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    • 10. 发明申请
    • 증착용 마스크 및 이의 제조 방법
    • WO2019112253A1
    • 2019-06-13
    • PCT/KR2018/015062
    • 2018-11-30
    • 엘지이노텍 주식회사
    • 곽정민김해식백지흠
    • H01L51/56H01L51/00
    • 실시예는 OLED 화소 증착을 위한 증착용 마스크의 제조에 사용되는 철(Fe)-니켈 합금의 금속판에 대한 것으로, 상기 금속재의 표면에서부터 15nm까지의 깊이 영역에서, 철(Fe) 원자 농도의 최대값은 40at% 이하이고, 니켈(Ni) 원자 농도의 최대값은 25at% 이하이고, 산소(O) 원자 농도의 최대값은 55at% 내지 65at% 이다. 또한, 실시예는 OLED 화소 증착을 위한 철(Fe)-니켈(Ni) 합금 금속재를 포함하는 증착용 마스크에 대한 것으로, 상기 증착용 마스크는 증착을 위한 증착 영역 및 상기 증착 영역 이외의 비증착 영역을 포함하고, 상기 증착 영역은 복수 개의 유효부 및 상기 유효부 이외의 비유효부를 포함하고, 상기 유효부는 상기 금속재의 일면 상에 형성되는 복수 개의 소면공, 상기 금속재의 일면과 반대되는 타면 상에 형성되는 복수 개의 대면공, 상기 소면공 및 상기 대면공을 연통하는 복수 개의 관통홀 및 상기 금속재의 타면 상에 형성되고 상기 관통홀 사이에 위치하는 아일랜드부를 포함하고, 상기 비증착 영역, 상기 비유효부 또는 상기 아일랜드부 중 적어도 하나는 상기 금속재의 표면에서부터 15nm까지의 깊이 영역에서 철(Fe) 원자 농도의 최대값은 40at% 이하이고, 니켈(Ni) 원자 농도의 최대값은 25at% 이하이고, 산소(O) 원자 농도의 최대값은 55at% 내지 65at%이다. 또한, 실시예는 OLED 화소 증착을 위한 증착용 마스크의 제조 방법에 대한 것으로, 금속판을 준비하는 단계, 상기 금속판을 표면 처리하는 단계, 상기 금속판의 일면 상에 제 1 포토레지스트층을 배치하고, 상기 제 1 포토레지스트층을 패턴화하는 단계, 패턴화된 상기 제 1 포토레지스트층의 오픈부를 통해 상기 금속판의 일면 상에 제 1 홈을 형성하는 단계, 상기 금속판의 일면과 반대되는 타면 상에 제 2 포토레지스트층을 배치하고, 상기 제 2 포토레지스트층을 패턴화하는 단계, 패턴화된 상기 제 2 포토레지스트층의 오픈부를 통해 제 2 홈을 형성하고, 상기 제 1 홈 및 상기 제 2 홈을 연통하는 관통홀을 형성하는 단계를 포함한다.