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    • 6. 发明申请
    • 冷凍装置
    • 制冷系统
    • WO2008026569A1
    • 2008-03-06
    • PCT/JP2007/066616
    • 2007-08-28
    • ダイキン工業株式会社石川 諭増田 正典樋口 順英
    • 石川 諭増田 正典樋口 順英
    • F25B41/00F01N7/02F16L55/02
    • F25B31/02F04B39/0061F25B9/008F25B13/00F25B2313/02741F25B2500/12
    •  本発明の課題は、冷媒として二酸化炭素などを採用している冷凍装置の圧力脈動を十分に低減することにある。本発明に係る冷凍装置(1)は、第1冷媒通路(204)、π型消音器(20,20a)、および第2冷媒通路(205)を備える。π型消音器は、第1消音空間(201)、第2消音空間(202)、および連通路(203,203a)を有する。第1消音空間は、第1冷媒通路と連通する。第2消音空間は、第1消音空間の下方に配置される。連通路は、第1消音空間の下端から第1消音空間の外部に向かって延び第2消音空間に連通する。第2冷媒通路は、第2消音空間の下端から延びる。
    • 使用二氧化碳等作为其压力脉动充分降低的制冷剂的制冷系统。 制冷系统(1)包括第一制冷剂路径(204),p型消声器(20,20a)和第二制冷剂路径(205)。 p型消声器具有第一沉默空间(201),第二静音空间(202)和连通路径(203,203a)。 第一沉淀空间与第一制冷剂路径连通。 第二个沉默空间被布置在第一沉默空间的下方。 通信路径从第一静音空间的下端朝向第一静音空间的外部延伸,并与第二静音空间连通。 第二制冷剂路径从第二静音空间的下端延伸。
    • 8. 发明申请
    • 回転式流体機械
    • 旋转流量计
    • WO2006006297A1
    • 2006-01-19
    • PCT/JP2005/008637
    • 2005-05-11
    • ダイキン工業株式会社増田 正典
    • 増田 正典
    • F04C18/32
    • F04C23/001F01C21/08F04C18/045F04C23/008F04C2230/602F04C2240/20
    •   環状のシリンダ室(50)を有するシリンダ(21)と、シリンダ(21)に対して偏心してシリンダ室(50)に収納され、シリンダ室(50)を外側の圧縮室(51)と内側の圧縮室(52)とに区画する環状のピストン(22)と、シリンダ室(50)に配置され、各作動室(51,52)を高圧側と低圧側とに区画するブレード(23)とを有し、シリンダ(21)とピストン(22)とが相対的に回転する回転機構(20)を備えている。そして、シリンダ室(50)は、回転時におけるシリンダ(21)の壁面とピストン(22)の壁面との間隙が所定値になるように、シリンダ室(50)の幅T1が該シリンダ室(50)の1周において変化している。更に、ピストン(22)は、回転時におけるシリンダ(21)の壁面とピストン(22)の壁面との間隙が所定値になるように、ピストン(22)の幅T2が該ピストン(22)の1周において変化している。
    • 一种旋转流体机械,包括具有环形气缸室(50)的气缸(21),与气缸(21)偏心地存储在气缸室(50)中的环形活塞(22),并将气缸室(50)分成 外部压缩室(51)和内部压缩室(52),以及设置在气缸室(50)中并将压缩室(51)和(52)分隔成高压侧的叶片(23)和 低压侧。 旋转流体机械还包括用于相对于彼此旋转气缸(21)和活塞(22)的旋转机构(20)。 气缸室(50)形成为使得气缸室(50)的宽度(T1)在气缸室(50)的一个旋转中变化,使得气缸(21)的壁面与 活塞(22)旋转的壁面成为规定值。 此外,活塞(22)形成为使得活塞(22)的宽度(T2)在活塞(22)的一个旋转中变化,使得气缸(21)的壁面与壁 旋转中的活塞(22)的表面变为规定值。