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1. 发明申请

WO2008038649A1 光走査装置审中-公开
标题翻译：光学扫描装置
公开(公告)号：WO2008038649A1
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/JP2007/068636
申请日：2007-09-26
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 明渡純 , 朴載赫
发明人：明渡純 , 朴載赫
IPC分类号： G02B26/10 , B81B3/00 , G02B26/08
CPC分类号： G02B26/10 , G02B26/105
摘要：【課題】本発明は、ミラーサイズを確保しつつ光走査装置全体の大きさを小さくすることができる光走査装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の光走査装置は、基板と、基板に連結された捻れ梁部と、捻れ梁部により支持されるミラー部と、基板を振動させる駆動源と、ミラー部に光を投射する光源とを備え、ミラー部は駆動源によって基板に加えられる振動に応じて共振振動し、光源からミラー部に投射される光の反射光の方向がミラー部の振動に応じて変化する光走査装置において、ミラー部を支持する捻れ梁部の長さ方向におけるばね定数に分布を持たせることを特徴としている。
摘要翻译：本发明提供一种确保镜面尺寸的整体尺寸减小的光学扫描装置。解决问题的手段光学扫描装置设置有基板，连接到基板的扭转梁部分，由扭转梁部分支撑的反射镜部分，用于振荡基板的驱动源和用于投射光的光源到镜子部分。对应于通过驱动源施加到基板的振荡，镜部分谐振地振荡，并且从光源投射到镜部分的光的反射光的方向对应于镜部分的振荡而改变。支撑镜面部分的扭转梁部分的长度方向上的弹簧常数允许分布。

2. 发明申请

WO2009072603A1 パターン描画方法および装置审中-公开
标题翻译：绘图模式和装置
公开(公告)号：WO2009072603A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：PCT/JP2008/072151
申请日：2008-12-05
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 明渡純 , 遠藤聡人
发明人：明渡純 , 遠藤聡人
IPC分类号： B05D1/26 , B05C5/00 , B05C9/14 , B05C11/00 , H01B13/00 , H05K3/10
CPC分类号： H05K3/125 , H05K3/1208 , H05K2203/013 , H05K2203/107 , H05K2203/1105 , H05K2203/111
摘要：　従来のインクジェットを用いた微細配線技術では、基板の濡れ性によって、液滴が着弾後大きく広がり、微細で厚みのある配線パターンを高速に形成するのが容易でなかった。本発明では、基板上の液滴が着弾する箇所を予め加熱し、着弾直後の液滴を迅速に固化し、基板との濡れによる液滴の広がりを抑制し、同時に基板加熱によるノズルの詰まりも抑制し、基板材質に依存せず従来より体積が大きい液滴を用いても、液滴サイズに近い線幅の厚みのある微細配線の高速描画を実現した。
摘要翻译：在使用常规喷墨系统的精细布线技术中，由于基板的润湿性，液滴在着陆后广泛扩散，并且不容易高速地形成细且粗的布线图案。预先加热液滴落在基板上的区域，刚刚着陆后的液滴迅速凝固，抑制了液滴对基板的润湿性的扩散，同时由于喷嘴堵塞抑制基板的加热。因此，即使使用在常规情况下与液滴相比体积较大的液滴，也可以与衬底材料无关地进行具有接近液滴尺寸的线宽度的精细布线的高速拉伸。

3. 发明申请

WO2008041585A1 光走査装置审中-公开
标题翻译：光学设备
公开(公告)号：WO2008041585A1
公开(公告)日：2008-04-10
申请号：PCT/JP2007/068674
申请日：2007-09-26
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 明渡純 , 朴載赫 , 佐藤治道
发明人：明渡純 , 朴載赫 , 佐藤治道
IPC分类号： G02B26/10 , B81B3/00 , G02B26/08
CPC分类号： B81B3/0072 , B81B2201/042 , G02B26/0841 , G02B26/105
摘要：【課題】本発明は、上記捻れ梁部の捻れ方向のバネ定数や捻れ梁部自体の形状だけでは問題が解決されないことに鑑み、上記ミラ－部と捻り梁部が連結・支持されている基板自体のバネ定数や形状を、周囲環境温度の変化や量産時のバラツキに合わせて変化させることにより、上記ミラ－部が捻れ梁部によって支えられた振動子の捻れ振動の共振周波数ｆを一定に保つ機能と構造を有する光走査装置を提供することを第１の目的とする。【解決手段】本発明光走査装置は、基板と、基板に連結された捻れ梁部と、捻れ梁部により支持されるミラ－部と、基板を振動させる駆動源と、ミラ－部に光を投射する光源とを備え、ミラ－部は駆動源によって基板に加えられる振動に応じて共振振動し、光源からミラ－部に投射される光の反射光の方向がミラ－部の振動に応じて変化する光走査装置において、基板と捻れ梁部との連結部から離れた基板の一部に駆動源を設けるとともに、基板自体の形状を制御する基板形状制御手段を基板に設けることを特徴としている。
摘要翻译： [待解决的问题]考虑到仅通过扭转梁构件的扭转方向上的弹簧常数和梁构件本身的形状不能解决的问题，弹簧常数和基板本身的形状其中反射镜单元和扭转梁构件被连接和支撑，根据大规模生产时的环境温度变化和分散而改变，并且主要目的是提供具有这种功能的光学扫描装置和其结构是将振动元件的扭转振动的共振频率（f）保持恒定，该振动元件的反射镜单元由扭转梁支撑。解决问题的手段在设置有基板的光学扫描装置中，与基板连接的加捻梁构件，由扭转梁支撑的反射镜单元，振动板的驱动源和用于突出的光源光反射镜单元，其中反射镜单元通过驱动源与施加到基板的振动谐振，并且从光源投射到反射镜单元的反射光方向根据反射镜单元的振动而改变光学扫描装置的特征在于，在基板的与基板和扭转梁的连接部分分开的一部分处设置驱动源，以及设置在基板处的基板形状控制装置，用于控制基板的形状底板本身。

4. 发明申请

WO2005093864A1 熱電変換素子及び熱電変換モジュール审中-公开
标题翻译：热电转换元件和热电转换模块
公开(公告)号：WO2005093864A1
公开(公告)日：2005-10-06
申请号：PCT/JP2005/005133
申请日：2005-03-22
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 三原敏行 , 舟橋良次 , 明渡純 , 馬場創 , 三上祐史
发明人：三原敏行 , 舟橋良次 , 明渡純 , 馬場創 , 三上祐史
IPC分类号： H01L35/22
CPC分类号： C04B35/01 , C03C17/23 , C03C2217/23 , C04B35/453 , C04B35/62218 , C04B2235/3201 , C04B2235/3203 , C04B2235/3208 , C04B2235/3213 , C04B2235/3215 , C04B2235/3217 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3227 , C04B2235/3229 , C04B2235/3232 , C04B2235/3239 , C04B2235/3241 , C04B2235/3251 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3262 , C04B2235/3272 , C04B2235/3275 , C04B2235/3277 , C04B2235/3279 , C04B2235/3281 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3291 , C04B2235/3296 , C04B2235/3298 , C04B2235/443 , C04B2235/6586 , C04B2235/762 , C04B2235/765 , C04B2235/768 , C04B2235/96 , C04B2235/9607 , C23C14/08 , C23C14/3414 , H01L35/22 , H01L35/32
摘要：　本発明は、電気絶縁性基板上に形成されたｐ型熱電変換材料の薄膜とｎ型熱電変換材料の薄膜を電気的に接続してなる熱電変換素子であって、ｐ型熱電変換材料及びｎ型熱電変換材料が、それぞれ、正のゼーベック係数を有する特定の複合酸化物と、負のゼーベック係数を有する特定の複合酸化物から選ばれたものであることを特徴とする熱電変換素子、並びに該熱電変換素子を用いた熱電変換モジュール及び熱電変換方法を提供するものである。本発明の熱電変換素子は、電気絶縁性基板上に、ｐ型熱電変換材料とｎ型熱電変換材料が、薄膜状に形成されたものであり、各種の任意の形状の基板上に熱電変換素子を形成できることから、多様な形状の熱電変換素子とすることができる。
摘要翻译：一种热电转换元件，包括p型热电转换材料薄膜和n型热电转换材料薄膜，其形成在电绝缘基板上并电连接，其特征在于，所述p型热电转换材料和 n型热电转换材料分别由具有正塞贝克系数的特定复合氧化物和具有负塞贝克系数的特定复合氧化物选择。还提供了采用热电转换元件的热电转换模块和热电转换方法。在热电转换元件中，p型热电转换材料和n型热电转换材料以薄膜形式形成在电绝缘基板上; 由于热电转换元件可以形成在任意形状的基板上，所以可以形成各种形状。

5. 发明申请

WO2004086430A1 永久磁石膜审中-公开
标题翻译：永磁电影
公开(公告)号：WO2004086430A1
公开(公告)日：2004-10-07
申请号：PCT/JP2004/004229
申请日：2004-03-25
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 杉本諭 , 猪俣浩一郎 , 明渡純
发明人：杉本諭 , 猪俣浩一郎 , 明渡純
IPC分类号： H01F41/16
CPC分类号： H01F41/16 , C23C24/04 , H01F1/0596 , H01F10/126 , H01F10/20
摘要：　この発明の永久磁石膜の製造方法は、永久磁石能を有する永久磁石膜の製造方法において、永久磁石材料粉末をエアロゾル化して被成膜物に噴射することにより永久磁石膜を形成することを特徴とする。　また、この発明の永久磁石膜の製造方法は、永久磁石材料粉末を、金属磁性体粉末若しくはフェライト化合物粉末、又は金属磁性体粉末及びフェライト化合物粉末の混合体、金属磁性体粉末及び高分子材料粉末の混合体、フェライト化合物粉末及び高分子材料粉末の混合体、金属磁性体粉末、フェライト化合物粉末及び高分子材料粉末の混合体から構成することを特徴とする。　このため、効率的かつ低コストで得られ、将来薄型化に望まれる膜厚でかつ高い磁気特性を有する永久磁石膜およびその製造方法を提供するができる。
摘要翻译：一种具有作为永久磁铁的性能的永磁体膜的制造方法，其特征在于，包括将永久磁铁材料的粉末转变为气溶胶的形式，并将该气溶胶喷射到制品上，由于具有永磁体膜从而形成永磁体膜; 和上述方法，其特征在于，永久磁铁材料的粉末包括磁体金属粉末，铁氧体化合物粉末，磁体金属粉末和铁氧体化合物粉末的混合物，磁体金属粉末和聚合物材料的混合物粉末，铁氧体化合物粉末和聚合物材料粉末的混合物，或磁体金属粉末，铁氧体化合物粉末和聚合物材料粉末的混合物; 和通过该方法制造的永磁体膜。该方法允许在不久的将来生产具有预期为薄磁膜的厚度的永磁体膜，并以低成本高效率地显示高磁特性。

6. 发明申请

WO2004054704A1 微粒子のハンドリング方法及び装置审中-公开
标题翻译：颗粒处理方法和装置
公开(公告)号：WO2004054704A1
公开(公告)日：2004-07-01
申请号：PCT/JP2003/014983
申请日：2003-11-25
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 明渡純 , レベデフマキシム , 佐藤治道
发明人：明渡純 , レベデフマキシム , 佐藤治道
IPC分类号： B01J19/10
CPC分类号： B01L3/5085 , B01J2219/00932 , B01L3/502761 , B01L3/502792 , B01L2200/0647 , B01L2200/0668 , B01L2300/089 , B01L2400/0439 , B01L2400/0496
摘要：　Ｓｉ基板１をプラズマエッチングあるいは化学エッチングなどで加工して、薄いＳｉ基板の領域２を設け、この領域２の底面に超音波を発生するための超音波発生源３を設ける。この超音波発生源３は、上部電極４、下部電極５の設けられたＰＺＴなどの圧電素子７を上記基板１裏面の所定の位置に張り付ける。　圧電素子７の厚みの下限は、微粒子をハンドリングするのに必要な超音波の発生パワーからして１μｍ以上、また小型デバイスとして実用に供する観点から駆動電圧を低減するために５０μｍ以下に設定することが望ましい。また、Ｓｉなどできた基板１の厚みは、ＰＺＴ圧電素子７の厚みと同様に、局所的あるは効率的な超音波の印加を考慮し、５００μｍ以下であることが望ましい。　超音波発生源３の配置された基板１底面から基板１表面に向けて１ｋＨｚ以上の周波数で超音波を発生させると、基板１表面の溶液に分散していた微粒子８は、圧電素子が配置され音波振動の腹の部分となる超音波源の中心部に集まり凝集、濃縮される。
摘要翻译：通过等离子体蚀刻或化学蚀刻使Si衬底（1）变薄。提供这种薄Si衬底的区域（2），并且在区域（2）的底部设置用于产生超声波的超声波发生器（3）。超声波发生器（3）包括具有上电极（4）和下电极（5）的PZT的压电元件（7）。压电元件（7）附接到基板（1）背面的预定位置。从压电元件（7）的厚度的下限看，考虑到所产生的超声波的功率为50微米以下，为了降低驱动电压，考虑到其压电元件实际用作小装置。此外，考虑到如PZT压电元件（7）的厚度的局部或有效地施加超声波，希望由Si制成的基板（1）的厚度为500μm以下。从超声波发生器（3）的朝向基板（1）的上表面设置的基板（1）的底部射出频率为1kHz以上的超声波时，分散在基板基板（1）上的溶液聚集在压电元件放置的中心部分，其是声音振动的波腹，并且颗粒被聚集和冷凝。

7. 发明申请

WO2008044470A1 光走査装置审中-公开
标题翻译：光学扫描装置
公开(公告)号：WO2008044470A1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/JP2007/068699
申请日：2007-09-26
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 明渡純 , 佐藤治道 , 朴載赫
发明人：明渡純 , 佐藤治道 , 朴載赫
IPC分类号： G02B26/10 , B81B3/00 , G02B26/08
CPC分类号： G02B26/105 , G02B26/0833
摘要：【課題】本発明は、ミラー部を支持する捻れ梁部を有する基板にエアロゾルデポジション法（以下、「ＡＤ法」と略す場合がある。）、スパッタリング法あるいはゾル－ゲル法等の薄膜形成技術を用いて圧電膜アクチュエータを形成し、基板の振動を利用してミラー部に捻れ振動を生じさせることにより、簡単な構造で効率的にミラー部に捻れ振動を発生することができる光走査装置を提供することを目的とするものである。【解決手段】本発明の光走査装置は、基板本体と、基板本体の一側の両側部から突出した２つの片持ち梁部と、これら片持ち梁部間に捻れ梁部により両側を支持されるミラー部と、基板本体を振動させる駆動源と、ミラー部に光を投射する光源とを備え、ミラー部は駆動源によって基板に加えられる振動に応じて共振振動し光源からミラー部に投射される光の反射光の方向がミラー部の振動に応じて変化する光走査装置において、基板本体のミラー部側と反対側の固定端部を支持部材に固定するとともに、基板本体の一部に駆動源を設けることを特徴としている。
摘要翻译：旨在提供一种光学扫描装置，其能够通过在具有用于支撑镜面部分的扭转梁部分的基板上形成压电膜致动器，使用薄膜来形成在具有简单结构的反射镜部分中有效地产生扭转振动使用气溶胶沉积法（可以简称为“AD法”），溅射法或溶胶 - 凝胶法等成型技术，并且通过使用基板的振动产生镜部分的扭转振动。光学扫描装置包括基板主体，从基板主体的一侧的两个侧部突出的两个悬臂梁部分，通过扭转梁部分支撑在这些悬臂梁部分之间的两侧的反射镜部分，用于振动的驱动源基板主体和用于将光投射到镜部的光源。该反射镜部分与通过驱动源施加到基板的振动共振地振动，使得从光源投射到反射镜部分的光的反射光的方向根据反射镜部分的振动而改变。光学扫描装置的特征在于，与镜部侧相对的一侧的基板主体的固定端部固定在支撑部件上，驱动源设置在基板主体的一部分。

8. 发明申请

WO2008041500A1 光学材料、およびその製造方法审中-公开
标题翻译：光学材料及其制造方法
公开(公告)号：WO2008041500A1
公开(公告)日：2008-04-10
申请号：PCT/JP2007/068339
申请日：2007-09-21
申请人：日本電気株式会社 , 朴載赫 , 明渡純 , 中田正文
发明人：朴載赫 , 明渡純 , 中田正文
IPC分类号： G02F1/01
CPC分类号： G02F1/03 , B82Y20/00 , G02B6/1226 , G02F2203/10
摘要：　本発明は、光学素子、特には、導波路型の光学素子に好適に利用される、優れた透明性を示すマトリクス材料中に、所望の金属微粒子を均一に分散させた薄膜光学材料と、その製造方法を提供する。本発明は、光透過性材料で構成されるマトリクスと、該マトリクス中に分散された金属微粒子を具えてなる成形体型光学材料からなる薄膜光学材料とし、該金属微粒子に起因するプラズモン共鳴を利用することで、新たな光学特性を付与する。その際、薄膜形成に常温衝撃固化現象を利用した成膜法を採用して、平均半径ｄ０ ≦５００ｎｍの範囲の粒径を有する光透過性材料の微粒子が一体に成形されたマトリクスを作製し、プラズモン共鳴のピーク波長において、マトリクス自体の消衰係数ｋをｋ＜０．０１の範囲に抑制する。
摘要翻译：提供一种薄膜光学材料，其中期望的金属微粒均匀地分散在表示优异透明度的基质材料中，并且适用于光学元件，特别是波导型光学元件，以及制造薄膜的方法光学材料。该光学材料由含有由光学透明材料构成的基体和分散在基体中的金属微粒构成的模制型光学材料制成，并且通过利用由金属微粒引起的等离子体共振来赋予新的光学特性。为了形成薄膜，采用利用冷冲击硬化现象的成膜方法来制备基质，其中光学透明材料的细颗粒的平均半径d <0 < / SUB> = 500nm，并且在等离子体共振的峰值波长下，矩阵本身的衰减系数k被抑制在k <0.01的范围内。

9. 发明申请

WO2005031036A1 セラミックス膜構造体とその形成方法及び装置审中-公开
标题翻译：陶瓷膜结构及其形成方法及其设备
公开(公告)号：WO2005031036A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/JP2004/011332
申请日：2004-08-06
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 馬場創 , 明渡純
发明人：馬場創 , 明渡純
IPC分类号： C23C24/04
CPC分类号： C23C24/04 , B23K26/0066 , B23K2201/34 , B23K2203/05
摘要： A fine crystal ceramic film formed by an aerosol deposition method or the like is heat treated by laser irradiation using the optical characteristics of infrared rays, with respect to a ceramic material, of being easily absorbed by ceramics itself but reflected off metal, thereby providing a ceramic film structure in which a fine crystal ceramic film is not stripped off a substrate and which permits grain growth and defect recovery; and a forming method and device therefore. The forming method for the ceramic film structure is characterized by applying infrared laser to fine crystal ceramic film that has been formed in advance on a metal substrate.
摘要翻译：通过使用相对于陶瓷材料的红外线的光学特性的激光照射，通过气溶胶沉积法形成的微细的晶体陶瓷膜，被陶瓷本身容易地吸收而被金属反射，从而提供陶瓷膜结构，其中细晶陶瓷膜不从衬底剥离并允许晶粒生长和缺陷恢复; 以及成形方法和装置。陶瓷膜结构的形成方法的特征在于将红外激光应用于预先在金属基板上形成的细晶体陶瓷膜。

10. 发明申请

WO2004105931A1 13族窒化物の結晶構造変化方法、13族窒化物および立方晶窒化物を含む構成物审中-公开
标题翻译：第13组元素氮化物晶体结构的方法，第13组元素氮和结构材料含有硝酸盐
公开(公告)号：WO2004105931A1
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/JP2004/003739
申请日：2004-03-19
申请人：独立行政法人産業技術総合研究所 , 岩田篤 , 明渡純
发明人：岩田篤 , 明渡純
IPC分类号： B01J3/00
CPC分类号： C04B35/581 , B01J3/08 , C04B2235/762 , C04B2235/767 , C23C24/04 , C30B29/40 , C30B29/403 , C30B33/00
摘要：搬送ガスＨｅと六方晶窒化アルミニウムの粉末をエアロゾル化室２でエアロゾル状態とし、搬送管３を介して成膜室４へ送り込み、成膜室４はエアロゾルが供給された状態で２００～８０００〔Ｐａ〕の真空度に保たれるように真空ポンプ５で減圧しておき、成膜室４における搬送管３の端部に設けたノズル６から基板ホルダー７に固定した基板へ、粒子衝突時の衝撃力が４〔ＧＰａ〕以上となるようにエアロゾルを吹き付けることにより、窒化アルミニウムの結晶構造が六方晶から立方晶に変化し、基板上に立方晶窒化アルミニウムを堆積させることができる。これにより、静的圧力印加法による１３族窒化物の結晶構造変化方法よりも簡易な装置構成で、１３族窒化物の結晶構造を変化させることが可能な１３族窒化物の結晶構造変化方法を提供できる。
摘要翻译：载气He和六方氮化铝的粉末在气溶胶形成室（2）中形成为气溶胶。气雾剂通过输送管（3）进料到成膜室（4）中。预先通过真空泵（5）将成膜室（4）抽真空，使得在气溶胶进料的状态下，能够维持200-800Pa的真空度。从设置在成膜室（4）的输送管（3）的端部的喷嘴（6），将气溶胶吹向固定在基板保持架（7）上的基板，使得颗粒碰撞时的冲击力为4 GPa或更多。结果，氮化铝的晶体结构从六边形变为立方体，从而实现立方氮化铝在基板上的积聚。因此，提供了改变第13族元素氮化物的晶体结构的方法，其中可以通过比已知的改变第13族元素氮化物的晶体结构的方法更简单的装置结构来改变第13族元素氮化物的晶体结构，到静压施加技术。

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