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1. 发明申请

WO2005029052A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INSPEKTION EINES WAFERS 审中-公开
标题翻译：方法和设备检查的晶片
公开(公告)号：WO2005029052A1
公开(公告)日：2005-03-31
申请号：PCT/EP2004/051946
申请日：2004-08-27
申请人： LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH , KREH, Albert , BACKHAUSS, Henning
发明人： KREH, Albert , BACKHAUSS, Henning
IPC分类号： G01N21/95
CPC分类号： G06T7/0004 , G01N21/9501 , G02B21/0016 , G02B21/36 , G06T2207/30148
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Inspektion eines Wafers. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte: Beleuchten zumindest eines Abschnittes einer Oberfläche des Wafers; Erfassen eines Bildes des beleuchteten Abschnittes der Oberfläche des Wafers mit einer Bilderfassungseinrichtung; Bestimmen zumindest eines Bildbereichs in dem erfassten Bild; und Ändern einer Grösse eines Bildfeldes der Bilderfassungseinrichtung auf der Grundlage des zumindest einen Bildbereichs. Zur Bestimmung des Bildbereiches sucht eine Mustererkennungssoftware nach markanten Strukturen in dem erfassten Bild. Durch Ändern der Bildfeldgrösse kann wahlweise der Durchsatz oder die Auflösung einer Wafer- Inspektionsvorrichtung optimiert werden und kann das Bildfeld stets optimal an die Shotgrösse des Wafers angepasst werden.
摘要翻译：本发明涉及一种方法和用于检查晶片的装置。该方法包括以下步骤：至少照射晶片的表面的一部分; 捕捉与图像捕捉设备的晶片的表面的被照射部分的图像; 确定在捕获图像中的至少一个图像区域; 和所述至少一个图像区域的基础上改变大小的图像捕获的图像场的装置。对于图像区域模式识别软件的决心寻找拍摄的图像中突出的结构。当改变吞吐量的场尺寸或晶片检查设备的溶解可任选地被优化，并且能够最优地适合于所述晶片的注入量，总是像场。

2. 发明申请

WO2005004208A3 WAFER INSPECTION DEVICE 审中-公开
标题翻译：晶圆检查设备
公开(公告)号：WO2005004208A3
公开(公告)日：2005-06-09
申请号：PCT/EP2004050765
申请日：2004-05-12
申请人： LEICA MICROSYSTEMS , HALAMA MICHAEL , KREH ALBERT , SCHMIDT GUENTER
发明人： HALAMA MICHAEL , KREH ALBERT , SCHMIDT GUENTER
IPC分类号： G01R31/28 , H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/00 , G01R1/067 , G03F7/20
CPC分类号： H01L21/6838 , G01R31/2891 , H01L21/67784 , H01L21/682
摘要： The invention relates to a wafer inspection device (1). Said device comprises an air-cushioned table (2), which can be displaced in two directions (X,Y) that are perpendicular to one another. Several air nozzles (12, 14) are provided for this purpose. At least one valve (29) is connected to at least one electric control unit (27), said valve (29) being configured in such a way that a normal pressure prevails in the air nozzles (12, 14), when the electric control unit (27) delivers a corresponding signal.
摘要翻译：公开了一种用于晶片检查的装置（1）。可在相互垂直的两个方向（X，Y）上移动的桌子（2）是空气轴承。为此目的，提供了多个空气喷嘴（12,14）。至少一个阀（29）被连接到至少一个电控制单元（27），所述阀（29）被设计成使得所述空气喷嘴（12，14）正常压力占优势时，电控单元（27）提供了一个相应的信号，

3. 发明申请

WO2005004208A2 VORRICHTUNG ZUR WAFERINSPEKTION 审中-公开
标题翻译：装置晶片检测
公开(公告)号：WO2005004208A2
公开(公告)日：2005-01-13
申请号：PCT/EP2004/050765
申请日：2004-05-12
申请人： LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH , HALAMA, Michael , KREH, Albert , SCHMIDT, Guenter
发明人： HALAMA, Michael , KREH, Albert , SCHMIDT, Guenter
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/6838 , G01R31/2891 , H01L21/67784 , H01L21/682
摘要： Es ist eine Vorrichtung (1) zur Waferinspektion offenbart. Ein in zwei senkrecht zueinander angeordneten Richtungen (X,Y) verfahrbarer Tisch (2) ist luftgelagert. Hierzu sind mehrere Luftdüsen (12, 14) vorgesehen. Mindestens ein Ventil (29) ist mit mindestens einer elektrischen Steuereinheit (27) verbunden, wobei das Ventil (29) derart ausgestaltet ist, dass an den Luftdüsen (12, 14) Normaldruck vorherrscht, wenn die elektrische Steuereinheit (27) ein entsprechendes Signal liefert.
摘要翻译：它是（1）公开了用于晶片检查的装置。甲安排在两个相互垂直的方向（X，Y）可移动台（2）是气承。为了这个目的，多个空气喷嘴（12，14）。至少一个阀（29）被连接到至少一个电控制单元（27），所述阀（29）被设计成使得所述空气喷嘴（12，14）正常压力占优势时，电控单元（27）提供了一个相应的信号，

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