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1. 发明申请

WO2007029829A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置生产方法
公开(公告)号：WO2007029829A1
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：PCT/JP2006/317902
申请日：2006-09-08
申请人：株式会社ニコン , 木内徹 , 水谷剛之 , 根井正洋 , 濱谷正人 , 奥村正彦
发明人：木内徹 , 水谷剛之 , 根井正洋 , 濱谷正人 , 奥村正彦
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
摘要：　露光装置（ＥＸ）は、液浸システム（１）と、第１移動体（４）と、所定部材（３０）とを備える。露光装置（ＥＸ）は、光学部材（ＦＬ）と液体（ＬＱ）とを介して基板（Ｐ）を露光する。液浸システム（１）は、前記液体（ＬＱ）の供給及び回収を行う。第１移動体（４）は、第１領域（１０）で移動し、前記光学部材（ＦＬ）との間に前記液体（ＬＱ）が保持され得る。所定部材（３０）は、前記光学部材（ＦＬ）の対向位置から前記第１移動体（４）が離れたときに前記第１移動体（４）から取り外され、前記光学部材（ＦＬ）との間に前記液体（ＬＱ）が保持され得る。
摘要翻译：曝光装置（EX）具有浸液系统（1），第一移动体（4）和预定构件（30）。曝光装置（EX）经由光学构件（FL）和液体（LQ）暴露基板（P）。液浸系统（1）供应和回收液体（LQ）。第一移动体（4）在第一区域（10）中移动，并且液体（LQ）可以保持在第一移动体（4）和光学构件（FL）之间。当移动体从面向光学构件（FL）的位置分离时，预定构件（30）从第一移动体（4）分离，液体（LQ）能够保持在预定构件（30）和光学构件（FL）。

2. 发明申请

WO2008026593A1 露光装置、デバイス製造方法、クリーニング方法及びクリーニング用部材审中-公开
标题翻译：曝光装置，装置生产方法，清洁方法和清洁构件
公开(公告)号：WO2008026593A1
公开(公告)日：2008-03-06
申请号：PCT/JP2007/066673
申请日：2007-08-28
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 藤原朋春 , 濱谷正人 , 依田安史
发明人：長坂博之 , 藤原朋春 , 濱谷正人 , 依田安史
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70866
摘要：　露光装置は、露光光の光路を第１液体で満たすように第１液体で液浸部を形成可能な第１部材と、第１部材から離れた位置で第２液体で液浸部を形成可能な第２部材と、所定部材と第２部材との間の第２液体に振動を与える振動発生装置とを備え、第２液体を用いて所定部材をクリーニングする。
摘要翻译：一种曝光装置，具有能够通过第一液体形成液浸部的第一部件，使得曝光用光的路径被第一液体填充，第二部件能够在第二液体的位置形成液浸部以及用于在预定构件和第二构件之间向第二液体施加振动的振荡产生装置。使用第二液体清洁预定构件。

3. 发明申请

WO2004050266A1 汚染物質除去方法及び装置、並びに露光方法及び装置审中-公开
标题翻译：污染物去除方法和装置，以及曝光方法和装置
公开(公告)号：WO2004050266A1
公开(公告)日：2004-06-17
申请号：PCT/JP2003/014991
申请日：2003-11-25
申请人：株式会社ニコン , 渡辺俊二 , 濱谷正人 , 北本達也
发明人：渡辺俊二 , 濱谷正人 , 北本達也
IPC分类号： B08B3/08
CPC分类号： G03F7/70941 , G02B27/0006 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70975
摘要：　光学系内の所定の光学部材に付着した汚染物質を迅速に除去できる汚染物質除去方法である。投影光学系（ＰＬ）の上端のレンズ（３２Ａ）の表面に付着した汚染物質を除去するために、レチクルステージ（２２）及びレチクルベース（２３）の開口を通して筒状の保護部材（５３）を配置し、保護部材（５３）の内面を通してロッド部（５８）の先端の支持部（５６）の底面をレンズ（３２Ａ）の表面に接触させる。支持部（５６）の底面にフッ化水素酸を含む洗浄液を染み込ませた拭き布を取り付けておき、ロッド部（５８）を介して支持部（５６）を往復運動させて、その拭き布でレンズ（３２Ａ）の表面の汚染物質を除去する。
摘要翻译：一种用于快速去除附着在光学系统中的预定光学部件上的污染物的方法。为了去除附着在投影光学系统（PL）的顶部的透镜（32A）上的污染物，在标线片平台（22）和标线片基座（23）中通过开口设置圆柱形保护构件（53）。在杆部（58）的端部处的支撑体（56）的底部沿着保护构件（53）的内表面与透镜（32A）接触。浸渍有含有氢氟酸的清洁液的擦拭布附着在支撑体（56）的底部。支撑件（56）通过杆部（58）往复运动，以用擦拭布去除透镜（32A）上的污染物。

4. 发明申请

WO2006106833A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2006106833A1
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：PCT/JP2006/306677
申请日：2006-03-30
申请人：株式会社ニコン , 中野勝志 , 濱谷正人
发明人：中野勝志 , 濱谷正人
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341
摘要：　露光装置（ＥＸ）は、基板（Ｐ）を保持して移動可能な基板ステージ（ＳＴ１）と、投影光学系（ＰＬ）の像面に最も近い最終光学素子（ＬＳ１）と対向して基板ステージ（ＳＴ１）が配置されるときに最終光学素子（ＬＳ１）と基板ステージ（ＳＴ１）との間の光路空間（Ｋ１）を液体（ＬＱ）で満たす第１液浸機構（１）と、基板ステージ（ＳＴ１）に代えて投影光学系の最終光学素子（ＬＳ１）と対向して配置されるときに最終光学素子（ＬＳ１）との間の光路空間（Ｋ１）が液体（ＬＱ）で満たされる計測ステージ（ＳＴ２）と、計測ステージ（ＳＴ２）上に配置された上板（６５）を有し、液体（ＬＱ）を挟んで投影光学系の最終光学素子（ＬＳ１）と対向して上板（６５）が配置されるときに所定の計測を行う計測装置（６０）と、少なくとも計測ステージ（ＳＴ２）が投影光学系の最終光学素子（ＬＳ１）から離れたときに、上板（６５）に液浸領域（ＬＲ２）を形成する第２液浸機構（２）と、を備えている。
摘要翻译：曝光装置（EX）具有在保持基板（P）的同时可移动的基板台（ST1）。第一浸液机构（1），当基板台（ST1）被配置为面对最靠近投影光学系统（PL）的图像表面的最终光学元件（LS1）时，填充光路空间（LS1）和具有液体（LQ）的基板载物台（ST1）之间的距离; 测量台（ST2），当放置代替基板台（ST1）以面对投影光学系统（PL）的最终光学元件（LS1）时，其间的光路空间（K1）测量级（ST2）和最终光学元件（LS1）填充液体（LQ）; 测量装置（60），其具有放置在测量台（ST2）上的上板（65），并且当上板（65）以与投影光学部件的最终光学元件（LS1）相对的方式放置时执行预定的测量系统（PL）与液体（LQ）之间; 以及当至少所述测量台（ST2）与所述投影光学系统的最终光学元件（LS1）分离时，在所述上板（65）上形成液浸区域（LR2）的第二液浸机构（2） PL）。

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