专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2007000984A1 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007000984A1
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：PCT/JP2006/312763
申请日：2006-06-27
申请人：株式会社ニコン , 上原祐作 , 内川清 , 石山聡
发明人：上原祐作 , 内川清 , 石山聡
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70258
摘要：　照射装置（９１）による可動の光学素子（９０）に対する非露光光の照射による光学系（ＰＬＬ）の光学特性の調整と、光学特性調整装置による光学素子（９０）を動かすことによる光学系（ＰＬＬ）の光学特性を調整との組み合わせにより、例えば光軸から偏心した位置を中心とする光学素子の温度分布に起因する光学系の光学特性の変動を補正する。また、ダイポール照明条件下などでは、瞳（ＰＰ１，ＰＰ２，ＰＰ３）近傍の光学素子の非回転対称な温度分布に起因する光学系の光学特性を、光学特性調整装置により補正が容易な光学特性にするため、照射装置（９１Ａ）により光学素子（１１１）に対して非露光光を照射することでその光学素子（１１１）を回転対称な温度分布にする。これにより、照明光吸収に起因する光学系の光学特性の変動を効果的に補正することができる。
摘要翻译：通过利用照射装置（91）通过用非曝光光照射可移动光学元件（90）来调整光学系统（PLL）的光学特性，并通过移动光学元件（PLL）来调整光学系统（PLL）的光学特性（90）通过光学特性调整装置，可以校正光学系统的光学特性的波动，归因于光学元件围绕偏离光轴的位置的温度分布。此外，在偶极照明条件下，为了促进光学特性调整装置的校正，归因于光学元件在瞳孔附近（PP1，PP2，PP2）的非旋转对称性的温度分布的光学系统的光学特性， PP3），照射装置（91A）照射光学元件（111）的非曝光光，使得光学元件（111）具有旋转对称性的温度分布。因此，可以有效地校正归因于照明光吸收的光学系统的光学特性的波动。

2. 发明申请

WO2005078774A1 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法和系统，以及装置生产方法
公开(公告)号：WO2005078774A1
公开(公告)日：2005-08-25
申请号：PCT/JP2005/002011
申请日：2005-02-10
申请人：株式会社ニコン , 内川清
发明人：内川清
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70883
摘要：　マスク及び投影光学系のうちの少なくとも一部の光学部材を通過する露光ビームの光量分布が非回転対称になるような場合に、結像特性のうちの非回転対称な成分を効率的に制御する露光方法及び装置である。露光光（ＩＬ）でレチクル（１１）を照明し、レチクル（１１）のパターンを投影光学系（１４）を介してウエハ（１８）上に投影する投影露光装置において、投影光学系（１４）内のレンズ（３２）に対して、露光光（ＩＬ）と異なりレンズ（３２）に吸収され易い波長域の補正光（ＬＢＡ，ＬＢＢ）を、１／４波長板（５１Ａ，５１Ｂ）及び導波管（４４Ａ，４４Ｂ）を介して局所的に照射することによって、非回転対称な収差を制御する。
摘要翻译：当通过掩模和投影光学系统中的至少一些光学构件的曝光光束的光量分布是非旋转对称的时，用于在成像特性中有效地控制非旋转对称分量的曝光方法和系统。一种投射曝光系统，用于通过曝光光（IL）点亮掩模版（11），并通过投影光学系统将掩模版（11）的图案投影到晶片（18）上，其中，透镜通过1/4波长板（51A，51B）在透镜（32）容易吸收的波长区域中，与曝光用光（IL）不同，利用校正光（LBA，LBB）局部照射投影光学系统（14）和波导（44A，44B），从而控制非旋转对称像差。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式