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1. 发明申请

WO2013011921A1 研磨パッド审中-公开
标题翻译：抛光垫
公开(公告)号：WO2013011921A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：PCT/JP2012/067835
申请日：2012-07-12
申请人：東レ株式会社 , 竹内奈々 , 福田誠司 , 奥田良治
发明人：竹内　奈々 , 福田　誠司 , 奥田　良治
IPC分类号： B24B37/26 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/26 , B24B37/16 , B24D11/00
摘要：　研磨パッドは、少なくとも研磨層を有する研磨パッドであって、前記研磨層は研磨面に側面を有する溝を備え、前記側面の少なくとも一方は、前記研磨面から連続し、前記研磨面とのなす角度がαである第１の側面、および該第１の側面から連続し、前記研磨面と平行な面とのなす角度がβである第２の側面から構成され、前記研磨面とのなす角度αは９５度より大きく、前記研磨面と平行な面とのなす角度βは９５度より大きく、かつ、前記研磨面と平行な面とのなす角度βが前記研磨面とのなす角度αよりも小さいものであり、前記研磨面から前記第１の側面と前記第２の側面の屈曲点までの屈曲点深さが０．２ｍｍより大きく、３．０ｍｍ以下であることを特徴とする。
摘要翻译：一种抛光垫，其至少具有抛光层，其中：具有侧表面的槽设置在所述抛光层的抛光表面上; 所述侧表面中的至少一个由与所述抛光表面连续的第一侧表面构成，并与所述抛光表面形成角度（a），并且所述第二侧表面与所述第一侧表面连续地形成角度（ß）平面与抛光面平行; 与抛光面形成的角度（a）大于95度; 与平行于抛光表面的平面形成的角度（β）大于95度并且小于与抛光表面形成的角度（a）; 并且从抛光表面到第一侧表面和第二侧表面之间的折叠点的折痕深度大于0.2mm且为3.0mm以下。

2. 发明申请

WO2003100522A1 感光性樹脂組成物および耐熱性樹脂膜の製造方法审中-公开
标题翻译：光敏树脂组合物和制备耐热树脂薄膜的方法
公开(公告)号：WO2003100522A1
公开(公告)日：2003-12-04
申请号：PCT/JP2003/006654
申请日：2003-05-28
申请人：東レ株式会社 , 三好一登 , 奥田良治 , 富川真佐夫
发明人：三好一登 , 奥田良治 , 富川真佐夫
IPC分类号： G03F7/037
CPC分类号： G03F7/0048 , G03F7/0233 , G03F7/037 , H01L27/3295 , H01L51/5253
摘要：　本発明は、（ａ）特定の構造を有する樹脂と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）大気圧下における沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒とを含有し、かつ、（ｃ）成分の含有量が有機溶媒全量に対して５０重量％以上１００重量％以下である感光性樹脂組成物およびそれを用いた耐熱性樹脂膜の製造方法である。本発明により、転写痕やスジ引き等の欠陥を生じにくい感光性樹脂組成物が提供される。
摘要翻译：一种光敏树脂组合物，其包含（a）具有特定结构的树脂，（b）感光剂和（c）在大气压下在100℃至140℃下具有沸点的有机溶剂，并且包含（c ）组分相对于有机溶剂的总量为50〜100重量％以及使用该树脂组合物的耐热树脂膜的方法。树脂组合物的优点在于不容易引起诸如转印标记或沟的缺陷。

3. 发明申请

WO2013011922A1 研磨パッド审中-公开
标题翻译：抛光垫
公开(公告)号：WO2013011922A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：PCT/JP2012/067840
申请日：2012-07-12
申请人：東レ株式会社 , 竹内奈々 , 福田誠司 , 奥田良治 , 笠井重孝
发明人：竹内　奈々 , 福田　誠司 , 奥田　良治 , 笠井　重孝
IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/22 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/26 , B24B37/22
摘要：　研磨パッドは、少なくとも研磨層とクッション層を有する研磨パッドであって、前記研磨層は研磨面に側面と底面を有する溝を備え、前記側面の少なくとも一方は、前記研磨面と連続し、前記研磨面とのなす角度がαである第１の側面、および該第１の側面と連続し、前記研磨面と平行な面とのなす角度がβである第２の側面から構成され、前記研磨面とのなす角度αは９０度より大きく、前記研磨面と平行な面とのなす角度βは８５度以上であり、かつ、前記研磨面と平行な面とのなす角度βが前記研磨面とのなす角度αよりも小さいものであり、前記研磨面から前記第１の側面と前記第２の側面の屈曲点までの屈曲点深さが０．４ｍｍ以上、３．０ｍｍ以下であり、前記クッション層の歪定数が７．３×１０－６ μｍ/Ｐａ以上、４．４×１０－４ μｍ/Ｐａ以下であることを特徴とする。
摘要翻译：一种具有至少抛光层和缓冲层的抛光垫，其中：在抛光层的抛光表面上设置有侧表面和底表面的槽; 所述侧表面中的至少一个由与所述抛光表面连续的第一侧表面构成，并与所述抛光表面形成角度（a），并且所述第二侧表面与所述第一侧表面连续地形成角度（ß）平面与抛光面平行; 与研磨面形成的角度（a）大于90度; 与平行于抛光表面的平面形成的角度（β）等于或大于85度并且小于与抛光表面形成的角度（a）; 从抛光表面到第一侧表面和第二侧表面之间的折叠点的折痕深度在0.4mm和3.0mm之间; 缓冲层的变形常数为7.3×10 -6μm/ Pa〜4.4×10 -4μm/ Pa。

4. 发明申请

WO2013039203A1 研磨パッド审中-公开
标题翻译：抛光垫
公开(公告)号：WO2013039203A1
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：PCT/JP2012/073633
申请日：2012-09-14
申请人：東レ株式会社 , 本田智之 , 福田誠司 , 奥田良治
发明人：本田　智之 , 福田　誠司 , 奥田　良治
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/20 , B24B37/26
CPC分类号： B24B37/26 , B24B37/20 , B24B37/22 , H01L21/304
摘要：　ウェハー中央部の研磨レート不足による研磨レートの低下とウェハー面内均一性の悪化を抑制するため、研磨パッドは、少なくとも研磨層とクッション層を有する研磨パッドであって、前記研磨層には厚さ方向に貫通する複数の孔が設けられていると共に、前記研磨層の研磨面には複数の溝が設けられ、貫通孔率が０．１３％以上２．１％以下であり、前記研磨面と該研磨面に連続する溝側面とのなす角度は、両側面とも１０５度以上１５０度以下である。
摘要翻译：为了抑制晶片的平面内均匀性的劣化以及由于晶片的中心部分的研磨速度不足引起的抛光速度的降低，所以抛光垫至少具有研磨层和缓冲层，所述研磨层具有在厚度方向上贯穿的多个孔，在研磨层的研磨面上设置多个槽，贯通孔的比例为0.13〜2.1％，并且研磨面与槽侧面之间的角度连续对于两个侧表面，抛光表面为105-150°。

5. 发明申请

WO2013039181A1 研磨パッド审中-公开
标题翻译：抛光垫
公开(公告)号：WO2013039181A1
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：PCT/JP2012/073538
申请日：2012-09-13
申请人：東レ株式会社 , 野呂陽平 , 奥田良治 , 福田誠司
发明人：野呂　陽平 , 奥田　良治 , 福田　誠司
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/26
CPC分类号： B24B37/26
摘要：　少なくとも研磨層を有する化学機械研磨用の研磨パッドであって、前記研磨層の研磨面に第１の溝および第２の溝を有し、前記第１および第２の溝は、それぞれの溝幅方向の縁端部に前記研磨面と連続する側面を有し、前記第１の溝は、少なくとも一方の溝幅方向の縁端部において、前記研磨面と該研磨面に連続する側面とのなす角度が１０５度より大きく１５０度以下であり、前記第２の溝は、溝幅方向の２つの縁端部の両方において、前記研磨面と該研磨面に連続する側面とのなす角度が６０度以上１０５度以下である。
摘要翻译：一种用于化学机械抛光的抛光垫，其至少具有抛光层，其中所述抛光层的抛光表面具有第一凹槽和第二凹槽，并且所述第一和第二凹槽具有在所述抛光层处与所述抛光表面连续的侧表面每个槽的横向边缘。在第一凹槽中，抛光表面与与研磨表面连续的侧表面之间的角度在凹槽的至少一个宽度方向上为105-150°。在第二凹槽中，抛光表面和与研磨表面连续的侧表面之间的角度在凹槽的两个宽度方向上为60-105°。

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