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    • 1. 发明申请
    • RISK PROGNOSIS METHOD FOR CHRONIC LYMPHOCYTIC LEUKEMIA
    • 慢性淋巴细胞白血病风险预测方法
    • WO2011138429A1
    • 2011-11-10
    • PCT/EP2011/057290
    • 2011-05-06
    • Ludwig-Maximilians-Universität MünchenHEROLD, TobiasJURINOVIC, VindiBUSKE, ChristianBOHLANDER, Stefan
    • HEROLD, TobiasJURINOVIC, VindiBUSKE, ChristianBOHLANDER, Stefan
    • C12Q1/68
    • C12Q1/6886C12Q2600/118C12Q2600/136C12Q2600/158
    • The present invention relates to a kit consisting of or comprising nucleic acid molecules specific for the expression product of at least two genes selected from the group consisting of (i) NRIP1; (ii) SFTPB; (iii) PLEKHA1; (iv) PDE8A; (v) TCF7; (vi) MGC29506; (vii) MSI2; and (viii) one gene selected from the group consisting of MGAT4A, NELL2, BCL1 1 B, CD247, SORL1, KLRB1, IL7R, RUNX2, MAL, RASGRF2, TIAM1, PRKCH, FNIP2, GIMAP7, PAG1, ITK, IL2RB, SATB1, PRKCQ, TRAT1, CLEC4A, wherein each of the nucleic acid molecules has a length of at least 8 nucleotides. The present invention further relates to a kit consisting of or comprising nucleic acid molecules specific for the expression product of at least one reference gene and nucleic acid molecules specific for the expression product of at least two genes selected from the group consisting of (i) NRIP1; (ii) SFTPB; (iii) PLEKHA1; (iv) PDE8A; (v) TCF7; (vi) MGC29506; (vii) MSI2; and (viii) one gene selected from the group consisting of MGAT4A, NELL2, BCL1 1 B, CD247, SORL1, KLRB1, IL7R, RUNX2, MAL, RASGRF2, TIAM1, PRKCH, FNIP2, GIMAP7, PAG1, ITK, IL2RB, SATB1, PRKCQ, TRAT1, CLEC4A, wherein each of the nucleic acid molecules has a length of at least 8 nucleotides. The present invention further relates to a method of diagnosing a patient suffering from chronic lymphocytic leukemia as being a poor prognosis or good prognosis patient.
    • 本发明涉及一种试剂盒,其由选自以下的至少两种基因的表达产物特异的核酸分子组成或包含:(i)NRIP1; (ii)SFTPB; (iii)PLEKHA1; (四)PDE8A; (v)TCF7; (vi)MGC29506; (vii)MSI2; 和(viii)选自MGAT4A,NELL2,BCL1B,CD247,SORL1,KLRB1,IL7R,RUNX2,MAL,RASGRF2,TIAM1,PRKCH,FNIP2,GIMAP7,PAG1,ITK,IL2RB,SATB1, PRKCQ,TRAT1,CLEC4A,其中每个核酸分子具有至少8个核苷酸的长度。 本发明还涉及由至少一个参照基因的表达产物特异性的核酸分子和至少两种选自下组的表达产物特异性的核酸分子组成的试剂盒:(i)NRIP1 ; (ii)SFTPB; (iii)PLEKHA1; (iv)PDE8A; (v)TCF7; (vi)MGC29506; (vii)MSI2; 和(viii)选自MGAT4A,NELL2,BCL1B,CD247,SORL1,KLRB1,IL7R,RUNX2,MAL,RASGRF2,TIAM1,PRKCH,FNIP2,GIMAP7,PAG1,ITK,IL2RB,SATB1, PRKCQ,TRAT1,CLEC4A,其中每个核酸分子具有至少8个核苷酸的长度。 本发明还涉及诊断患有慢性淋巴细胞白血病的患者作为不良预后或良好的预后患者的方法。
    • 2. 发明申请
    • VORRICHTUNG ZUM BEHANDELN EINER INNEREN OBERFLÄCHE EINES WERKSTÜCKS
    • 设备技术处理工件的内表面
    • WO2009127540A1
    • 2009-10-22
    • PCT/EP2009/054028
    • 2009-04-03
    • PLASMATREAT GMBHBUSKE, ChristianFÖRNSEL, Peter
    • BUSKE, ChristianFÖRNSEL, Peter
    • H05H1/34C23C4/16
    • H05H1/34C23C16/045C23C16/513H05H1/48
    • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1,20,40,60,80,90) zum Behandeln einer inneren Oberfläche (O) eines Werkstücks (W), mit einer Strahlung (P, P', I), mit wenigstens einer Erzeugungseinheit (2,20,41,62) zum Erzeugen der Strahlung (P, P', I), mit einer Antriebseinheit (45,86,94) zum Drehen der wenigstens einen Erzeugungseinheit (2,20,41,62) um eine Drehachse (13,34,47,63,87,93), wobei die wenigstens eine Erzeugungseinheit (2,20,41,62) zum Abgeben der erzeugten Strahlung (P, P', I) mit einer Vorzugsrichtung (V, V', V'', V''', V'''') in Richtung der zu behandelnden Oberfläche (O) ausgebildet ist. Damit eine innere Oberfläche eines Werkstoffs mit kurzen Einwirkzeiten der Strahlung bearbeitet werden kann, ist vorgesehen, dass ein mit der wenigstens einen Erzeugungseinheit (2,20,41,62) verbundener Arm (10,22,42,61,85,95) zum Einbringen der Erzeugungseinheit (2,20,41,62) in das Werkstück (W) vorgesehen ist und dass die Drehachse (13,34,47,63,87,93) und die Vorzugsrichtung (V, V', V'', V''', V'''') gegeneinander geneigt sind.
    • 本发明涉及一种用于处理工件(W)的内表面(O),用放射线(P,P”,I)的装置(1,20,40,60,80,90),具有至少一个生产单元(2 ,20,41,62)(用于产生辐射P,P”,I),(与驱动单元45,86,94)(用于所述至少一个发电单元(2,20,41,62旋转)围绕旋转13的轴线 ,34,47,63,87,93),其特征在于,产生的P,P中的至少一个发生单元(2,20,41,62)(用于输出辐射 'I)(具有优选方向V,V',V' “ V”‘’,V‘’‘’)形成在待治疗O)的(表面的方向。 因此,材料的内表面可以与辐射的短的接触时间进行处理,它被提供与所述至少一个发电单元相关联的服务(2,20,41,62)臂(10,22,42,61,85,95),用于 引入所述生成单元(2,20,41,62)到工件(W)被设置,并且所述旋转轴(13,34,47,63,87,93)和所述优选方向(V,V',V”, V“”“ V”‘’“)是对于彼此倾斜。
    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ERZEUGEN EINES PLASMAS UND ANWENDUNGEN DES PLASMAS
    • 方法和设备,用于产生血浆和血浆中的应用
    • WO2008061602A1
    • 2008-05-29
    • PCT/EP2007/009268
    • 2007-10-25
    • PLASMATREAT GMBHBUSKE, Christian
    • BUSKE, Christian
    • H05H1/48H05H1/24
    • H05H1/48
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines Plasmas, insbesondere zur Behandlung eines Werkstückes, bei dem ein Plasmastrahl in einen zumindest teilweise von einer Abschirmung umgebenen Behandlungsraum eingeleitet wird und bei dem das Plasma im Behandlungsraum zumindest teilweise verteilt wird, wobei der Druck im Behandlungsraum zumindest dem Umgebungsdruck entspricht. Mit diesem Verfahren lässt sich ein intensives Überdruckplasma zur Oberflächenvorbehandlung erzeugen. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas, insbesondere zur Behandlung eines Werkstückes, mit einer Plasmaquelle (10) zum Erzeugen eines Plasmastrahls (36), mit einer Abschirmung (40) und mit einer in der Abschirmung (40) angeordneten und den Auslass (14) der Plasmaquelle (10) aufnehmenden Einlassöffnung (42). Die Abschirmung kann auch als Abstandhalter für eine manuelle Handhabung dienen.
    • 本发明涉及一种用于产生等离子体,尤其是用于治疗其中一个等离子束被引入到至少部分地由屏蔽处理室和包围的工件,其中,所述等离子体分布在处理室中的至少部分,其中在所述处理室中的压力至少 环境压力相对应。 用这种方法,一个强大的压力等离子体表面处理均可生产。 本发明还涉及一种装置,用于产生等离子体,尤其是对于在屏蔽(40)和所述出口与用于与屏蔽件(40)的产生等离子体束(36)的等离子体源(10),处理工件并布置成与 (14)等离子源(10)接收到所述入口开口(42)。 屏蔽也可以用作用于手动处理的间隔物。
    • 4. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR BEAUFSCHLAGUNG EINER KOMPONENTE MIT THERMISCHER ENERGIE
    • 对于热能量方法暴露一个组件
    • WO2010124887A2
    • 2010-11-04
    • PCT/EP2010/052264
    • 2010-02-23
    • PLASMATREAT GMBHBUSKE, Christian
    • BUSKE, Christian
    • F28F13/16F23C99/001F23C2900/99005
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beaufschlagung einer Komponente mit thermischer Energie, bei dem ein Gas (20, 86) erwärmt wird und bei dem die Komponente (4, 84) mit dem Gas (20, 86) in thermischen Kontakt gebracht wird, wobei das Gas (20, 86) zusätzlich durch eine elektrische Entladung (12, 74) oder durch ein Plasma, insbesondere durch einen Plasmastrahl (58, 108) mindestens teilweise ionisiert wird. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Beaufschlagung einer Komponente mit thermischer Energie, mit der zu beaufschlagenden Komponente (4, 84), mit einem ein Gas beinhaltenden Raumbereich (8, 82) und mit Mitteln (6) zum Erwärmen des Gases, wobei das Gas (20, 86) mit der Komponente (4, 84) in thermischem Kontakt steht und wobei zusätzlich Mittel (10, 42, 72, 92) zur Erzeugung einer elektrischen Entladung (12, 74) oder eines Plasmas, insbesondere eines Plasmastrahls (58, 108) zur zumindest teilweisen Ionisation des Gases (20, 86) vorgesehen sind.
    • 本发明涉及一种方法,用于施加具有热能的部件,其中的气体(20,86)被加热并在其中与气体成分(4,84)(20,86)被带入热接触,所述 气体(20,86)附加地通过放电(12,74)或通过等离子体,尤其是通过等离子束(58,108)至少部分地离子化。 本发明还涉及一种设备,用于用含有的空间区域(8,82)和装置的气体施加具有热能与一个组件在组件采取行动(4,84)(6)用于加热气体,其中所述气体 (20,86)与所述部件(4,84)处于热接触并且在加法装置(10,42,72,92),用于产生放电(12,74)或等离子,特别是等离子束(58, 108),用于所述气体(20,86)的至少部分电离提供。
    • 5. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG EINER OBERFLÄCHE EINES WERKSTÜCKES
    • 方法和装置结构表征工件表面的
    • WO2006136467A1
    • 2006-12-28
    • PCT/EP2006/061749
    • 2006-04-21
    • PLASMATREAT GMBHBUSKE, ChristianKNOSPE, Alexander
    • BUSKE, ChristianKNOSPE, Alexander
    • G01N21/73
    • G01N21/73
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Charakterisierung einer Oberfläche (54) eines Werkstückes (56), bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (36) erzeugt wird und auf die Oberfläche gerichtet wird, bei dem das in dem Plasmastrahl im Bereich der beaufschlagten Oberfläche entstehende Licht analysiert wird (50) und bei dem die Lichtintensität in mindestens einem Spektralbereich als Maß für die Konzentration mindestens eines von der Oberfläche des Werkstückes durch Beaufschlagung mit dem atmosphärischen Plasmastrahl abgelösten Stoffes bestimmt wird. Das Verfahren kann zur Analyse der Oberfläche selbst oder die Qualität der Behandlung der Oberfläche durch den Plasmastrahl angewendet werden. Des Weiteren betrifft die Erfindung auch eine Vorrichtung zur Charakterisierung einer Oberfläche eines Werkstückes mittels eines atmosphärischen Plasmastrahls sowie eine Plasmadüse mit einer zuvor genannten Vorrichtung.
    • 本发明涉及一种用于在工件(56),其中,大气等离子体射流(36)被产生,并且被引导到表面上的表征表面(54),其中,在所施加的表面的光的区域的等离子流形成被分析 (50),并且其中光强度在至少一个光谱范围确定为至少一个的由大气等离子体射流物质的施用从工件的表面分离的浓度的量度。 该方法可以被施加到表面本身或由等离子体射流处理的表面的质量的分析。 此外,本发明还提供了通过大气压等离子体射流和与先前提到的设备而言的等离子体的手段表征工件的表面的装置。
    • 7. 发明申请
    • METHOD FOR SUPPLYING A COMPONENT WITH THERMAL ENERGY
    • 对于热能量方法暴露一个组件
    • WO2010124887A3
    • 2011-05-26
    • PCT/EP2010052264
    • 2010-02-23
    • PLASMATREAT GMBHBUSKE CHRISTIAN
    • BUSKE CHRISTIAN
    • F28F13/16
    • F28F13/16F23C99/001F23C2900/99005
    • The invention relates to a method for supplying a component with thermal energy, a gas (20, 86) being heated and the component (4, 84) being brought in thermal contact with the gas (20, 86). The gas (20, 86) is additionally ionized to at least some extent by an electric discharge (12, 74) or by a plasma, especially a plasma jet (58, 108). The invention also relates to a device for supplying a component with thermal energy. Said device comprises the component (4, 84) to be supplied, a chamber region (8, 82) containing a gas, and means (6) for heating the gas, the gas (20, 86) being in thermal contact with the component (4, 84). Additional means (10, 42, 72, 92) for producing an electric discharge (12, 74) or a plasma, especially a plasma jet (58, 108) are used to ionize the gas (20, 86) to at least some extent.
    • 本发明涉及一种方法,用于施加具有热能的部件,其中的气体(20,86)被加热并在其中与气体成分(4,84)(20,86)被带入热接触,所述 气体(20,86)附加地通过放电(12,74)或通过等离子体,尤其是通过等离子束(58,108)至少部分地离子化。 本发明还涉及一种设备,用于用含有的空间区域(8,82)和装置的气体施加具有热能与一个组件在组件采取行动(4,84)(6)用于加热气体,其中所述气体 (20,86)与所述部件(4,84)处于热接触并且在加法装置(10,42,72,92),用于产生放电(12,74)或等离子,特别是等离子束(58, 108),用于所述气体(20,86)的至少部分电离提供。
    • 8. 发明申请
    • ATMOSPHÄRENDRUCKPLASMAVERFAHREN ZUR HERSTELLUNG OBERFLÄCHENMODIFIZIERTER PARTIKEL UND VON BESCHICHTUNGEN
    • 常压等离子体工艺用于生产表面改性的颗粒和涂料的
    • WO2011042459A1
    • 2011-04-14
    • PCT/EP2010/064906
    • 2010-10-06
    • FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.PLASMATREAT GMBHIHDE, JörgWILKEN, RalphDEGENHARDT, JostKNOSPE, AlexanderBUSKE, Christian
    • IHDE, JörgWILKEN, RalphDEGENHARDT, JostKNOSPE, AlexanderBUSKE, Christian
    • C23C14/32B22F1/02H05H1/34
    • C23C14/325B22F1/02H05H1/2406H05H1/42H05H1/48
    • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel in einem Atmosphärendruckplasma, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung mit darin dispergierten Partikeln unter Verwendung eines Atmosphärendruckplasmas. In beiden Verfahren wird das Plasma durch eine Entladung zwischen Elektroden in einem Prozessgas erzeugt. Ferner sind beide Verfahren dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Elektroden eine Sputterelektrode ist, von der durch die Entladung Partikel abgesputtert werden. Die vorliegende Erfindung betrifft darüber hinaus Verfahren zur Herstellung von Verbundmaterialien, bei denen mit einem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte oberflächenmodifizierte Partikel in eine Matrix eingebaut werden, sowie die Verbundmaterialien als solche. Schließlich schlägt die Erfindung auch Plasmadüsen, sowie diese enthaltende Vorrichtungen vor, mit denen die erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel und zur Herstellung von Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln vorteilhaft durchgeführt werden können. Mit den erfindungsgemäßen Verfahren können auf leichte Weise oberflächenmodifizierte Partikel und Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln erzeugt werden, wobei auch bei Mikro- und Nanopartikeln Agglomerationsprobleme weitgehend vermieden werden können.
    • 本发明涉及到一种用于在大气压等离子体的制备表面改性的颗粒的方法,并使用大气压等离子体具有分散在其中的颗粒用于制备涂层的方法。 在这两种方法中,通过将处理气体在电极之间的放电产生的等离子体。 此外,这两种方法的特征在于,所述电极的至少一个是溅射电极由通过颗粒排出溅射。 本发明还涉及用于制造复合材料,其中通过本发明的方法生产的,表面改性的颗粒在并入基质,以及复合材料本身。 最后,本发明还等离子体射流,以及含有这些装置提出,与根据本发明的方法可有利地用于表面改性的颗粒的制备和生产涂料的情况下进行,其中分散有颗粒。 利用本发明的方法中,表面改性的颗粒,并含有分散的颗粒能够容易地形成,并且甚至可以在微米和纳米粒子凝聚的问题在很大程度上避免涂层。
    • 9. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR DETEKTION VON IONISIERBAREN GASEN
    • 方法和设备检测GASES电离的
    • WO2010084166A1
    • 2010-07-29
    • PCT/EP2010/050713
    • 2010-01-22
    • PLASMATREAT GMBHBUSKE, Christian
    • BUSKE, Christian
    • G01N27/70
    • G01N27/70G01N33/0047
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Detektion von ionisierbaren Gasen, insbesondere organischen Molekülen, vorzugsweise Kohlenwasserstoffen, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (34) erzeugt wird, bei dem ein das ionisierbare Gas enthaltendes Gasgemisch (40) mit dem Plasmastrahl (34) in Wechselwirkung gebracht wird und bei dem eine elektrische Größe als Maß für die Konzentration des ionisierbaren Gases in dem Gasgemisch (40) gemessen wird. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Detektion von ionisierbaren Gasen mit einem Gaseinlass (6), mit Mitteln zur Ionisation eines ionisierbaren Gases, mit einer Spannungsquelle (42), mit zwei Elektroden (8, 10) und mit Mitteln (48) zur Bestimmung einer Stromstärke, wobei die zwei Elektroden (8, 10) an die Spannungsquelle (42) angeschlossen sind, wobei die Mittel (48) zur Bestimmung einer Stromstärke so an die Elektroden (8, 10) angeschlossen sind, dass die Stärke des zwischen den Elektroden (8, 10) fließenden Stroms messbar ist, und wobei als Mittel zur Ionisation eines ionisierbaren Gases eine Plasmadüse (4) zur Erzeugung eines atmosphärischen Plasmastrahls (34) vorgesehen ist.
    • 本发明涉及用于检测电离气体的方法,特别是有机分子,优选烃类,其中产生的大气压等离子体射流(34),其中,与所述等离子流(34)所述的离子化的含气体的气体混合物(40)被带入相互作用 并且其中的电气量作为可电离气体的气体混合物(40)的浓度的量度被测量。 本发明还涉及一种用于检测具有气体入口(6),具有用于可电离气体的电离电离气体的装置中,电压源(42)的两个电极(8,10)的装置(48),用于确定 电流,其中,所述两个电极(8,10)连接到电压源(42),所述装置(48)用于确定当前强度,从而在电极(8,10)连接,该强度(电极间 可以测量8,10)流动的流,并且其中,作为可电离气体的电离的手段,提供了一种用于产生大气压等离子体射流(34)的等离子体喷嘴(4)。