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1. 发明申请

WO2009038208A1 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：制造磁记录介质的方法和磁记录/再现装置
公开(公告)号：WO2009038208A1
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/JP2008/067083
申请日：2008-09-22
申请人：昭和電工株式会社 , 福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
发明人：福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法であって、次の順序で実施する各工程を含む。（イ）非磁性基板上に磁性層を形成する工程、（ロ）磁性層を分離する領域の磁性層の表層部を反応性プラズマもしくは反応性イオンに曝す工程、（ハ）磁性層に不活性ガスを照射する工程。好ましくは、工程（イ）の後、（ロ）磁性層を分離する領域の磁性層の表層部を除去する工程、（ハ）該表層部を除去した磁性層の領域を反応性プラズマもしくは反応性イオンに曝す工程、（ニ）磁性層に不活性ガスを照射する工程を行う。得られる磁気記録媒体は、磁性層表面の酸化またはハロゲン化が原因で腐食を生じることがない。
摘要翻译：提供一种制造具有磁分离磁记录图案的磁记录介质的方法。该方法包括按以下顺序执行的步骤; （a）在非磁性基板上形成磁性层的步骤，（b）在要去除磁性层的区域中暴露于反应性等离子体或活性离子表面层部分的步骤;以及（c）用惰性气体照射磁性层的步骤。优选地，（b）除去要去除磁性层的区域中的磁性层的表层部分的步骤，（c）暴露于反应性等离子体或反应离子的步骤，去除表面层部分，并且（d）在步骤（a）之后进行用惰性气体照射磁性层的步骤。所得到的磁记录介质不会由于磁性层表面的氧化或卤化而腐蚀。

2. 发明申请

WO2009072439A1 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：制造磁记录介质和磁记录/再现装置的方法
公开(公告)号：WO2009072439A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：PCT/JP2008/071626
申请日：2008-11-28
申请人：昭和電工株式会社 , 福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
发明人：福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
IPC分类号： G11B5/855 , G11B5/65 , G11B5/667 , G11B5/851 , H01F10/16 , H01F41/18
CPC分类号： G11B5/855 , H01F41/34
摘要：　非磁性基板の少なくとも一方の表面に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法であって、次の（A）～（G）の順で実施をする７つの工程を有する磁気記録媒体の製造方法を提供する。（A）非磁性基板に磁性層を形成する工程、（B）前記磁性層の上に炭素マスク層を形成する工程、（C）前記炭素マスク層の上にレジスト層を形成する工程、（D）前記レジスト層に磁気記録パターンのネガパターンを形成する工程、（E）磁気記録パターンのネガパターンに対応する領域の前記マスク層を除去する工程、（F）磁気記録パターンのネガパターンに対応する領域の、前記磁性層の少なくとも表層部分を除去する工程、（G）所望により、残っている前記レジスト層および炭素マスク層を除去する工程。製造される磁気記録媒体は、従来と同等以上の記録再生特性を確保しつつ、高い記録密度を示す。
摘要翻译：在非磁性基板的至少一个表面上制造具有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的方法包括按照（A）至（G）的顺序执行的以下七个步骤：（A）形成磁性层，（B）在磁性层上形成碳掩模层的步骤，（C）在碳掩模层上形成抗蚀剂层的步骤，（D）形成负极图案的步骤抗蚀剂层上的磁记录图案，（E）在对应于磁记录图案的负图案的区域中去除掩模层的步骤，（F）至少去除磁性层的表层部分的步骤在对应于磁记录图案的负图形的区域中，以及（G）当需要时除去剩余的抗蚀剂层和碳掩模层的步骤。所制造的磁记录介质确保记录/再现性能等于或优于常规记录/再现性能并且表现出高记录密度。

3. 发明申请

WO2011049120A1 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：用于制造磁记录介质和磁记录重放装置的方法
公开(公告)号：WO2011049120A1
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：PCT/JP2010/068464
申请日：2010-10-20
申请人：昭和電工株式会社 , 上田学 , 村上雄二 , 坂脇彰 , 王志鵬
发明人：上田　学 , 村上　雄二 , 坂脇　彰 , 王　志鵬
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/855
CPC分类号： G11B5/855 , B05D1/32
摘要：　本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板（１）の上に磁性層（２）を形成する工程と、前記磁性層（２）の上に溶解層（３）を形成する工程と、前記溶解層（３）の上にマスク層（４）を形成する工程と、前記溶解層（３）及びマスク層（４）を前記磁気記録パターン（２ａ）に対応した形状にパターニングする工程と、前記パターニングされたマスク層（４）を用いて前記磁性層（２）を部分的に改質又は除去する工程と、前記溶解層（３）を薬剤により湿式溶解し、その上のマスク層（４）と共に前記磁性層（２）の上から除去する工程とを含み、前記磁気記録媒体が磁気的に分離された磁気記録パターン（２ａ）を有する。
摘要翻译：一种制造磁记录介质的方法包括在非磁性基板（1）上形成磁性层（2）的步骤，在磁性层（2）上形成溶解层（3）的步骤，形成掩模层（4），将溶解层（3）和掩模层（4）图形化成与磁记录图案（2a）相对应的形状的步骤，部分改性或去除使用已经进行图案化的掩模层（4）的磁性层（2）和通过湿法使用药剂溶解溶解层（3）并除去溶解层（3）和掩模层（4）从磁性层（2）的上侧形成在其上，其中磁记录介质包括磁分离的磁记录图案（2a）。

4. 发明申请

WO2009017016A1 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：磁记录介质制造方法和磁记录/再现装置
公开(公告)号：WO2009017016A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：PCT/JP2008/063248
申请日：2008-07-24
申请人：昭和電工株式会社 , 福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
发明人：福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
IPC分类号： G11B5/65 , G11B5/82 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/746 , G11B5/82 , G11B5/865 , Y10T29/49025 , Y10T29/4903 , Y10T29/49032
摘要：　次の（１）～（３）の順で実施をする３つの工程を含むことを特徴とする、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を製造する方法を提供する。（１）非磁性基板上に磁性層を形成する工程、（２）磁性層を磁気的に分離する領域の磁性層表層部分を除去する工程、（３）該磁性層表層部分を除去することにより露出した磁性層領域の表面を反応性プラズマまたは反応性イオンに曝して、該磁性層領域の保磁力および残留磁化を低減することにより、改質された磁気特性を有する磁性層領域によって磁気的に分離されている磁気記録パターンを形成する工程。この方法により、増大した記録密度を有し、かつ、磁気記録の際の書きにじみをなくした磁気記録媒体を、生産性よく製造することができる。
摘要翻译：提供一种制造具有磁性分离的磁记录图案的磁记录介质的方法。该方法包括以下三个步骤：[1]在非磁性基板上形成磁性层的步骤; [2]一种用于去除用于磁性分离磁性层的区域的磁性层表面部分的步骤; [3]暴露于反应性等离子体或反应性离子的步骤，通过去除磁性层表面层部分而露出的磁性层区域的表面，以便降低磁性层区域的矫顽力和剩余磁化强度。具有重整磁特性的磁性层区域形成磁性分离的磁记录图形。通过使用该方法，可以以高生产率制造在磁记录时不具有写入模糊的磁记录介质。

5. 发明申请

WO2009096420A1 凹凸パターン形成方法、およびそれを利用した磁気記録媒体の製造方法审中-公开
标题翻译：用于生成使用该方法的磁记录介质的凹凸和凹凸图案形成方法
公开(公告)号：WO2009096420A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/051342
申请日：2009-01-28
申请人：昭和電工株式会社 , 今井直行 , 森中克利 , 内田博 , 坂脇彰 , 福島正人
发明人：今井直行 , 森中克利 , 内田博 , 坂脇彰 , 福島正人
IPC分类号： B29C59/02 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC分类号： G11B5/855
摘要：　本発明は、酸素エッチング耐性が優れ且つ可使時間の長いレジスト形成材料を用いた、矩形性良く常温でインプリント（型押し）を行うことができる凹凸パターン形成方法を提供することを目的とする。　本発明の凹凸パターン形成方法は、下記組成式（Ａ）で表されるシルセスキオキサン化合物を含む溶液を、被加工材料表面に塗布して薄膜を形成する工程（１）と、その薄膜に凹凸パターンを有する原盤を押し付ける工程（２）と、前記原盤を前記薄膜から剥離する工程（３）とを有することを特徴としている： R 1 R 2 Si 2 O 3 組成式（Ａ）（上記組成式（Ａ）において、R 1 およびR 2 はそれぞれ独立に特定の基を表す。）。
摘要翻译：公开了一种凹凸图案形成方法，其可以使用具有优异的耐氧蚀刻性和长使用期的抗蚀剂形成材料在室温下进行良好的矩形轮廓的压印（压花）。凹凸图案形成方法的特征在于包括将含有下述组成式（A）所示的倍半硅氧烷化合物的溶液涂布在待加工材料的表面上形成薄膜的工序（1），将具有凹凸图案的母版按压在薄膜上的步骤（2），以及将母版与薄膜分开的步骤（3）。 R1R2Si2O3组成式（A）其中R1和R2各自独立地表示特定基团。

6. 发明申请

WO2009088060A1 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：用于制造磁记录介质和磁记录和再现装置的方法
公开(公告)号：WO2009088060A1
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：PCT/JP2009/050177
申请日：2009-01-09
申请人：昭和電工株式会社 , 福島正人 , 坂脇彰
发明人：福島正人 , 坂脇彰
IPC分类号： G11B5/84 , H01F10/16 , H01F41/18 , H01F41/34
CPC分类号： G11B5/855 , H01F41/34
摘要：　磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法において、非磁性基板上に酸化物を０．５原子％～６原子％の範囲内で含む磁性層を形成する工程、および、磁気的に分離する、磁性層の領域を反応性プラズマまたは反応性イオンに曝す工程を設ける。上記磁性層は、非グラニュラ構造を有することが好ましく、また、面内配向の磁性層であることが好ましい。上記の反応性プラズマまたは反応性イオンに曝す工程の後に、少なくとも、反応性プラズマまたは反応性イオンに曝された上記領域の表面に不活性ガスを照射する工程を行うことが好ましい。この方法によれば、高精度の磁気記録パターンを有し、高い電磁変換特性および高い記録密度を有する磁気記録媒体を生産性よく製造することができる。
摘要翻译：公开了一种具有磁分离磁记录图案的磁记录介质的制造方法。该方法包括在非磁性基板上形成含有0.5原子％至6原子％的氧化物的磁性层的步骤和将在磁性层中彼此磁分离的区域暴露于反应性等离子体或反应离子。磁性层优选具有非晶粒结构，并且是面内对准型磁性层。优选地，在将区域暴露于反应性等离子体或反应离子的步骤之后，至少将暴露于反应性等离子体或反应离子的区域的表面施加惰性气体的步骤进行。该方法可以产生包括高精度磁记录图案的磁记录介质，并具有高电磁转换特性和高记录密度，并且生产率高。

7. 发明申请

WO2009035093A1 両面塗布装置及び塗液の両面塗布方法审中-公开
标题翻译：双面涂布装置和涂层液体双面涂布方法
公开(公告)号：WO2009035093A1
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：PCT/JP2008/066569
申请日：2008-09-12
申请人：昭和電工株式会社 , 廣瀬克昌 , 坂脇彰 , 福島正人
发明人：廣瀬克昌 , 坂脇彰 , 福島正人
IPC分类号： G11B5/84 , B05C11/08 , G11B5/65
CPC分类号： G11B5/842
摘要：　　中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。
摘要翻译：提供一种涂布装置，其可以通过简单的过程在均匀地施加涂布液到具有中心开口的处理过的基材的两面上，同时防止涂布液侵入中心开口。涂布装置（1）将涂布液施加到具有中心开口（2a）的处理过的基材（2）的两个主面上。所述涂布装置（1）包括旋转驱动机构（3），所述旋转驱动机构（3）具有用于在封闭所述中心开口（2a）的同时保持所述处理过的基板（2）的夹紧单元（11），用于注射所述涂层的第一液体施加喷嘴液体到处理过的基板（2）的一个主面，第一转动驱动机构（17），用于沿着处理过的基板（2）的主面移动和操作扫描第一液体施加喷嘴（18）;第二液体施加用于将涂布液喷射到处理过的基板（2）的另一个主面的喷嘴（28）;以及用于移动和操作以沿另一个主体扫描第二液体施加喷嘴（28）的第二转动驱动机构（31）（2）的表面。涂布装置（1）具有控制第一涂布液喷射口（23）中的涂布液的喷射速度和第二涂布液喷射口（29）中的涂布液的喷射速度的功能。

8. 发明申请

WO2011004761A1 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：磁记录介质的制造方法，磁记录重现装置
公开(公告)号：WO2011004761A1
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：PCT/JP2010/061246
申请日：2010-07-01
申请人：昭和電工株式会社 , 石橋信一 , 上田学 , 坂脇彰
发明人：石橋　信一 , 上田　学 , 坂脇　彰
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855
摘要：鮮明な磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を簡便なプロセスで製造することを可能とした磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性基板（１）の上に磁性層（２）を形成する工程と、磁性層（２）の面上を覆うマスク層（３）を形成する工程と、マスク層（３）の上にレジスト層を形成する工程と、スタンプ（５）を用いてレジスト層をパターニングする工程と、レジスト層を用いてマスク層（３）をパターニングする工程と、磁性層（２）のマスク層（３）で覆われていない箇所を部分的に除去することにより凹部（６）を形成する工程と、凹部(６)が形成された面上を覆う非磁性層(７)を形成する工程Ｇと、マスク層（３）が表出するまで非磁性層（７）の表面を平坦化する工程Ｈと、表出されたマスク層（３）を除去する工程Ｉと、非磁性層（７）の突起部分（７ａ）を除去する工程Ｊと、突起部分（７ａ）が除去された面上を覆う保護層（８）を形成する工程Ｋとを含む。
摘要翻译：公开了一种用于磁记录介质的制造方法，其能够通过简单的工艺制造具有不同磁记录图案的磁记录介质。所述方法包括：在非磁性基板（1）上形成磁性层（2）的步骤; 形成覆盖所述磁性层（2）的上表面的掩模层（3）的工序。在掩模层（3）上形成抗蚀剂层的步骤; 使用印模（5）对抗蚀剂层进行图案化的步骤; 使用抗蚀剂层对掩模层（3）进行图案化的步骤; 通过去除未被掩模层（3）覆盖的磁性层（2）的部分来形成凹部（6）的步骤; 形成覆盖形成凹部（6）的上表面的非磁性层（7）的工序（G）使所述非磁性层（7）的表面平坦化直到所述掩模层（3）露出的步骤（H）步骤（I）以去除曝光的掩模层（3）; 去除非磁性层（7）的突出部分（7a）的步骤（J）和步骤（K）以形成覆盖突出部分（7a）的上表面的保护层（8）。

9. 发明申请

WO2009139381A1 磁気記録媒体の製造方法および製造装置审中-公开
标题翻译：用于生产磁记录介质的方法和装置
公开(公告)号：WO2009139381A1
公开(公告)日：2009-11-19
申请号：PCT/JP2009/058834
申请日：2009-05-12
申请人：昭和電工株式会社 , 福島正人 , 坂脇彰 , 茂智雄
发明人：福島　正人 , 坂脇　彰 , 茂　智雄
IPC分类号： G11B5/851
CPC分类号： G11B5/851 , G11B5/855
摘要：　媒体の製造を同一のインライン式装置を用いて行い、これによりハンドリングによる汚染を低減し、生産性を高めることが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。そのような磁気記録媒体の製造方法は、記録磁性層と前記記録磁性層をパターニングするためのマスク層とが少なくとも積層された非磁性基板をキャリアに装着する装着工程と、前記記録磁性層のうち、前記マスク層に覆われていない箇所に対し、反応性プラズマ処理またはイオン照射処理を行って磁気特性を改質することで、残存した磁性体からなる磁気記録パターンを形成する改質工程と、前記マスク層を除去する除去工程と、前記記録磁性層上に保護膜を形成する保護膜形成工程と、前記キャリアから前記非磁性基板を取り外す取外し工程とをこの順で有し、前記改質工程、前記除去工程または前記保護膜形成工程の何れか一つ以上の工程を複数のチャンバに分けて連続処理することを特徴とする。
摘要翻译：提供一种用于制造磁记录介质的方法，其中使用相同的在线装置制造介质，从而减少由处理引起的污染并提高生产率。该磁记录介质制造方法的特征在于，按照以下顺序来表示：安装步骤，其中具有记录磁性层的叠加层的非磁性基板和用于图案化记录磁性层的掩模层安装在载体上 ; 改变步骤，其中未被掩模层覆盖的记录磁性层的区域用反应性等离子体处理或用其上的离子处理进行处理以改变该区域的磁性，从而形成磁记录由剩余磁性物质构成的图案; 其中除去掩模层的去除步骤; 保护膜形成步骤，其中在记录磁性层上形成保护膜; 以及非磁性基板与载体分离的分离步骤。该方法的特征还在于，在各个室中的连续处理阶段中进行至少任一个改变步骤，去除步骤和保护膜形成步骤。

10. 发明申请

WO2009107496A1 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置审中-公开
标题翻译：制造磁记录介质，磁记录介质和磁记录/再现装置的方法
公开(公告)号：WO2009107496A1
公开(公告)日：2009-09-03
申请号：PCT/JP2009/052505
申请日：2009-02-16
申请人：昭和電工株式会社 , 福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
发明人：福島正人 , 坂脇彰 , 山根明
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/65 , G11B5/82 , G11B5/855
CPC分类号： G11B5/855 , B82Y10/00 , G11B5/743 , G11B5/82
摘要：　磁気記録媒体の表面の異物を効率良く確実に除去することができ、当該磁気記録媒体の表面に残存したマスク層が残留することがなく、磁性層のパターン形成の生産性が高い磁気記録媒体の製造方法が提供される。そのような磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に磁性層を形成する工程と、磁性層上にマスク層を形成する工程と、マスク層をパターニングしてマスクパターンを形成する工程と、マスクパターンを用いて磁性層に磁気記録パターンを形成する工程と、マスクパターンの表面を研磨材によりバーニッシュする工程と、マスクパターンを除去する工程とを有する。
摘要翻译：提供一种制造磁记录介质的方法，其中能够以高效率可靠地去除磁记录介质的表面上的异物，留在磁记录介质的表面上的掩模层不会停留，并且磁性的生产率层图案形成高。该方法具有在非磁性基板上形成磁性层的步骤; 在所述磁性层上形成所述掩模层的步骤; 通过图案化掩模层形成掩模图案的步骤; 通过使用掩模图案在磁性层上形成磁记录图案的步骤; 通过使用抛光材料来抛光掩模图案的表面的步骤; 以及去除掩模图案的步骤。

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