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1. 发明申请

WO2009017071A1 石英ガラスルツボの製造方法审中-公开
标题翻译：制造石英玻璃可溶性的方法
公开(公告)号：WO2009017071A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：PCT/JP2008/063443
申请日：2008-07-25
申请人：ジャパンスーパークォーツ株式会社 , 藤田剛司 , 神田稔
发明人：藤田剛司 , 神田稔
IPC分类号： C03B20/00 , C03B19/09 , C30B15/10 , C30B29/06
CPC分类号： C03B19/095 , C30B15/10
摘要：　この石英ガラスルツボの製造方法では、有底円筒状のモールドを回転させつつ、石英粉をモールドの内壁面に堆積させる堆積工程と、前記モールドの内壁面に堆積させた石英粉を加熱溶融してガラス化することにより、石英ガラスルツボを得る溶融工程とを具備し、前記堆積工程において、石英粉の静電帯電量を絶対値で１.０kV以下の範囲に制御した状態で、前記石英粉をモールドの内壁面に供給することによって、モールドの内壁面の石英粉堆積層の密度を一定範囲に維持し、石英ガラスルツボの肉厚を制御する。
摘要翻译：一种石英玻璃坩埚的制造方法，其特征在于，在使所述模具旋转的同时，在有底圆筒状模具的内壁面上沉积石英粉的沉积步骤，以及通过使沉积在所述石英玻璃坩埚上的石英粉末玻璃化来获得所述石英玻璃坩埚的熔融步骤通过加热和熔化石英粉，模具的内壁表面。在沉积步骤中，在将石英粉末的静电电荷量控制在1.0kV以下的绝对值的范围内的情况下，将石英粉施加到模具的内壁面，石英玻璃坩埚的厚度通过将模具内壁表面上的石英粉末沉积层的密度保持在一定范围内来进行控制。

2. 发明申请

WO2009041684A1 シリカガラスルツボとその製造方法および引き上げ方法审中-公开
标题翻译：二氧化硅玻璃可溶，其生产方法和拉拔方法
公开(公告)号：WO2009041684A1
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/JP2008/067651
申请日：2008-09-29
申请人：ジャパンスーパークォーツ株式会社 , 神田稔
发明人：神田稔
IPC分类号： C30B15/10 , C03B20/00
CPC分类号： C03B19/095 , C30B15/10 , C30B35/002 , Y10T117/1024
摘要：　外部輻射の熱を十分に分散でき、シリコン融液の温度ムラを防止すると共に、良好な熱伝導性を有し、シリコン融液を形成するための昇温時間が長くかからず、ルツボ全体の広い範囲で均熱状態を形成するために、外面層が気泡含有シリカガラス層によって形成されており、内面層が肉眼で気泡が観察されないシリカガラス層によって形成されているシリカガラスルツボにおいて、外面層と内面層の間に、直径１００μｍ以下の気泡を体積気泡含有率で０．１％以上含む気泡含有シリカガラス層（気泡含有層）と、体積気泡含有率０，０５％以下のシリカガラス層（透明ガラス層）が積層した中間層が介在されている。
摘要翻译：一种二氧化硅玻璃坩埚，其能够令人满意地分散外部辐射热，抑制硅熔融温度的不均匀性，并且显示出优异的导热性，并且能够在短的加热时间内形成硅熔体，并且在宽范围内形成均匀的加热状态整个坩埚，即包括由含气泡的石英玻璃制成的外表面层的石英玻璃坩埚和由无法用肉眼检测到的气泡的石英玻璃制成的内表面层，其中由层叠体制成的中间层含气泡的二氧化硅玻璃层（含气泡层）的气泡含量为0.1％以上，气泡含量为100体积％以下的石英玻璃层（透明玻璃层），其直径为100μm以下的气泡，外表面层和内面层之间存在0.05％以下。

3. 发明申请

WO2009099084A1 石英ガラスルツボ审中-公开
标题翻译： QUARTZ玻璃可溶性
公开(公告)号：WO2009099084A1
公开(公告)日：2009-08-13
申请号：PCT/JP2009/051845
申请日：2009-02-04
申请人：ジャパンスーパークォーツ株式会社 , 神田稔
发明人：神田稔
IPC分类号： C03B20/00 , C30B15/10 , C30B29/06
CPC分类号： C30B29/06 , C30B15/10
摘要：　大口径のルツボであっても、引き上げ時の高温下において内倒れ変形を生じ難い石英ガラスルツボを提供する。　石英ガラスルツボは、外面層が天然石英ガラスによって形成されており、内面層が合成石英ガラスによって形成されている。ルツボの直胴部は上方に向かって外側に開いた形状を有し、好ましくは、外開き部分の下端と上端の内径差が０.１％以上である。コーナ部の合成石英ガラス内面層の層厚は、コーナ部中央部分の肉厚の２０％以上～８０％以下であり、好ましくは、直胴部および底部の合成石英ガラス内面層がコーナ部の合成石英ガラス内面層より薄く形成されている。
摘要翻译：提供一种石英玻璃坩埚，即使具有大的开口直径，在高温下提升时也不易向内倾斜。石英玻璃坩埚由天然石英玻璃制成的外层和由合成石英玻璃制成的内层构成。坩埚的圆筒部分具有使得筒部向上加宽的形状。优选地，加宽部的下端和上端之间的内径差为0.1％以上。角部的合成石英玻璃内层的厚度为角部中心部的壁厚的20〜80％。优选地，筒部和底部的合成石英玻璃内层比角部的合成石英玻璃内层薄。

4. 发明申请

WO2009017068A1 石英ガラスルツボの製造方法および製造装置审中-公开
标题翻译：生产QUARTZ玻璃可溶物的方法和生产QUARTZ GLASS CRUCIBLE的装置
公开(公告)号：WO2009017068A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：PCT/JP2008/063439
申请日：2008-07-25
申请人：ジャパンスーパークォーツ株式会社 , 藤田剛司 , 神田稔
发明人：藤田剛司 , 神田稔
IPC分类号： C03B20/00 , C03B19/09 , C30B15/10 , C30B29/06
CPC分类号： C03B19/095 , C30B15/10
摘要：アーク溶融中に異物の混入が少なく、かつアークが安定な石英ガラスルツボの製造方法および製造装置を提供するために、アーク電極の側方からモールドの溶融空間に向かって空気を吹き出す手段と、加熱炉内の空気を排出する手段とを有し、溶融中に溶融空間に押し込み給気を行って溶融空間の気圧を溶融空間外部よりも高くし、好ましくは、溶融空間と周囲との間に１００pa以上の気圧差を形成して溶融する石英ガラスルツボの製造方法とその製造装置。
摘要翻译：本发明提供一种石英玻璃坩埚的制造方法，其不会在电弧熔融期间引起异物的显着含量并且能够实现稳定的电弧，以及石英玻璃坩埚的制造装置。在制造方法和制造装置中，设置有用于从电弧电极侧朝向模具的熔融空间吹送空气的装置，以及用于在加热炉内排出空气的装置。在熔化期间，将空气强制地供应到熔化空间中，使熔融空间内的大气压力高于熔化空间的外部。优选地，在熔融空间和熔融空间周围的位置之间设置不小于100Pa的大气压差，并且在该状态下进行熔融。

5. 发明申请

WO2009069773A1 石英ガラスルツボの製造方法および製造装置审中-公开
标题翻译：方法和装置制造QUARTZ玻璃可溶性
公开(公告)号：WO2009069773A1
公开(公告)日：2009-06-04
申请号：PCT/JP2008/071704
申请日：2008-11-28
申请人：ジャパンスーパークォーツ株式会社 , 岸弘史 , 神田稔 , 森川正樹
发明人：岸弘史 , 神田稔 , 森川正樹
IPC分类号： C03B20/00 , C30B15/10
CPC分类号： C03B19/095 , C30B15/10 , Y02P40/57
摘要：　回転モールド法による石英ガラスルツボを製造する方法において、電極をモールド中心線に対して偏った位置に設けてアーク溶融することを特徴とし、この偏芯アークによって、ルツボの直胴部、湾曲部、および底部の溶融中のガラス温度の差を３００°C以下に制御し、該直胴部および底部の透明層の層厚を、湾曲部の透明層の層厚に対して７０～１２０％に制御する石英ガラスルツボの製造方法。
摘要翻译：提供一种采用旋转成型法制造石英玻璃坩埚的方法。该方法的特征在于通过将电极布置在偏离模制中心线的位置处进行电弧熔化。偏心弧控制在直线主体部分，弯曲部分和底部部分熔化的玻璃的温度之间的玻璃温度差为300℃以下。偏心弧也控制在直的主干部分和底部处的透明层的厚度在弯曲部分处的透明层的厚度的70-120％之内。

6. 发明申请

WO2007063996A1 石英ガラスルツボとその製造方法および用途审中-公开
标题翻译： QUARTZ玻璃可溶，其生产方法和使用
公开(公告)号：WO2007063996A1
公开(公告)日：2007-06-07
申请号：PCT/JP2006/324120
申请日：2006-11-27
申请人：ジャパンスーパークォーツ株式会社 , 神田稔 , 佐藤賢
发明人：神田稔 , 佐藤賢
IPC分类号： C30B29/06 , C03B20/00 , C30B15/10
CPC分类号： C30B29/06 , C03B19/095 , C30B15/10 , Y02P40/57 , Y10T117/1032
摘要：ルツボ底部を除くルツボ直胴部に、アルミニウム等の結晶化促進成分を含む層を石英ガラス層内部に挟み込んだ構造を形成することによって、シリコン単結晶引き上げ時に、その部分の結晶化が進み、高温下でのルツボ強度が向上するので、ルツボ直胴部の変形や内倒れが生じない。従って、シリコン単結晶率を高めることができる。また、結晶化促進層は石英ガラス層内部に挟み込まれているので、シリコン融液あるいはカーボンサセプターにアルミニウムやバリウム等の結晶化促進成分が接触せず、これらの溶出による汚染を生じない。さらに、結晶化促進層はルツボ底部には設けられていないので、引き上げ終了時の熱歪みによる亀裂を生じる危険性がなく、湯漏れを生じない。
摘要翻译：一种石英玻璃坩埚，其包括底部和直筒部，所述筒部具有包括石英玻璃层的结构，并且夹在其之间，包含结晶加速成分例如铝的层。由于这种结构，当单晶硅被拉起时，在该结构中进行结晶化以提高高温坩埚强度。因此，坩埚的直筒部分既不变形也不会向内掉落。因此，可以提高硅单晶的生产率。由于结晶加速层夹在石英玻璃层之间，结晶加速成分如铝或钡不会与硅熔体或碳基体接触。因此，不会发生这些溶解的污染。坩埚底部没有结晶加速层。因此，不必担心在拉伸完成时的热应变可能引起裂纹。不发生熔体泄漏。

7. 发明申请

WO2007049811A1 シリカ粒子の精製方法と精製装置および精製シリカ粒子审中-公开
标题翻译：纯化二氧化硅颗粒，净化剂和纯化二氧化硅颗粒的方法
公开(公告)号：WO2007049811A1
公开(公告)日：2007-05-03
申请号：PCT/JP2006/322029
申请日：2006-10-25
申请人：ジャパンスーパークォーツ株式会社 , 神田稔 , 辻義行
发明人：神田稔 , 辻義行
IPC分类号： C01B33/18
CPC分类号： C01B33/18 , B01J8/1836 , B01J8/42 , B01J2208/00407 , B01J2208/00415 , B03C1/288 , B03C1/30 , B03C1/32 , B03C2201/16 , B03C2201/18 , C03C1/02
摘要：シリカ粒子を流動状態にし、高温下で流動状態のシリカ粒子に精製ガスを接触させてシリカ粒子の不純物成分を除去する精製方法において、流動状態のシリカ粒子を磁場領域内に位置させて、好ましくは、流動状態のシリカ粒子を、10ガウス以上の磁場領域内に位置させて、1000℃以上の温度下で精製ガスと接触させることによって、従来のガス精製方法の平均処理温度よりも低い1000℃～1300℃の温度下で高い精製効果を得ることができる。
摘要翻译：一种净化二氧化硅颗粒的方法，其包括使二氧化硅颗粒流化并使得到的流化二氧化硅颗粒在高温下与纯化气体接触以除去颗粒中的杂质，其中流化二氧化硅颗粒与净化气体的接触进行在流化二氧化硅颗粒置于磁场中，优选在10G或更高的磁场的状态下，在1000℃或更高的温度下进行。根据该方法，即使在1000〜1300℃的处理温度下，也可以获得高纯化效果，该处理温度低于常规气体纯化方法中使用的平均处理温度。

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