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    • 4. 发明申请
    • フォトクロミック性を有する積層体の製造方法
    • 生产光致成像产品的方法
    • WO2003099550A1
    • 2003-12-04
    • PCT/JP2003/006525
    • 2003-05-26
    • 株式会社トクヤマ森 力宏名郷 洋信百田 潤二和泉 忍
    • 森 力宏名郷 洋信百田 潤二和泉 忍
    • B32B7/02
    • G02B1/041Y10T428/24322
    • A process for producing a photochromic layered product, characterized by preparing a base having a curved surface, applying a photopolymerizable/curable composition containing a photochromic compound and a phosphorus compound photopolymerization initiator to the curved surface of the base, and curing the photopolymerizable/curable composition by irradiation with actinic energy rays having a distribution in which the relative intensity of components ranging in wavelength from 200 nm to 300 nm, excluding 300 nm, accounts for 0 to 5%, the relative intensity of components ranging in wavelength from 300 nm to 400 nm, excluding 400 nm, accounts for 25 to 75%, and the relative intensity of components ranging in wavelength from 400 nm to 500 nm accounts for 25 to 75%, while keeping the base at 100°C or lower. Thus, a homogeneous coating film having an even small thickness and containing a photochromic compound in a high concentration can be formed.
    • 一种光致变色层叠体的制造方法,其特征在于,准备具有曲面的基材,将含有光致变色化合物和磷化合物光聚合引发剂的光聚合性固化性组合物涂布在基材的弯曲面上,使该光聚合性固化性组合物 通过用具有波长为200nm至300nm(不包括300nm)的分量的相对强度的分布的光化能量射线照射为0〜5%,波长为300nm〜400nm的成分的相对强度为0〜 除了400nm以外,nm为25〜75%,波长为400nm〜500nm的成分的相对强度为25〜75%,同时保持在100℃以下。 因此,可以形成厚度均匀的含有高浓度的光致变色化合物的均匀的涂膜。
    • 5. 发明申请
    • 積層体及びその製造方法
    • 层压板及其制造方法
    • WO2005075193A1
    • 2005-08-18
    • PCT/JP2005/001873
    • 2005-02-02
    • 株式会社トクヤマ百田 潤二和泉 忍高橋 直人
    • 百田 潤二和泉 忍高橋 直人
    • B32B27/18
    • B32B27/08Y10T428/31504
    • 本発明のフォトクロミック積層体は、少なくとも一方の表面にフォトクロミック化合物が分散した樹脂で構成されたフォトクロミック表層部を有する光学基板と、該光学基板のフォトクロミック表層部上に形成された厚さが0.1~100μmの紫外線吸収膜とからなり、該紫外線吸収膜は、360nmの光線透過率が50%以上であり且つ320nmの光線透過率が10%以下であることを特徴とする。この積層体においては、発色濃度の低下を生じることなく、フォトクロミック化合物の酸化劣化が有効に防止されており、フォトクロミック耐久性が極めて高い。
    • 一种光致变色层压体,包括光学基底,所述光学基底在其至少一个主表面上具有由其中分散有光致变色化合物的树脂组成的光致变色表面层部分和叠层0.1至100μm的紫外线吸收膜 在光学基板的光致变色表面层部分上,其特征在于,紫外线吸收膜显示出> = 50%的360nm透光率和<= 10%的320nm透光率。 该层压体没有显着的色密度,可以有效地防止光致变色化合物的氧化劣化,从而实现显着增强的光致变色耐久性。
    • 6. 发明申请
    • 硬化性組成物
    • 可固化组合物
    • WO2005014717A1
    • 2005-02-17
    • PCT/JP2004/011802
    • 2004-08-11
    • 株式会社トクヤマ名郷 洋信百田 潤二森 力宏
    • 名郷 洋信百田 潤二森 力宏
    • C08L33/00
    • C09D175/16C08F283/12C08G59/3209C08K5/0041C08K5/1545C08L33/14C08L83/04C08F220/32C08L83/00
    • (1)γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの如きシラノール基又は加水分解することによりシラノール基を生成する官能基を有しそしてラジカル重合性基を有しないケイ素化合物0.1~20重量部、(2)ラジカル重合性単量体100重量部及び(3)フォトクロミック化合物0.01~20重量部を含有してなり、そして前記ラジカル重合性単量体中にグリシジルメタアクリレートの如き分子中にエポキシ基を有するラジカル重合性単量体を含む硬化性組成対。この硬化性組成物は、発色濃度が高く、退色速度が速いといった優れたフォトクロミック特性を示し、フォトクロミック化合物の溶出がなく、しかも簡単な前処理で高い基材密着性を発現し、さらにハードコート性にも優れた特性を有するフォトクロミックコート層を形成できる。
    • 一种可固化组合物,其包含(1)0.1至20重量份 的硅化合物,其具有硅烷醇基或在水解时产生硅烷醇基并且不具有自由基聚合性基团的官能团,例如γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷,(2)100重量份 的一种或多种可自由基聚合的单体,和(3)0.01至20重量份 的光致变色化合物,其中可自由基聚合的单体包括分子中具有环氧基的可自由基聚合的单体,如甲基丙烯酸缩水甘油酯。 该可固化组合物可以形成具有这样优异的光致变色的光致变色层,以使其具有高密度和高褪色速率的颜色。 光致变色层不释放光致变色化合物,并且通过简单的预处理具有高的底物粘附性。 该组合物非常适用于硬涂层。
    • 10. 发明申请
    • レジスト及びレジストパターン形成方法
    • 电阻形成的电阻和方法
    • WO2004022513A1
    • 2004-03-18
    • PCT/JP2003/011284
    • 2003-09-04
    • 日本電気株式会社株式会社トクヤマ落合 幸徳石田 真彦藤田 淳一小倉 卓百田 潤二大島 栄治
    • 落合 幸徳石田 真彦藤田 淳一小倉 卓百田 潤二大島 栄治
    • C07C43/225
    • G03F7/038Y10S430/108Y10S430/143Y10S430/167
    •  本発明によるレジストは、テトラクロロメチルテトラメトキシカリックス[4]アレーンもしくはトリクロロメチルテトラメトキシカリックス[4]アレーンのうちのいずれか一方を含んでいる。こうした成分を含むレジストは、作業環境性のよい溶媒すなわち乳酸エチル(EL)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピオン酸エチル、酢酸−nブチル、2−ヘプタノンなどに可溶で、現像はこれらの溶媒に加えてテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドでも可能である。このレジストを電子線で露光する事により8nmの超高解像度が得られ、このレジストをマスクとして、各種の材料を微細加工することができる。こうしたレジストによれば、解像度が高く、作業環境性のよい溶媒に可溶で、作業環境性のよい溶媒により現像できる感光性レジスト材料、それを用いた露光方法ならびに微細加工方法が提供される。
    • 包含四氯甲基四甲氧基钙[4]芳烃或三氯甲基四甲氧基钙[4]芳烃的抗蚀剂。 含有这种组分的抗蚀剂可溶于从工作环境的观点出发,如乳酸乙酯(EL),丙二醇单甲醚(PGME),丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA),丙酸乙酯, 乙酸丁酯和2-庚酮,并且不仅可以进行这些溶剂而且可以进行四甲基氢氧化铵的显影。 可以通过将抗蚀剂暴露于电子束来获得8nm的超高分辨率,并且可以使用抗蚀剂作为掩模将各种材料进行微制造。 该抗蚀剂能够从工作环境的观点出发,提供高分辨率的光敏抗蚀剂材料,其可溶于有利的溶剂中,因此可以从工作环境的观点出发,优选使用有利的溶剂, 以及使用其的微观加工方法或微细加工方法。