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1. 发明申请

WO2007025746A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR INTERFEROMETRISCHEN MESSUNG VON PHASENMASKEN 审中-公开
标题翻译：设备和方法测量干涉相位面具
公开(公告)号：WO2007025746A1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：PCT/EP2006/008502
申请日：2006-08-31
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , HAIDNER, Helmut , WEGMANN, Ulrich
发明人： HAIDNER, Helmut , WEGMANN, Ulrich
IPC分类号： G01J9/02 , G01B9/02
CPC分类号： G01J9/02 , G01J9/0215 , G03F1/26 , G03F1/84 , G03F7/70283 , G03F7/70591
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein entsprechendes Verfahren zur interferometrischen Messung von Phasenmasken, insbesondere aus der Lithographie. Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur interferometrischen Messung von Phasenmasken (4) wird die durch eine Kohärenzmaske (1 ) durchtretende Strahlung durch ein Beugungsgitter (3) zur Interferenz gebracht, wobei in oder nahe der Pupillenebene der ersten Abbildungsoptik (2) eine Phasenmaske (4) angeordnet wird, die in x-y-Richtung exakt positionierbar ist, von der durch translatorische Verschiebung der Kohärenzmaske (1 ) oder des Beugungsgitters (3) in x-y-Richtung phasengeschobene Interferogramme erzeugt und über eine zweite Abbildungsoptik (5) auf den ortsauflösenden Detektor (6) abgebildet und von einer Auswerteeinheit die Phasen- und Transmissionsfunktion der Phasenmaske bestimmt werden. Obwohl die vorgeschlagene Lösung insbesondere zur interferometrischen Messung von photolithografischen Phasenmasken vorgesehen ist, kann die Lösung natürlich allgemein auf planare Phasenobjekte, wie beispielsweise biologische Strukturen angewendet werden, wobei sich hierbei Anknüpfungspunkte zu einem Interferenzmikroskop ergeben.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，并从用于光刻相位掩模的干涉测量的相应的方法，尤其如此。在由相干掩模（1）通过辐射通过衍射使光栅（3）带到干扰对相位掩膜（4）的干涉测量本发明的装置，由此在或第一成像光学系统的光瞳平面附近（4），其布置的相位掩模（2）的是，精确地定位在由相干掩模（1）的平移位移的XY方向或衍射光栅（3）在xy方向上的相位产生移动的并经由空间分辨检测器上的第二成像光学元件（5）干涉（6）准备和由相位掩模的评估阶段和传输函数来确定。虽然提出的解决方案是特别提供了一种用于相光刻掩模的干涉测量，溶液可以，当然，通常，与此导致平面相的物体，如生物结构被施加到干涉显微镜的点。

2. 发明申请

WO2012041458A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：用于微结构曝光的投影曝光工具和微观曝光方法
公开(公告)号：WO2012041458A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004743
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GÖPPERT, Markus , HAIDNER, Helmut , HETTICH, Carmen
发明人： GÖPPERT, Markus , HAIDNER, Helmut , HETTICH, Carmen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70783 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (210) for microlithography configured for exposing a substrate (20) to be structured by respective imaging of mask structures of a reticle (214) comprising at least one layer onto different regions of the substrate (20) in a number of exposure steps, comprising: irradiation optics (213) configured to irradiate a front side (216) of the reticle with exposure radiation (226) during teh exposure of the substrate (20), a measuring apparatus (240) for taking a topography measurement on the reticle layer, which measuring apparatus (240) is arranged to irradiate measuring light onto a rear side (215) of teh reticel (214), and a control apparatus (60) which is configured to control the measuring apparatus (40) such that during the period of time required to expose the substrate the topography of at least one section of the reticle layer is measured.
摘要翻译：一种用于微光刻的投影曝光工具（210），其被配置用于通过将包括至少一层的掩模版（214）的掩模结构的各个成像在多个曝光步骤，包括：被配置为在所述基板（20）的曝光期间照射所述掩模版的前侧（216）的曝光辐射（226）的照射光学器件（213），用于对所述基板所述测量装置（240）被布置成将测量光照射到网状物（214）的后侧（215）上的掩模版层和被配置为控制测量装置（40）的控制装置（60），使得在曝光衬底所需的时间段期间，测量标线片层的至少一个部分的形貌。

3. 发明申请

WO2012168272A1 MEASURING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：测量系统
公开(公告)号：WO2012168272A1
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：PCT/EP2012/060649
申请日：2012-06-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GÖPPERT, Markus , HAIDNER, Helmut , FREIMANN, Rolf , STRIEBEL, Christoph
发明人： GÖPPERT, Markus , HAIDNER, Helmut , FREIMANN, Rolf , STRIEBEL, Christoph
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/00 , G01B11/02 , G01M11/0264 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： An objective (27) for a projection exposure apparatus (1) comprises a metrology stage (30) arranged on the objective frame (28).
摘要翻译：投影曝光装置（1）的物镜（27）包括设置在物镜（28）上的计量台（30）。

4. 发明申请

WO2006002859A3 ILLUMINATION SOURCE, WAVEFRONT MEASURING DEVICE AND MICROLITHOGRAPHY PROJECTION ILLUMINATION DEVICE 审中-公开
标题翻译：照明光源波前测量装置和微型投影光刻曝光系统
公开(公告)号：WO2006002859A3
公开(公告)日：2006-06-22
申请号：PCT/EP2005006918
申请日：2005-06-28
申请人： ZEISS CARL SMT AG , DAHL MANFRED , GOEPPERT MARKUS , HAIDNER HELMUT , MENGEL MARKUS , KAUFMANN PAUL , SCHUHMACHER DAGMAR , WEGMANN ULRICH
发明人： DAHL MANFRED , GOEPPERT MARKUS , HAIDNER HELMUT , MENGEL MARKUS , KAUFMANN PAUL , SCHUHMACHER DAGMAR , WEGMANN ULRICH
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70008 , G03F7/70375 , G03F7/706
摘要： The invention relates to an illumination source for providing three-dimensionally structured illumination radiation, in particular in the EUV wavelength range, to a wavefront measuring device, which is provided with an illumination source of this type and to a projection illumination system for microlithography. The inventive illumination source comprises: a particle radiation source (11), an illumination mask (4c), which is covered by a structured or unstructured target material (8c) that emits the illumination radiation a) when bombarded with a particle beam (13) emitted by the particle radiation source. The invention can be used e.g. for the wavefront measurement of optical reproduction systems of microlithography systems, whose operating wavelength lies in the EUV wavelength range.
摘要翻译：本发明涉及的照明源为在EUV波长范围内提供一个空间结构照明辐射，特别是，和一个这样配备的波前测量装置和相应的微光刻Projektionsbelichtungsanlage.Die发明提出用粒子束源（11），照明掩模（图4c的照明源），它（具有结构化或非结构化靶材料8c）的忙，通过从粒子束源（13发射粒子束轰击后发射）时，照射辐射（a）中。例如使用对于在EUV波长范围内操作微光刻系统的光学成像系统的波前测量，其中，所述工作波长。

5. 发明申请

WO2006002859A2 BELEUCHTUNGSQUELLE, WELLENFRONTVERMESSUNGSVORRICHTUNG UND MIKROLITHOGRAFIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：照明源，波前测量装置和显微投影曝光装置
公开(公告)号：WO2006002859A2
公开(公告)日：2006-01-12
申请号：PCT/EP2005/006918
申请日：2005-06-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DAHL, Manfred , GOEPPERT, Markus , HAIDNER, Helmut , MENGEL, Markus , KAUFMANN, Paul , SCHUHMACHER, Dagmar , WEGMANN, Ulrich
发明人： DAHL, Manfred , GOEPPERT, Markus , HAIDNER, Helmut , MENGEL, Markus , KAUFMANN, Paul , SCHUHMACHER, Dagmar , WEGMANN, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70008 , G03F7/70375 , G03F7/706
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Beleuchtungsquelle zur Bereitstellung einer räumlich strukturierten Beleuchtungsstrahlung, insbesondere im EUV-Wellenlängenbereich, und auf eine damit ausgerüstete Wellenfrontvermessungsvorrichtung und auf eine entsprechende Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage.Die Erfindung schlägt eine Beleuchtungsquelle mit einer Teilchenstrahlquelle (11), einer Beleuchtungsmaske (4c), die mit einem strukturierten oder unstrukturierten Targetmaterial (8c) belegt ist, das bei Beschuss durch einen von der Teilchenstrahlquelle emittierten Teilchenstrahl (13) die Beleuchtungsstrahlung (a) emittiert. Verwendung z.B. zur Wellenfrontvermessung optischer Abbildungssysteme von Mikrolithografiesystemen, die im EUV-Wellenlängenbereich arbeiten, bei deren Betriebswellenlänge.
摘要翻译：
本发明涉及的照明源，用于提供A R AUML;空间结构化照明辐射，特别是在EUV波长BEAR长度范围内，并且一个这样对准导航使用恒定波前测量装置和相应的微光刻Projektionsbelichtungsanlage.Die发明 SCHL BEAR GT与具有结构化或非结构化的靶材料的粒子射线源（11），照明掩模（图4c）的照明源（图8C）为满时，当通过从粒子束粒子束发射的光轰击（13）射出的照明辐射的（a），使用例如适用于在EUV波长范围工作的微光刻系统的光学成像系统的波前测量，在其工作波长处

6. 发明申请

WO2009146855A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN EINER OPTISCHEN EIGENSCHAFT EINES OPTISCHEN SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：方法和设备确定光学系统的光学特性
公开(公告)号：WO2009146855A1
公开(公告)日：2009-12-10
申请号：PCT/EP2009/003853
申请日：2009-05-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HAIDNER, Helmut , DRESSEN, Martin , TUERKE, Diana
发明人： HAIDNER, Helmut , DRESSEN, Martin , TUERKE, Diana
IPC分类号： G01M11/02 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G01M11/0264 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/706
摘要： Ein Verfahren zum Bestimmen einer optischen Eigenschaft eines optischen Systems (12) umfasst die Schritte: Einstrahlen elektromagnetischer Strahlung (17) auf das optische System (12), Erfassen der elektromagnetischen Strahlung (17) mittels eines Detektors (36) nach Wechselwirkung derselben mit dem optischen System (12), periodisches Unterbrechen der elektromagnetischen Strahlung (17), so dass die elektromagnetische Strahlung (17) in zeitlich begrenzten Strahlungspaketen auf den Detektor (36) auftrifft, sowie Auswerten von mindestens zwei vom Detektor (36) erfassten Strahlungspaketen zum Bestimmen der optischen Eigenschaft des optischen Systems (12).
摘要翻译：一种用于确定光学系统（12）的光学特性的方法包括照射的电磁辐射（17）到所述光学系统（12）检测所述电磁辐射（17）的步骤，通过根据它们与光相互作用的检测器（36）的装置系统（12），周期性地中断的电磁辐射（17），以使电磁辐射（17）在时间限制的辐射的数据包的检测器上（36）入射，并且至少两个评价从检测器（36）检测到的辐射的数据包，用于确定光学所述光学系统（12）的属性。

7. 发明申请

WO2006097330A1 METHODS AND APPARATUS FOR MEASURING WAVEFRONTS AND FOR DETERMINING SCATTERED LIGHT, AND RELATED DEVICES AND MANUFACTURING METHODS 审中-公开
标题翻译：用于测量波形和确定散射光的方法和装置，以及相关设备和制造方法
公开(公告)号：WO2006097330A1
公开(公告)日：2006-09-21
申请号：PCT/EP2006/002494
申请日：2006-03-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EMER, Wolfgang , HAIDNER, Helmut , WEGMANN, Ulrich
发明人： EMER, Wolfgang , HAIDNER, Helmut , WEGMANN, Ulrich
CPC分类号： G03F7/706 , G01J9/0215 , G03F7/70941
摘要： 1. Methods and apparatus for measuring wavefronts and for de-termining scattered light, and related devices and manufacturing methods. 2.1. The invention relates to a method and apparatus for spatially resolved wavefront measurement on a test specimen, a method and apparatus for spatially resolved scattered light determination, a dif-fraction structure support and a coherent structure support therefor, and also to an objective or other radiation exposure device manufac-tured using such a method, and an associated manufacturing method. 2.2. An embodiment of the invention involves carrying out, for the wavefront measurement, a first shearing measuring operation, which comprises a plurality of individual measurements with at least two first shearing directions and spatially resolved detection of shearing interferograms generated, and an analogous second shearing measuring operation with at least one second shearing direction, at least one second shearing direction being non-parallel to at least one first shearing direction. From the shearing interferograms de-tected, it is possible e.g. to determine a wavefront spatial frequency spectrum and/or a point response of the test specimen and to carry out a spatially resolved scattered light determination by means of the point spread function. 2.3. Use e.g. for the spatially resolved scattered light determination of projection objectives for microlithography.
摘要翻译： 1.波前测量和散射光测定方法及装置及相关装置及制造方法。 2.1。本发明涉及一种用于测试样本上的空间分辨波前测量的方法和装置，用于空间分辨散射光测定的方法和装置，二维分数结构支持及其相干结构支持，以及目标或其他辐射使用这种方法制造曝光装置，以及相关的制造方法。 2.2。本发明的一个实施例涉及对于波前测量执行第一剪切测量操作，该测量操作包括具有至少两个第一剪切方向的多个单独测量并且产生的剪切干涉图的空间分辨检测以及类似的第二剪切测量操作具有至少一个第二剪切方向，至少一个第二剪切方向不平行于至少一个第一剪切方向。从剪切干涉图可以看出，以确定测试样本的波前空间频谱和/或点响应，并且通过点扩散函数进行空间分辨的散射光确定。 2.3。使用例如用于空间分辨散射光确定微光刻的投影物镜。

8. 发明申请

WO2003087945A3 INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2003087945A3
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：PCT/EP2003/003566
申请日：2003-04-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Messvorrichtung zur interferometrischen Vermessung eines optischen Abbildungssystems, das zur Abbildung eines an einer Maske vorgesehenen Nutzmusters in die Bildebene des Abbildungssystems vorgesehen ist, hat eine Wellenfrontquelle zur Erzeugung mindestens einer das Abbildungssystem durchlaufenden Wellenfront, ein hinter dem Abbildungssystem anordenbares Beugungsgitter zur Wechselwirkung mit der vom dem Abbildungssystem umgeformten Wellenfront und einen dem Beugungsgitter zugeordneten, ortsauflösenden Detektor zur Erfassung von interferometrischer Information. Die Wellenfrontquelle umfasst mindestens ein Messmuster (34), das zusätzlich zu dem Nutzmuster (35) an der Maske (8) ausgebildet ist.

9. 发明申请

WO2012041458A3 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：用于微结构曝光的投影曝光工具和微观曝光方法
公开(公告)号：WO2012041458A3
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：PCT/EP2011004743
申请日：2011-09-22
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH , GOEPPERT MARKUS , HAIDNER HELMUT , HETTICH CARMEN
发明人： GOEPPERT MARKUS , HAIDNER HELMUT , HETTICH CARMEN
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70783 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (210) for microlithography configured for exposing a substrate (20) to be structured by respective imaging of mask structures of a reticle (214) comprising at least one layer onto different regions of the substrate (20) in a number of exposure steps, comprising: irradiation optics (213) configured to irradiate a front side (216) of the reticle with exposure radiation (226) during the exposure of the substrate (20), a measuring apparatus (240) for taking a topography measurement on the reticle layer, which measuring apparatus (240) is arranged to irradiate measuring light onto a rear side (215) of the reticel (214), and a control apparatus (60) which is configured to control the measuring apparatus (40) such that during the period of time required to expose the substrate the topography of at least one section of the reticle layer is measured.
摘要翻译：一种用于微光刻的投影曝光工具（210），其被配置用于通过将包括至少一层的掩模版（214）的掩模结构的各个成像在多个曝光步骤，包括：被配置为在所述基板（20）的曝光期间照射所述掩模版的前侧（216）的曝光辐射（226）的照射光学器件（213），用于对所述基板所述测量装置（240）布置成将测量光照射到所述网状物（214）的后侧（215）上的所述掩模版层和控制装置（60），其被配置为控制所述测量装置（40），使得在曝光衬底所需的时间段期间，测量标线片层的至少一个部分的形貌。

10. 发明申请

WO2012072090A1 METHOD OF DETERMINING A BORDER OF AN INTENSITY DISTRIBUTION 审中-公开
标题翻译：确定强度分布边界的方法
公开(公告)号：WO2012072090A1
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：PCT/EP2010/007219
申请日：2010-11-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HAIDNER, Helmut , HOCH, Rainer
发明人： HAIDNER, Helmut , HOCH, Rainer
IPC分类号： G01J9/02 , G03F7/20 , G01M11/02
CPC分类号： G01J9/0215 , G03F7/706
摘要： A method of determining a border (50) of an intensity distribution (48) on a detection surface (42) is provided, the intensity distribution (48) being generated by electromagnetic radiation after having passed through an optical system (12) and being recorded by a wave front measuring apparatus (10) for measuring a wave front distribution of the radiation. The intensity distribution (48) is blurred in the region of the border (50) due to spurious radiation (32b, 32c, 32d). The method comprises the steps of: identifying a parameter relating to the configuration of the wave front measuring apparatus (10) and influencing the generation of the spurious radiation, determining an influence of the identified parameter on the blurring of the recorded intensity distribution (48), and determining the border (50) of the intensity distribution from the recorded intensity distribution (48) taking the determined influence on the blurring into account.
摘要翻译：提供了一种确定检测表面（42）上的强度分布（48）的边界（50）的方法，所述强度分布（48）是在通过光学系统（12）并被记录之后由电磁辐射产生的通过用于测量辐射的波前分布的波前测量装置（10）。强度分布（48）由于杂散辐射（32b，32c，32d）在边界区域（50）中模糊。该方法包括以下步骤：识别与波前测量装置（10）的配置相关的参数并影响杂散辐射的产生，确定所识别的参数对所记录的强度分布的模糊的影响（48）并且考虑到对模糊的确定的影响，从记录的强度分布（48）确定强度分布的边界（50）。

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