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1. 发明申请

WO2008081836A1 発光素子封止用樹脂組成物およびランプ审中-公开
标题翻译：用于密封发光装置和灯的树脂组合物
公开(公告)号：WO2008081836A1
公开(公告)日：2008-07-10
申请号：PCT/JP2007/075014
申请日：2007-12-26
申请人：昭和電工株式会社 , 武居共之 , 内田博
发明人：武居共之 , 内田博
IPC分类号： C08G65/18 , C08K3/22 , C08L83/04 , H01L23/29 , H01L23/31 , H01L33/00
CPC分类号： C08L83/06 , C08G65/18 , C08G65/22 , C08K3/22 , H01L23/293 , H01L33/56 , H01L2224/48091 , H01L2224/73265 , H01L2924/00014
摘要：　本発明の発光素子封止用樹脂組成物は、二つ以上のオキセタニル基を含有するシルセスキオキサン樹脂と、カチオン重合開始剤と、金属酸化物微粒子とを含有する発光素子封止用樹脂組成物である。また、本発明のランプは、封止部を備えたパッケージと、前記封止部の底部に露出された電極と、前記底部に配置され、前記電極と電気的に接続された発光素子とを備え、前記封止部内に充填された前記発光素子封止用樹脂組成物によって前記発光素子が封止されるランプである。
摘要翻译：公开了一种用于密封包含含有两个或更多个氧杂环丁烷基的倍半硅氧烷树脂，阳离子聚合引发剂和金属氧化物细颗粒的发光装置的树脂组合物。还公开了一种灯，包括具有密封单元的封装，在密封单元的底部暴露的电极，以及布置在底部上并与电极电连接的发光器件。该灯的特征在于，发光装置用填充密封单元的树脂组合物密封。

2. 发明申请

WO2008029760A1 新規樹脂、その製造方法、新規組成物、及び該組成物を硬化してなる硬化物审中-公开
标题翻译：新型树脂，其制造方法，新型组合物和固化产物通过固化而得到
公开(公告)号：WO2008029760A1
公开(公告)日：2008-03-13
申请号：PCT/JP2007/067127
申请日：2007-09-03
申请人：昭和電工株式会社 , 内田博 , 大賀一彦
发明人：内田博 , 大賀一彦
IPC分类号： C08G18/32 , C08G69/02
CPC分类号： C08G69/00 , C08G18/3212 , C08G18/44 , C08G18/751
摘要：　本発明の樹脂は、下記式(I)で表される有機基が複数結合した分子鎖を有し、重量平均分子量が１０，０００～３００，０００であることを特徴とする。（式中、Ｃは、炭素数３０～５０の２価の炭化水素鎖を有する２価の有機基であり、Ａは、アミド結合、エステル結合、ウレタン結合、ウレア結合またはカーボネート結合である。）。本発明の樹脂によれば、ハロゲン含有難燃剤、リン系難燃剤を使用しない場合であっても、ＵＬ－９４　ＶＴＭ－０レベルの難燃性を発現することができ、また、ＵＬ－９４　ＶＴＭ－０レベルの難燃性を有する硬化物が容易に得られる。
摘要翻译：公开了一种树脂，其特征在于具有分子链，其中由下式（I）表示的多个有机基团结合在一起，并且具有10,000-300,000的重均分子量。（I）（式中，C表示具有30-50个碳原子的二价烃链的二价有机基团，A表示酰胺键，酯键，氨基甲酸酯键，脲键或碳酸键）。该树脂能够在不使用含卤素阻燃剂或磷阻燃剂的情况下表现出UL-94 VTM-0级的阻燃性，并且能够容易地获得具有UL-94 VTM-0等级的阻燃性的固化产物。

3. 发明申请

WO2009110596A1 ＵＶナノインプリント方法、樹脂製レプリカモールド及びその製造方法、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译： UV NANOIMPRINT方法，树脂替代品模具及其制造方法，磁记录介质及其制造方法以及磁记录/再现装置
公开(公告)号：WO2009110596A1
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：PCT/JP2009/054302
申请日：2009-03-06
申请人：昭和電工株式会社 , 内田博 , 福島正人 , 坂田優子
发明人：内田博 , 福島正人 , 坂田優子
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , G11B5/855
CPC分类号： G11B5/855 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：　本発明は、基材上に紫外線硬化性樹脂からなる薄膜を形成したワークに、表面にパターンが形成されたモールドを押し付けて圧縮成形し、前記圧縮成形と同時に又は前記圧縮成形した後に紫外光を照射して前記薄膜に前記パターンを転写するＵＶナノインプリント方法であって、前記紫外光は、温度上昇抑制手段を備える紫外光照射装置を用いて照射し、前記紫外光照射装置の光源に、紫外光と同時に熱線が連続的には放射されない光源を用いることを特徴とするＵＶナノインプリント方法を提供する。
摘要翻译：本发明公开了一种紫外线纳米压印法，其中通过将表面上具有图案的模具压在通过在基底上形成紫外线固化树脂的薄膜而获得的工件上进行压缩成型，并且将图案转印到薄通过在压缩成型之后或之后用紫外线照射工件的薄膜。紫外线纳米压印法的特征在于，使用包括升温抑制装置的紫外线照射装置照射紫外线，并且将不与紫外线一起不连续发射热射线的光源用作光源紫外线照射装置。

4. 发明申请

WO2008105309A1 ナノインプリント用樹脂組成物审中-公开
标题翻译：用于纳米复合的树脂组合物
公开(公告)号：WO2008105309A1
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：PCT/JP2008/052966
申请日：2008-02-21
申请人：昭和電工株式会社 , 坂田優子 , 内田博 , 廣瀬克昌
发明人：坂田優子 , 内田博 , 廣瀬克昌
IPC分类号： B29C59/02 , C08F2/44 , C09D4/00 , G11B5/65 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC分类号： G11B5/7315 , B82Y10/00 , B82Y25/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0047 , G11B5/8404 , Y10T428/24355
摘要：　本発明は、硬化が速く、かつ均一に硬化し、パターンむらや抜けがなく転写できる、ＵＶナノインプリント法や熱ナノインプリント法に適したナノインプリント用樹脂組成物を提供することを目的とする。また、該組成物を用いた微細パターン付皮膜およびその製造方法、該皮膜を用いた磁気ディスク媒体およびその製造方法、磁気ディスク媒体に情報を記録するための、あるいは該磁気ディスク媒体から情報を再生するための、記録再生装置を提供することを目的とする。本発明のナノインプリント用性樹脂組成物は、（ａ）分子内に少なくとも１つの重合性基を持つ化合物、（ｂ）有機または無機微粒子を必須成分とすることを特徴としている。
摘要翻译：一种用于纳米压印的树脂组合物，其快速均匀地固化并且可以完全转印而不引起图案不匀，并且适用于UV纳米压印和热纳米压印。还提供了：一种带有由该组合物形成的微图案的涂膜; 一种制造薄膜的方法; 采用该膜的磁盘介质; 一种生产该介质的方法; 以及用于在磁盘介质中记录信息或再现记录在磁盘介质中的信息的记录/再现装置。纳米压印用树脂组合物的特征在于，作为必要成分（a）一种或多种每分子具有至少一个可聚合基团的化合物和（b）有机微粒子。

5. 发明申请

WO2009116431A1 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：用于制造磁记录介质，磁记录介质和磁记录/再现装置的方法
公开(公告)号：WO2009116431A1
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：PCT/JP2009/054537
申请日：2009-03-10
申请人：昭和電工株式会社 , 新井良和 , 内田博 , 今井直行 , 福島正人
发明人：新井良和 , 内田博 , 今井直行 , 福島正人
IPC分类号： G11B5/84 , C09D183/04 , G11B5/65
CPC分类号： G11B5/855 , C09D183/06 , G03F7/0757
摘要：　本発明は、非磁性基板上に少なくとも、記録層と保護膜とを有する磁気記録媒体の製造方法であって、基板上に連続した記録層を形成する工程、パターニングしたレジスト層を形成する工程、このレジストパターンに基づいて前記記録層を部分的に除去する工程、前記記録層および記録層を除去した箇所に活性エネルギー線硬化性官能基を有する有機ケイ素化合物を塗布する工程、前記有機ケイ素化合物を活性エネルギー線により硬化させる工程、前記有機ケイ素化合物をエッチングして磁性層を表出させる工程、および保護膜を形成する工程をこの順で有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
摘要翻译：公开了一种在非磁性基板上制造至少具有记录层和保护膜的磁记录介质的方法。磁记录介质的制造方法的特征在于，以下顺序包括在基板上形成连续记录层的步骤，形成图案化的抗蚀剂层的步骤，根据抗蚀剂图案，将具有活性能量射线固化性官能团的有机硅化合物施加到记录层上的步骤和除去记录层的部分，利用活性能量射线固化有机硅化合物的步骤，步骤通过蚀刻有机硅化合物曝光磁性层，以及形成保护膜的步骤。

6. 发明申请

WO2009093507A1 磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：制造磁记录介质和磁记录回放装置的方法
公开(公告)号：WO2009093507A1
公开(公告)日：2009-07-30
申请号：PCT/JP2009/050390
申请日：2009-01-14
申请人：昭和電工株式会社 , 内田博 , 福島正人 , 坂田優子
发明人：内田博 , 福島正人 , 坂田優子
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/65 , G11B5/82 , G11B5/855
CPC分类号： G11B5/855 , G11B5/82
摘要：　基板上に磁性層を成膜したのちに磁気パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、不良品の発生が少なく、製造コストの低い方法が提供される。そのような磁気記録媒体の製造方法では、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法において、中央に開口部を有する基板に磁性層を形成する工程、磁性層に樹脂膜を塗布する工程、凹凸形状のパターンが形成されたフィルム状のモールドを基板に押しあてる工程、モールドの凹凸パターンを樹脂膜に転写する工程、基板からモールドを剥離する工程、転写した凹凸パターンを用いて磁性層に磁気記録パターンを形成する工程をこの順で行う。
摘要翻译：提供一种制造磁性记录介质的方法，其中磁性层在基板上形成为膜，之后形成磁性图案，该方法便宜并且导致少量缺陷产物。该方法产生具有磁隔离的磁记录图案的磁记录介质，其中连续执行以下步骤：在具有中心开口的基板上形成磁性层的步骤; 向树脂膜施加树脂膜的工序; 将已经形成有非平面图案的薄膜式模具压在基板上的步骤; 将模具的非平面图案转印到树脂膜上的步骤; 从模板剥离模具的步骤; 以及使用已经转印的非平面图案在磁性层上形成磁记录图案的步骤。

7. 发明申请

WO2009069465A1 転写材料用硬化性組成物および該組成物を用いた微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于转移材料的可固化组合物和使用组合物形成精细图案的方法
公开(公告)号：WO2009069465A1
公开(公告)日：2009-06-04
申请号：PCT/JP2008/070519
申请日：2008-11-11
申请人：昭和電工株式会社 , 新井良和 , 内田博
发明人：新井良和 , 内田博
IPC分类号： C08F30/08 , B29C59/02 , C08G59/20 , C08G77/38 , C08L83/06 , C08L83/07 , G11B5/65 , G11B5/84 , G11B5/855 , H01L21/027
CPC分类号： B29D17/00 , C08F220/40 , C08G77/045 , C08G77/14 , C08G77/38 , G11B5/855
摘要：　本発明は、高いスループットで微細パターンを形成することができる工法であるＵＶナノインプリント法に適用でき、また場合によっては熱ナノインプリント法にも適用でき、しかもフッ素系ガスと酸素ガスとのエッチング速度の選択性が高い微細パターンを形成することができる転写材料用硬化性組成物を提供することを目的とする。　本発明の転写材料用硬化性組成物は、同一分子内に、特定のシルセスキオキサン骨格と、硬化性官能基とを有するシルセスキオキサン骨格含有化合物を含有することを特徴とする。
摘要翻译：公开了用于转印材料的可固化组合物，其可应用于能够形成具有高生产量的精细图案的UV纳米压印工艺，并且有时甚至适用于热纳米压印工艺。这种转印材料用固化性组合物能够形成在氟气和氧气的蚀刻速度之间具有高选择性的精细图案。具体公开了一种转印材料用固化性组合物，其特征在于，在同一分子中含有具有特定倍半硅氧烷骨架和可固化官能团的倍半硅氧烷骨架化合物。

8. 发明申请

WO2009060862A1 エポキシ基含有オルガノシロキサン化合物、転写材料用硬化性組成物および該組成物を用いた微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：含羟基的有机硅氧烷化合物，用于转移材料的可固化组合物和使用该组合物的精细图案形成方法
公开(公告)号：WO2009060862A1
公开(公告)日：2009-05-14
申请号：PCT/JP2008/070122
申请日：2008-11-05
申请人：昭和電工株式会社 , 森中克利 , 新井良和 , 内田博 , 藤田俊雄
发明人：森中克利 , 新井良和 , 内田博 , 藤田俊雄
IPC分类号： C07F7/21 , C08G59/20 , H01L21/027
CPC分类号： C07F7/0852 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C07F7/21 , C08G59/306 , C08G59/3281 , C08G59/42 , G03F7/0002 , G03F7/0757
摘要：　本発明は、高いスループットで微細パターンを形成することができる工法であるＵＶナノインプリント法に適用でき、また場合によっては熱ナノインプリント法にも適用でき、しかもフッ素系ガスと酸素ガスとのエッチング速度の選択性が高い微細パターンを形成することができる転写材料用硬化性組成物を提供することを目的とする。　本発明の転写材料用硬化性組成物は、Ｓｉ－Ｈ基を有するケイ素化合物（Ａ）と、硬化性官能基および該硬化性官能基以外の炭素―炭素二重結合を有する化合物（Ｂ）とをヒドロシリル化反応させることにより製造される硬化性ケイ素化合物を含むことを特徴としている。
摘要翻译：公开了用于转印材料的可固化组合物，其可应用于能够形成具有高生产量的精细图案的UV纳米压印工艺，并且有时甚至适用于热纳米压印工艺。这种转印材料用固化性组合物能够形成在氟气和氧气的蚀刻速度之间具有高选择性的精细图案。具体公开了一种转印材料用固化性组合物，其特征在于，含有通过具有Si-H基的硅化合物（A）和具有可固化官能团的化合物（B）之间的氢化硅烷化反应生成的可固化硅化合物和碳除了可固化官能团之外的碳双键。

9. 发明申请

WO2009119469A1 エポキシ化合物およびその製造方法审中-公开
标题翻译：环氧化合物和制备环氧化合物的方法
公开(公告)号：WO2009119469A1
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：PCT/JP2009/055576
申请日：2009-03-23
申请人：昭和電工株式会社 , 新井良和 , 内田博
发明人：新井良和 , 内田博
IPC分类号： C07F7/21
CPC分类号： C07F7/21
摘要：　本発明は、硬化速度が速いとともにエッチング耐性および選択性にも優れ、室温下において液状であるエポキシ化合物およびその製造方法を提供することを目的とする。本発明のエポキシ化合物は、式（I）で表される；（ＹＳｉＯ 3/2 ）ｎ・・・（I）（式（I）中、ｎ個のＹのうちｐ個（ｐはｎ以下の自然数）は下記式（１a）～（５a）のいずれかで表される基を示し、（ｎ−ｐ）個のＹは水素原子または−ＯＳｉＲ 1 2 Ｈを示し、ｎは２～５００の整数を示す。Ｒ 1 はそれぞれ独立にアルキル基を示し、Ｒ 2～12 はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基などを示し、Ｘは単結合などを示し、*は（Ⅰ）に示されるSi との結合部分を示す。）。
摘要翻译：公开了具有高固化速度，优异的耐蚀刻性和选择性的环氧化合物，并且在室温下为液体。还公开了一种生产环氧化合物的方法。环氧化合物由式（I）表示：（YSiO 3/2）n（I）其中p Ys，其中p是n或更小的自然数，n Y中的任何一个表示由下式（1a）至（5a）; （n-p）Y代表氢原子或-OSiR1 2H; n为2〜500的整数。 R 1各自独立地表示烷基; R2-12各自独立地表示氢原子，烷基等; X表示单键; 和*表示式（I）中与Si的键部分。

10. 发明申请

WO2009096420A1 凹凸パターン形成方法、およびそれを利用した磁気記録媒体の製造方法审中-公开
标题翻译：用于生成使用该方法的磁记录介质的凹凸和凹凸图案形成方法
公开(公告)号：WO2009096420A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/051342
申请日：2009-01-28
申请人：昭和電工株式会社 , 今井直行 , 森中克利 , 内田博 , 坂脇彰 , 福島正人
发明人：今井直行 , 森中克利 , 内田博 , 坂脇彰 , 福島正人
IPC分类号： B29C59/02 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　本発明は、酸素エッチング耐性が優れ且つ可使時間の長いレジスト形成材料を用いた、矩形性良く常温でインプリント（型押し）を行うことができる凹凸パターン形成方法を提供することを目的とする。　本発明の凹凸パターン形成方法は、下記組成式（Ａ）で表されるシルセスキオキサン化合物を含む溶液を、被加工材料表面に塗布して薄膜を形成する工程（１）と、その薄膜に凹凸パターンを有する原盤を押し付ける工程（２）と、前記原盤を前記薄膜から剥離する工程（３）とを有することを特徴としている： R 1 R 2 Si 2 O 3 組成式（Ａ）（上記組成式（Ａ）において、R 1 およびR 2 はそれぞれ独立に特定の基を表す。）。
摘要翻译：公开了一种凹凸图案形成方法，其可以使用具有优异的耐氧蚀刻性和长使用期的抗蚀剂形成材料在室温下进行良好的矩形轮廓的压印（压花）。凹凸图案形成方法的特征在于包括将含有下述组成式（A）所示的倍半硅氧烷化合物的溶液涂布在待加工材料的表面上形成薄膜的工序（1），将具有凹凸图案的母版按压在薄膜上的步骤（2），以及将母版与薄膜分开的步骤（3）。 R1R2Si2O3组成式（A）其中R1和R2各自独立地表示特定基团。

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