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    • 3. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MATERIALBEARBEITUNG MITTELS LASERSTRAHLUNG
    • 装置和使用的激光照射类材料处理方法
    • WO2008125173A2
    • 2008-10-23
    • PCT/EP2008/002017
    • 2008-03-13
    • CARL ZEISS MEDITEC AGBISCHOFF, MarkMÜHLHOFF, DirkSTOBRAWA, Gregor
    • BISCHOFF, MarkMÜHLHOFF, DirkSTOBRAWA, Gregor
    • A61F9/01
    • A61F9/008A61F9/00827A61F2009/00872A61F2009/00897
    • Bei einer Vorrichtung zur Materialbearbeitung mittels Laserstrahlung, mit einer abgebenden Laserstrahlquelle (S), die gepulste Laserstrahlung (3) zur Wechselwirkung mit dem Material (5) abgibt, einer die gepulste Laserstrahlung (3) in das Material (5) auf ein Wechselwirkungszentrum (7) fokussierenden Optik (6), wobei die Laserpulse in die den jeweils zugeordneten Wechselwirkungszentren (7) umgebenden Zonen (8) mit dem Material (5) wechselwirken, so daß in den Wechselwirkungszonen (8) Material (5) getrennt wird, einer die Lage des Wechselwirkungszentrums im Material (5) verstellenden Scaneinrichtung (10) und einer Steuereinrichtung (17), welche die Scaneinrichtung (10) und die Laserstrahlquelle (S) so ansteuert, daß im Material (5) durch Aneinanderreihen von Wechselwirkungszonen (8) eine Schnittfläche (9) entsteht, ist vorgesehen, daß die Steuereinrichtung (17) die Laserstrahlquelle (S) und die Scaneinrichtung (10) so ansteuert, daß benachbarte Wechselwirkungszentren (7) in einem örtlichen Abstand a ≤ 10 μm zueinander liegen.
    • 在通过用发射激光束源(S)的激光辐射的装置,用于材料处理的装置,发射所述脉冲激光辐射(3)用于与所述材料(5),脉冲激光辐射(3)在材料(5)上的交互中心(7相互作用 )聚焦光学器件(6),其中,在相应的相关联的相互作用位点的激光脉冲(7)周围的区域(8)与所述材料(5),使得(在相互作用区8)材料(5)是分离的,一个位置进行交互 在材料(5)扫描装置调节的交互中心(10)和控制装置(17),其如此控制所述扫描装置(10)和所述激光束源(S),该​​材料(5)(由衬相互作用区域(8)具有截面积 形成9),它提供的是,控制装置(17)的激光束源(S)和扫描装置(10),以便控制在一个相互作用(7)的邻接的中心 rtlichen距离A 10微米=对方。
    • 5. 发明申请
    • SCANVORRICHTUNG
    • 扫描设备
    • WO2006102971A2
    • 2006-10-05
    • PCT/EP2006/002150
    • 2006-03-09
    • CARL ZEISS MEDITEC AGHANFT, MarcoMÜHLHOFF, DirkBISCHOFF, MarkGERLACH, Mario
    • HANFT, MarcoMÜHLHOFF, DirkBISCHOFF, MarkGERLACH, Mario
    • A61F9/008G02B7/10G02B26/10
    • A61F9/0084A61F2009/00872A61F2009/00897G02B7/10G02B19/0014G02B26/10G02B26/101G02B26/105G02B27/0025G02B27/10
    • Eine Scanvorrichtung zur Fokussierung eines Strahlenbündels (3) in vorgegebene Bereiche eines vorgegebenen Volumens umfaßt eine Eingangsoptik (6), in die das Strahlenbündel (3) zuerst eintritt und die wenigstens ein erstes optisches Element (11) aufweist, eine Fokussieroptik (8) mittels derer das aus der Eingangsoptik (6) ausgetretene Strahlenbündel (3) fokussierbar ist, und eine zwischen dem ersten optischen Element (11) und der Fokussieroptik (8) angeordnete Ablenkeinrichtung (7) zur Ablenkung des Strahlenbündels (3) nach passieren des ersten optischen Elements (11) entsprechen einer einzustellenden Lage des Fokus in lateraler Richtung, wobei zur Einstellung der Lage des Fokus des Strahlenbündels (3) in Richtung des Strahlenbündels wenigstens ein optisches Element (11) der Eingangsoptik (6) relativ zu der Ablenkeinrichtung (7) bewegbar ist.
    • 用于聚焦Strahlenb导航用途ndels(3)覆盖的预定体积的预定区域大街的扫描装置;吨的输入光学器件(6),其中,所述Strahlenb BUNCH(3)配备第一和所述至少一个第一 光学元件(11),聚焦光学系统(8),借助于该泄露来自输入光学器件选择(6)Strahlenb BUNCH(3)是可聚焦的,并且所述第一光学元件(11)之间,并且,所述聚焦透镜(8),设置导流板( 7)用于偏转Strahlenb导航用途ndels(3),以通过对应于在横向方向上的焦点的调整后的位置的第一光学元件(11),用于在Strahlenb导航用途ndels的方向调整Strahlenb导航用途ndels(3)的焦点的位置 输入光学元件(6)的至少一个光学元件(11)可相对于偏转装置(7)移动,

    • 7. 发明申请
    • ANORDNUNG ZUM PROJIZIEREN EINES BILDES AUF EINE PROJEKTIONSFLÄCHE
    • 安排将图像投影到的投影
    • WO2002100113A2
    • 2002-12-12
    • PCT/EP2002/006124
    • 2002-06-04
    • CARL ZEISS JENA GMBHMÜHLHOFF, DirkRUDOLPH, GünterPIEHLER, Eberhard
    • MÜHLHOFF, DirkRUDOLPH, GünterPIEHLER, Eberhard
    • H04N9/31
    • G02B17/008G02B13/16G02B17/0615G02B17/0812G02B17/0856G02B17/086G02B27/1026G02B27/149H04N5/7416H04N9/3105
    • Bei einer Anordnung zum Projizieren eines Bildes auf eine Projektionsfläche, mit einer Lichtquelle (1), die Licht abgibt, mit dem ein leuchtendes Feld (3) erzeugbar ist, einem reflektiven Lichtmodulator (12; 13; 14), der mit vom leuchtenden Feld (3) ausgehenden Licht beaufschlagbar ist und dieses zum Erzeugen eines Bildes moduliert, und weiter mit einer dem Lichtmodulator (12; 13; 14) nachgeschalteten Projektionsoptik (16), die mit dem modulierten Licht beaufschlagbar ist, um das Bild auf die Projektionsfläche (17) zu projizieren, ist dem Lichtmodulator (12; 13; 14) eine Optikeinrichtung (7; 23; 31; 33; 34) vorgeschaltet, die einerseits das vom leuchtenden Feld (3) kommende Licht auf den Lichtmodulator ( 12; 13; 14) und andererseits das mittels des Lichtmodulators (12; 13; 14) modulierte Licht in eine der Projektionsoptik (16) vorgeschaltete Zwischenbildebene (ZE) abbildet, um in der Zwischenbildebene (ZE) ein Zwischenbild zu erzeugen, das von der Projektionsoptik auf die Projektionsfläche projiziert werden kann.
    • 在用于将图像投影到投影表面上,包括:光源(1),其发射与发光区域(3)可以产生光,反射光调制器(12; 13; 14)的装置(与亮场 3)的出射光可被作用,并调节这对形成的图像,并且还包括在所述光调制器(12; 13;下游14)投影光学器件(16),其经调制光作用于图象(在屏幕17上) 项目,是在光调制器(12; 13; 14)的光学装置(7; 23; 31; 33; 34)的上游连接,在一方面,所述发光区域(3)来的光到光调制器(12; 13; 14)和 在另一方面由光调制器的装置(12; 13; 14)调制的光的投影光学系统中的一个(16)上游的中间像平面(ZE)映射到在中间像平面(ZE),以在投影生成投影光学系统的中间图像 表面可以被投影。
    • 8. 发明申请
    • NACHBEHANDLUNG BEI AUGENCHIRURGISCHER REFRAKTIONSKORREKTUR
    • 治疗眼睛屈光手术
    • WO2008131878A1
    • 2008-11-06
    • PCT/EP2008/003161
    • 2008-04-18
    • CARL ZEISS MEDITEC AGBISCHOFF, MarkMÜHLHOFF, DirkSTOBRAWA, Gregor
    • BISCHOFF, MarkMÜHLHOFF, DirkSTOBRAWA, Gregor
    • A61F9/01A61B19/00
    • A61F9/008A61F9/00827A61F9/00831A61F9/00836A61F2009/00872A61F2009/0088
    • Es wird bereitgestellt eine Planungseinrichtung zum Erzeugen von Steuerdaten für eine Behandlungsvorrichtung (1) zur Refraktion korrigierenden Augenchirurgie, die mittels einer Lasereinrichtung (4) durch zumindest eine Schnittfläche (20, 23) in einer Augen-Hornhaut (17) ein zur Korrektur zu entnehmendes Hornhaut-Volumen (21) von der umgebenden Hornhaut (5) trennt, wobei die Planungseinrichtung (16) eine Schnittstelle (29) zum Zuführen von Hornhaut-Daten aufweist, die Angaben über voroperative Schnitte (30) enthalten, welchen in einem vorherigen, augenchirurgischen Eingriff erzeugt wurden, und Berechnungsmittel zum Festlegen einer Hornhaut-Schnittfläche (22, 23) aufweist, die das zu entnehmende Hornhaut-Volumen (21) begrenzt, wobei die Berechnungsmittel die Hornhaut-Schnittfläche (22, 23) basierend auf den Hornhaut-Daten festlegen, und für die Hornhaut-Schnittfläche (22, 23) einen Steuerdatensatz zur Ansteuerung der Lasereinrichtung (4) erzeugen.
    • 还有就是,由激光装置(4)的装置通过在所述眼睛的角膜的至少一个切口表面(20,23)用于校正角膜(17)entnehmendes提供了一种用于生成控制数据,用于折射矫正眼外科手术系统中的处理装置(1)的调度 和从周围角膜(5),其中,所述规划装置(16)包括用于供应含有约手术前部(30)的信息数据的角膜,接口(29)的体积(21),其在先前的,眼科手术 产生,以及计算装置,用于确定角膜切割面(22,23),其限制了要除去角膜体积(21),其中,所述计算装置计算的角膜切割表面(22,23)基于所述角膜的数据集, 和角膜截面面积(22,23)生成一组控制数据的用于控制激光器装置(4)。
    • 10. 发明申请
    • VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MATERIALBEARBEITUNG MITTELS LASERSTRAHLUNG
    • 装置和使用的激光照射类材料处理方法
    • WO2007042190A2
    • 2007-04-19
    • PCT/EP2006/009600
    • 2006-10-04
    • CARL ZEISS MEDITEC AGBISCHOFF, MarkMÜHLHOFF, DirkSTOBRAWA, Gregor
    • BISCHOFF, MarkMÜHLHOFF, DirkSTOBRAWA, Gregor
    • A61F9/011
    • A61F9/008A61F9/00827A61F2009/00872
    • Bei einer Vorrichtung zur Materialbearbeitung mittels Laserstrahlung, mit einer abgebenden Laserstrahlquelle (S), die gepulste Laserstrahlung (3) zur Wechselwirkung mit dem Material (5) abgibt, einer die gepulste Laserstrahlung (3) in das Material (5) auf ein Wechselwirkungszentrum (7) fokussierenden Optik (6), wobei die Laserpulse in die den jeweils zugeordneten Wechselwirkungszentren (7) umgebenden Zonen (8) mit dem Material (5) wechselwirken, so daß in den Wechselwirkungszonen (8) Material (5) getrennt wird, einer die Lage des Wechselwirkungszentrums im Material (5) verstellenden Scaneinrichtung (10) und einer Steuereinrichtung (17), welche die Scaneinrichtung (10) und die Laserstrahlquelle (S) so ansteuert, daß im Material (5) durch Aneinanderreihen von Wechselwirkungszonen (8) eine Schnittfläche (9) entsteht, ist vorgesehen, daß die Steuereinrichtung (17) die Laserstrahlquelle (S) und die Scaneinrichtung (10) so ansteuert, daß benachbarte Wechselwirkungszentren (7) in einem örtlichen Abstand a ≤ 10 μm zueinander liegen.
    • 在通过用发射激光束源(S)的激光辐射的装置,用于材料处理的装置,发射所述脉冲激光辐射(3)用于与所述材料(5),脉冲激光辐射(3)在材料(5)上的交互中心(7相互作用 )聚焦光学器件(6),其中,在相应的相关联的相互作用位点的激光脉冲(7)周围的区域(8)与所述材料(5),使得(在相互作用区8)材料(5)是分离的,一个位置进行交互 在材料(5)扫描装置调节的交互中心(10)和控制装置(17),其如此控制所述扫描装置(10)和所述激光束源(S),该​​材料(5)(由衬相互作用区域(8)具有截面积 形成9),它提供的是,控制装置(17)的激光束源(S)和扫描装置(10),以便控制在一个相互作用(7)的邻接的中心 rtlichen距离A 10微米=对方。