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1. 发明申请

WO2008143050A1 プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽体およびプラズマディスプレイ装置审中-公开
标题翻译：用于等离子体显示的电磁波屏蔽体和等离子体显示装置
公开(公告)号：WO2008143050A1
公开(公告)日：2008-11-27
申请号：PCT/JP2008/058734
申请日：2008-05-12
申请人：旭硝子株式会社 , 川崎正人 , 柳澤享 , 鈴木克巳 , 渡辺文範 , 府川真 , 森本保
发明人：川崎正人 , 柳澤享 , 鈴木克巳 , 渡辺文範 , 府川真 , 森本保
IPC分类号： H05K9/00 , G09F9/00
CPC分类号： H05K9/0096
摘要：　単に導電層の厚さを厚くした場合や、２つの導電層同士を、相互の距離を考慮せずに単に貼り合わせた場合に比べて、導電層の抵抗が同じであっても、より優れた電磁波遮蔽性を発揮するプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）用電磁波遮蔽体およびこれを用いたＰＤＰ装置の提供。　２つ以上の透明導電体（４３、４４）が、体積抵抗率０．１Ω・ｍ以上の高抵抗率体（４２）を介してそれぞれ離間配置されており、前記各透明導電体は、それぞれ独立に導電膜および導電性メッシュのいずれかであり、少なくとも２つの隣り合う透明導電体間の距離が１ｍｍ以上であり、前記高抵抗率体は透明基材層および透明気体層から選ばれる１層以上を有することを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽体（４１）。ＰＤＰ（４５）と、該ＰＤＰ（４５）の視認側に配置された前記ＰＤＰ用電磁波遮蔽体（４１）とを備えるＰＤＰ装置（４０）。
摘要翻译：提供了一种用于等离子体显示器（PDP）的电磁波屏蔽体和使用这种电磁波屏蔽体的PDP装置。电磁波屏蔽体具有较高的电磁波屏蔽性能，与导电层的厚度简单地增加的情况相比，导电层的电阻即使相同，并且在两个导电层简单地彼此结合而没有考虑导电层之间的距离。在等离子体显示器的电磁波屏蔽体（41）中，以与体积电阻率为0.1O·m以上的高电阻体（42）间隔配置两个以上的透明导体（43,44），之间。每个透明导体独立地由导电膜或导电网组成，并且至少两个相邻的透明导体之间的距离为1mm以上。高电阻体具有选自透明基材层和透明气体层中的至少一层。 PDP设备（40）设置有PDP（45）和布置在PDP（45）的观看侧上的电磁波屏蔽体（41）。

2. 发明申请

WO2005027229A1 透明導電膜付き基体およびその製造方法审中-公开
标题翻译：具有透明导电膜的基座及其制造方法
公开(公告)号：WO2005027229A1
公开(公告)日：2005-03-24
申请号：PCT/JP2004/012387
申请日：2004-08-27
申请人：旭硝子株式会社 , 神戸美花 , 種田直樹 , 府川真 , 佐藤一夫
发明人：神戸美花 , 種田直樹 , 府川真 , 佐藤一夫
IPC分类号： H01L31/04
CPC分类号： H01L31/0392 , H01L31/0236 , H01L31/056 , Y02E10/52
摘要：　Ｃ光源ヘイズ率の高い、光透過性に優れた、高い導電性を有する透明導電膜付き基体およびその製造方法、上記基板を用いた光電変換素子の提供。　基体上に導電層が形成され、該導電層上に厚みが０．５～１０ｎｍの酸化チタン層を有することを特徴とする透明導電膜付き基体。前記導電層が酸化スズ層であり、前記透明導電膜付き基体のＣ光源ヘイズ率が５～９０％であることが好ましい。前記基体と前記導電層との間に、基体側から高屈折率層、低屈折率層が順に積層されることが好ましい。
摘要翻译：公开了具有高导电性的透明导电膜的基底，其具有高的光源C雾度和优异的透光率。还公开了使用这种基底的这种基底和光电转换器的制造方法。具有透明导电膜的基底的特征在于包括形成在基底上的导电层和布置在导电层上的厚度为0.5-10nm的氧化钛层。导电层优选为氧化锡层，并且具有透明导电膜的基底优选具有5-90％的照度C雾度。优选从基底侧依次配置高折射率层和低折射率层。

3. 发明申请

WO2003036657A1 透明導電性酸化物膜付き基体とその製造方法、および光電変換素子审中-公开
标题翻译：具有透明导电氧化膜的基板及其制造方法及光电转换元件
公开(公告)号：WO2003036657A1
公开(公告)日：2003-05-01
申请号：PCT/JP2002/010801
申请日：2002-10-17
申请人：旭硝子株式会社 , 佐藤一夫 , 種田直樹 , 府川真 , 青峰信孝 , 神戸美花
发明人：佐藤一夫 , 種田直樹 , 府川真 , 青峰信孝 , 神戸美花
IPC分类号： H01B5/14
CPC分类号： H01L31/1884 , C23C16/0272 , C23C16/04 , C23C16/407 , H01L31/022466 , H01L31/022483 , H01L31/02363 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y10T428/24364 , Y10T428/261 , Y10T428/263 , Y10T428/265
摘要： A substrate with a transparent conductive oxide film (especially, a substrate with a transparent conductive oxide film useful as a thin−film silicon−based solar cell−use substrate) being excellent in mass−production efficiency, and being characterized by having a low resistance and a high transparency and having a good light scattering performance in a full wavelength region (300 nm−3μm) of solar ray, and a production method therefor; and a photoelectric conversion element (especially, solar cell) using the substrate. A substrate with a transparent conductive oxide film, comprising a transparent conductive oxide film provided on the substrate and constituted of a plurality of ridges and a plurality of float portions, the surfaces of the ridges and the flat portions having many continuous, micron−size protrusions.
摘要翻译：具有透明导电氧化膜（特别是具有用作薄膜硅系太阳能电池用基板的透明导电氧化物膜的基板）的基板具有优异的批量生产效率，其特征在于具有低电阻和高透明度，并且在太阳光线的全波长区域（300nm-3μm）中具有良好的光散射性能及其制造方法; 以及使用该基板的光电转换元件（特别是太阳能电池）。具有透明导电氧化物膜的基板，包括设置在基板上并由多个脊部和多个浮动部分构成的透明导电氧化膜，脊部和平坦部分的表面具有许多连续的微米级突起。

4. 发明申请

WO2009131206A1 低反射ガラスおよびディスプレイ用保護板审中-公开
标题翻译：低反射玻璃和保护板用于显示
公开(公告)号：WO2009131206A1
公开(公告)日：2009-10-29
申请号：PCT/JP2009/058134
申请日：2009-04-24
申请人：旭硝子株式会社 , 府川真 , 田中謙一 , 嘉賀晋介
发明人：府川真 , 田中謙一 , 嘉賀晋介
IPC分类号： G02B1/11 , C03C17/34 , G09F9/00
CPC分类号： G02B1/11 , C03C17/3441 , C03C27/048 , C03C2217/734 , C03C2217/78 , Y10T428/24942 , Y10T428/31786
摘要：　耐擦傷性、耐候性、生産性、および外観に優れる低反射ガラスおよびディスプレイ用保護板を提供する。　ガラス基板１２と、ガラス基板１２の表面に形成された反射防止膜１４とを有し、反射防止膜１４が、ガラス基板１２側から順に中間層１６と最外層１８とを有し、最外層１８が、Ｓｉ原子、Ｃ原子よびＯ原子を含む層であり、かつＳｉ原子、Ｃ原子およびＯ原子の合計１００モル％のうちのＣ原子の含有量が、０．５～３モル％であり、中間層１６が、（ａ）層（高屈折率層）または（ｂ）層（光吸収層）である低反射ガラス１０；および低反射ガラス１０からなる支持基体と、該支持基体の反射防止膜が形成されていない面側に設けられた導電膜とを有するディスプレイ用保護板。
摘要翻译：公开了具有优异的耐刮擦性，耐候性，生产率和外观的低反射玻璃。还公开了一种用于显示器的保护板。具体公开了一种低反射玻璃（10），其包括形成在玻璃基板（12）的表面上的玻璃基板（12）和抗反射膜（14）。防反射膜（14）包括从玻璃基板（12）侧依次布置的中间层（16）和最外层（18），最外层（18）含有Si原子，C原子和O原子。相对于Si原子，C原子和O原子的总共100摩尔％的C原子含量为0.5-3摩尔％。中间层（16）由层（a）（高折射率层）或层（b）（光吸收层）构成。用于显示器的保护板包括由低反射玻璃（10）构成的支撑体和形成在不形成防反射膜的支撑体侧的导电膜。

5. 发明申请

WO2008123553A1 防汚性物品およびこれを用いる合わせガラス审中-公开
标题翻译：使用相同的防反射构件和层压玻璃
公开(公告)号：WO2008123553A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/JP2008/056605
申请日：2008-04-02
申请人：旭硝子株式会社 , 高橋亮 , 府川真
发明人：高橋亮 , 府川真
IPC分类号： C03C17/34 , B01J35/02 , C03C27/12
CPC分类号： C03C17/3417 , B32B17/10036 , B32B17/10174 , B32B17/10761 , C03C17/3435 , C03C2217/71 , C03C2218/155
摘要：　防汚性物品、およびこれを用いる合わせガラスの提供。　ガラス基板と、前記ガラス基板の基板面上に形成された光触媒活性層と、前記光触媒活性層の上に積層されたオーバーコート層と、を備える防汚性物品であって、前記光触媒活性層の幾何学的膜厚が５～５００ｎｍであって、前記オーバーコート層が、（Ａ）酸化タンタル、酸化スズ、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素およびケイ素とスズを含む酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸化物を含有し、幾何学的膜厚が０．５～７０ｎｍであるか、または（Ｂ）ケイ素とジルコニウムを含む酸化物を含有し、幾何学的膜厚が０．５～１５０ｎｍである、ことを特徴とする防汚性物品。さらに、当該防汚性物品が、前記基板表面の反対側の面において、中間膜を介して他のガラス基板と積層されている合わせガラス。
摘要翻译：公开了使用防污部件的防污部件和夹层玻璃。具体公开了一种防污构件，其包括玻璃基板，形成在玻璃基板的表面上的光催化活性层和布置在光催化活性层上的外涂层。该防污部件的特征在于光催化活性层的几何厚度为5-500nm。防污部件的特征还在于，（A）外涂层含有选自氧化钽，氧化锡，氮化硅，氮氧化硅和含有硅和锡的氧化物中的至少一种氧化物，同时具有几何厚度或（B）外涂层含有含有硅和锆的氧化物，同时几何厚度为0.5-150nm。另外还特别公开了一种层压玻璃，其中防污部件通过中间膜与另一玻璃基板接合，使得与防污部件的正面相对的一侧面向另一玻璃基板。

6. 发明申请

WO2005056870A1 可視光で光触媒活性を有するＴｉ酸化物膜およびその製造方法审中-公开
标题翻译：氧化钛薄膜在可见光照射下展示光催化活性及其生产工艺
公开(公告)号：WO2005056870A1
公开(公告)日：2005-06-23
申请号：PCT/JP2004/018376
申请日：2004-12-09
申请人：旭硝子株式会社 , 府川真 , 小高秀文 , 尾山卓司 , 光井彰
发明人：府川真 , 小高秀文 , 尾山卓司 , 光井彰
IPC分类号： C23C14/08
CPC分类号： B01J21/063 , B01D53/007 , B01D53/885 , B01D2255/802 , B01J35/004 , B01J37/347 , C03C17/2456 , C03C17/256 , C03C17/3417 , C03C2217/71 , C23C14/083
摘要：　親水性、防曇性を有し、透明性に優れ、かつＵＶ光によるガス分解性を有する、可視光応答性を有するＴｉ酸化物膜およびその製造方法並びにＴｉ酸化物膜付き基体を提供する。　ガラス基板上に形成されたＴｉ酸化物膜であって、１００ｍＷ／ｃｍ２の輝度を有するキセノンランプの光を、４００ｎｍ未満の紫外光をカットして前記Ｔｉ酸化物膜に照射しながら前記Ｔｉ酸化物膜に電圧を印加したときの電流値が、暗所における前記Ｔｉ酸化物膜に該電圧と同じ電圧を印加したときの電流値に対して１０００倍以上であるＴｉ酸化物膜。
摘要翻译：具有亲水性和防雾性的可见光反应性Ti氧化物膜，透明性优异，具有紫外线辐射气体分解能力; 其制造方法; 和具有Ti氧化物膜的基底。提供了形成在玻璃基板上的Ti氧化物膜，其在将Ti氧化物膜暴露于100mW / cm 2以下的氙灯光的同时施加到Ti氧化物膜上，其中小于400nm的紫外线照射被切断的电流值至少为在暗处施加相同电压至Ti氧化物膜时所呈现的电流值的1000倍。

7. 发明申请

WO2004102677A1 太陽電池用透明導電性基板およびその製造方法审中-公开
标题翻译：用于太阳能电池的透明导电基板及其制造方法
公开(公告)号：WO2004102677A1
公开(公告)日：2004-11-25
申请号：PCT/JP2004/006130
申请日：2004-04-28
申请人：旭硝子株式会社 , 府川真 , 種田直樹 , 佐藤一夫
发明人：府川真 , 種田直樹 , 佐藤一夫
IPC分类号： H01L31/04
CPC分类号： C03C17/3417 , H01L31/02168 , H01L31/022466 , H01L31/02363 , H01L31/02366 , H01L31/0392 , H01L31/03921 , H01L31/076 , Y02E10/548
摘要：ヘイズ率が高く、基板全体として見た場合にヘイズ率のばらつきが少なく、かつ光透過性に優れた太陽電池用透明導電性基板及びその製造方法を提供する。　基体上に、ＴｉＯ 2 層、ＳｉＯ 2 層およびＳｎＯ 2 層が該基体側からこの順に形成されており、前記ＳｎＯ 2 膜の層厚は、０．５～０．９μｍであり、Ｃ光源ヘイズ率が２０～６０％であることを特徴とする太陽電池用透明導電性基板。
摘要翻译：公开了一种用于太阳能电池的透明导电基板，其具有在整个基板上仅改变一点的高雾度值，并且透光率优异。用于太阳能电池的透明导电基板的特征在于，在基板上依次形成TiO 2层，SiO 2层和SnO 2层，其中SnO 2层的厚度为0.5〜0.9μm， C光源雾度值为20-60％。

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