 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 패턴 영역은 복수 개의 관통홀을 포함하고, 상기 증착 패턴 영역은 유효 영역과 외곽 영역, 비유효 영역으로 나누어지고, 상기 유효 영역과 상기 외곽 영역에 관통홀이 형성될 수 있다.
摘要翻译：＆lt; p num =“0000”＆gt;＆gt;＆gt; 所述表面层具有在基板的不同的组成比，或包括不同的元件，包括设置在所述底板上的表面层，所述基板的蚀刻速率包括那些比所述表面层的刻蚀速率更大。实施例包括制造具有2.5或更大的蚀刻因子的沉积掩模的方法。实施例中，沉积掩模，沉积图案区域和包括非沉积区域，并沉积图案区域包括多个通孔，沉积图案区域被划分成有效区域和外部区域，所述非有效区域中，有效并且可以在该区域和外部区域中形成通孔。

3. 发明申请

WO2016171337A1 금속 기판 및 이를 이용한 증착용마스크 审中-公开
标题翻译：金属基材和使用相同的沉积掩模
公开(公告)号：WO2016171337A1
公开(公告)日：2016-10-27
申请号：PCT/KR2015/008894
申请日：2015-08-25
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 노건호 , 조수현 , 황주현 , 김남호 , 이상범 , 임정룡 , 한태훈 , 문병율 , 박재석 , 손효원
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/00
CPC分类号： H01L51/00 , H01L51/56
摘要： 본 발명의 실시예들은 유기발광소자 등의 증착공정에 적용가능한 마스크 구조에 대한 것으로, 금속판의 상기 두께방향에 대해 직교하고, 서로 대향하는 제1면 및 제2면을 구비하며, 상기 제1면 및 제2면을 관통하며, 상호간에 연통하는 제1면공 및 제2면공을 가지는 단위홀을 다수 포함하며, 서로 이웃하는 단위홀 들간의 제1면공 또는 제2면공의 크기편차가 임의의 단위홀간 크기 편차를 기준으로 2%~10% 이내로 조절하거나, 상기 제1면공의 중심과 상기 제2면공의 중심이 상기 제1면의 표면을 기준으로 상호 불일치하는 위치에 배치되는 증착마스크를 제공할 수 있도록 한다.
摘要翻译：本发明的实施例涉及可应用于有机发光装置等的沉积工艺的掩模结构，并且允许提供沉积掩模，其包括：在厚度方向上正交的第一表面和第二表面金属板，面对面; 以及具有通过所述第一表面和所述第二表面并且彼此连通的第一表面孔和第二表面孔的多个单元孔，其中相邻单元之间的所述第一表面孔或所述第二表面孔的尺寸变化基于可选单元孔之间的尺寸变化，孔被控制在2％-10％之内，或者第一表面孔的中心和第二表面孔的中心布置在中心不与每个孔不一致的位置处另一个在第一表面的基础上。

4. 发明申请

WO2019103320A1 증착용 마스크 审中-公开
公开(公告)号：WO2019103320A1
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：PCT/KR2018/012488
申请日：2018-10-22
申请人： 엘지이노텍 주식회사
发明人： 조수현 , 손효원
IPC分类号： H01L51/56 , C23C14/04 , C23F1/02 , H01L51/00
摘要： 실시 예는, OLED 화소 증착을 위한 금속재의 증착용 마스크에 있어서, 상기 증착용 마스크는 증착을 위한 복수 개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는, 길이 방향으로 이격하여 배치되고 상기 유효부의 중앙에 배치된 복수 개의 유효 영역 및 상기 복수 개의 유효 영역을 각각 둘러싸는 외곽 영역을 포함하고, 상기 유효 영역은, 일면 상에 형성된 복수의 제 1 소면공들과, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 형성되는 복수의 제 1 대면공들과, 상기 제 1 소면공들과 상기 제 1 대면공들을 연통하는 복수의 제 1 관통 홀들과, 상기 제 1 관통 홀들 사이에 형성되는 제 1 아일랜드부;를 포함하고, 상기 외곽 영역은,일면 상에 형성된 복수의 제 2 소면공들과, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 형성되는 복수의 제 2 대면공들과, 상기 제 2 소면공들과 상기 제 2 대면공들을 연통하는 복수의 제 2 관통 홀들과, 상기 제 2 관통 홀들 사이에 형성되는 제 2 아일랜드부;를 포함하고, 상기 제 2 관통 홀들은 상기 유효 영역의 주위를 둘러싸며 배치되고, 상기 제 1 관통 홀보다 작은 크기를 가진다.

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