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61. 发明申请

WO2015147011A1 シリコン材料研磨用組成物审中-公开
标题翻译：硅材料抛光组合物
公开(公告)号：WO2015147011A1
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：PCT/JP2015/058979
申请日：2015-03-24
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：今尾　智宏 , ▲高▼橋　修平 , 森　嘉男
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/02024
摘要：　本発明に係るシリコン材料研磨用組成物は、砥粒と水と一般式（Ａ）で表される化合物と一般式（Ｂ）で表される化合物とを含み、ｐＨが８～１２である。　（Ｒ１～Ｒ４は、炭素原子数４以下のアルキル基、炭素原子数４以下のヒドロキシアルキル基、および置換されていてもよいアリール基からなる群から選択される。Ｘ－はアニオン。）（Ｘ１は、水素原子、アミノ基、もしくはＣ１原子への結合を表す。Ｃ１原子への結合の場合、Ｈ１原子は存在しない。Ｘ２は、水素原子、アミノ基、アミノアルキル基もしくはＣ１原子への結合を表す。Ｃ１原子への結合の場合、Ｃ１－Ｎ１結合は二重結合となり、Ｈ２原子は存在しない。ｌは１～６、ｍは１～４、ｎは０～４。）
摘要翻译：本发明的硅材料研磨用组合物的pH为8〜12，含有磨粒，水，式（A）表示的化合物和式（B）表示的化合物（选择了R1-R4 由碳原子数为4以下的烷基，碳原子数为4以下的羟烷基和可被取代的芳基构成的基团，X为阴离子）（X1为氢原子，氨基基团或与C1原子的键，并且在与C1原子键合的情况下，不存在H1原子）（X2表示氢原子，氨基，氨基烷基或与C1的键并且在与C1原子键合的情况下，C1-N1键是双键，并且不存在H 2原子; 1是1-6，m是1-4，n是0-4 ）。

62. 发明申请

WO2015113026A2 EDGE CHAMFERING BY MECHANICALLY PROCESSING LASER CUT GLASS 审中-公开
标题翻译：通过机械加工激光切割玻璃的边缘切割
公开(公告)号：WO2015113026A2
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：PCT/US2015/013026
申请日：2015-01-27
申请人： CORNING INCORPORATED
发明人： BANKAITIS, Jonas , UHLIG, Kevin William
IPC分类号： C03B33/02
CPC分类号： C03B33/0222 , B23K26/0057 , B23K26/0087 , B23K26/02 , B23K26/0622 , B23K26/0643 , B23K26/361 , B23K26/53 , B23K2203/50 , B23K2203/54 , B24B9/10 , B24B37/00 , B24D9/00 , B24D9/02 , B24D13/18 , Y02P40/57
摘要： Processes of chamfering and/or beveling an edge of a glass substrate of arbitrary shape using lasers are described herein. Two general methods to produce chamfers on glass substrates are the first method involves cutting the edge with the desired chamfer shape utilizing an ultra-short pulse laser that is followed by mechanical polishing with a compliant polishing wheel.
摘要翻译：本文描述了使用激光器对任意形状的玻璃基板的边缘进行倒角和/或斜切的工艺。在玻璃基板上制造倒角的两种一般方法是使用超短脉冲激光器以期望的倒角形状来切割边缘的第一种方法，随后用柔性抛光轮进行机械抛光。

63. 发明申请

WO2015012118A1 ＣＭＰ用シリカ、水性分散液およびＣＭＰ用シリカの製造方法审中-公开
标题翻译：用于CMP，水性分散剂的二氧化硅和用于生产二氧化硅的CMP的方法
公开(公告)号：WO2015012118A1
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：PCT/JP2014/068450
申请日：2014-07-10
申请人：株式会社トクヤマ
发明人：中村　正博 , 石本　竜二
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C01B33/18 , C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , B24B37/00 , B24B37/044 , C01B33/183 , C01P2006/10 , C01P2006/12 , C09G1/02 , C09K3/1409 , H01L21/3212
摘要：　適度に高い研磨レートを確保しつつも研磨時のスクラッチを低減すること。　以下の（Ａ）～（Ｃ）を満足するＣＭＰ用シリカ、ＣＭＰ用シリカを用いた水性分散液およびＣＭＰ用シリカの製造方法。（Ａ）ＢＥＴ比表面積が４０ｍ２／ｇ以上１８０ｍ２／ｇ以下（Ｂ）Ｈｅガスピクノメーター法により測定した粒子密度が２．２４ｇ／ｃｍ３以上（Ｃ）ＴＥＭ／画像解析より算出した一次粒子径の変動係数が０．４０以下
摘要翻译：本发明的目的是在抛光期间减少划痕，同时确保适度高的抛光速率。本发明提供了用于CMP的二氧化硅，满足以下（A）〜（C）的二氧化硅; 包含用于CMP的二氧化硅的水分散体; 以及用于制造用于CMP的二氧化硅的方法。（A）BET比表面积为40〜180m2 / g。（B）通过He-gas比重瓶法测定的颗粒密度为2.24g / cm 3以上。（C）通过TEM /图像分析计算的初级粒径的变异系数为0.40以下。

64. 发明申请

WO2014129328A1 研磨用組成物审中-公开
标题翻译：抛光组合物
公开(公告)号：WO2014129328A1
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：PCT/JP2014/052956
申请日：2014-02-07
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：伊藤　潤 , 堀田　和利 , 杉山　博保 , 森永　均
IPC分类号： H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/00 , C09K3/1409 , C09K3/1454 , C09K3/1463 , C30B29/20 , C30B33/00 , H01L21/304 , H01L21/30625 , H01L21/3212
摘要：　無極性面または半極性面を有するサファイア基板を高い研磨速度で研磨することができる研磨用組成物を提供する。　本発明は、無極性面または半極性面を有するサファイア基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、コロイダルシリカ粒子と、水と、を含み、前記コロイダルシリカ粒子の比表面積（単位：ｍ２／ｇ）を前記コロイダルシリカ粒子の個数平均粒子径（単位：ｎｍ）で除した値（比表面積／個数平均粒子径）が０．５以上３．０以下である、研磨用組成物である。
摘要翻译：提供一种抛光组合物，其能够以高抛光速率抛光具有非极性或半极性表面的蓝宝石衬底。本发明是一种用于抛光具有非极性或半极性表面的蓝宝石衬底并且含有胶体二氧化硅颗粒和水的抛光组合物。该抛光组合物的特征在于，通过将胶体二氧化硅粒子的比表面积（单位：m2 / g）除以胶体二氧化硅粒子的数均粒径（单位：nm）得到的值即（比表面积）/（数均粒径）为0.5〜3.0（含）。

65. 发明申请

WO2014013977A1 合金材料研磨用組成物及びそれを用いた合金材料の製造方法审中-公开
标题翻译：用于抛光合金材料的组合物及其制造合金材料的方法
公开(公告)号：WO2014013977A1
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/JP2013/069273
申请日：2013-07-16
申请人：株式会社フジミインコーポレーテッド
发明人：森永　均 , 玉井　一誠 , 浅井　舞子
IPC分类号： C09K3/14 , B24B37/00 , G11B5/84
CPC分类号： C09K3/1436 , B24B37/00 , C09K3/1409 , G11B5/8404
摘要：　合金材料を研磨する用途に用いられる合金材料研磨用組成物が提供される。合金材料は、主成分の第１金属種と、前記第１金属種とは異なる種類でかつ前記第１金属種の標準電極電位よりも高い標準電極電位を有する第２金属種とを含有する。合金材料研磨用組成物は、炭素に結合した官能基が前記第２金属種を捕捉可能である化合物を含有する。
摘要翻译：提供了用于研磨合金材料的合金材料的组合物，其用于研磨合金材料。合金材料含有作为主要成分的第一金属物质和与第一金属物质不同的标准电极电位高于第一金属物质的标准电极电位的第二金属物质。用于研磨合金材料的组合物含有具有与碳结合的能够捕获第二金属种类的官能团的化合物。

66. 发明申请

WO2012129416A3 UV PROTECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD 审中-公开
标题翻译：紫外线防护涂料组合物和方法
公开(公告)号：WO2012129416A3
公开(公告)日：2013-01-03
申请号：PCT/US2012030144
申请日：2012-03-22
申请人： LENZSAVERS LLC , NORVILLE WILLIAM C
发明人： NORVILLE WILLIAM C
IPC分类号： C09D5/00 , B24B1/00 , C09D7/12 , C09D201/00 , C09K3/14
CPC分类号： C09G1/02 , B24B1/00 , B24B13/00 , B24B19/22 , B24B37/00 , G02B1/105 , G02B1/14
摘要： Plastic restoration kits and methods for restoring the light transmission and optical clarity properties of plastic surfaces, such as plastic aircraft windows, automobile plastic headlight covers, plastic sunglass lenses, and plastic corrective optical lenses. The kits and methods restore plastic surfaces that have been damaged by hazing, scratching and/or UV-induced oxidation. The kits and methods employ at least one polishing composition configured to improve clarity by removing scratches. A UV protective material is incorporated into at least one of the polishing compositions so that the UV protective material becomes worked into the plastic surface during polishing, and a protective coating that forms a hard protective coating over the plastic surface impregnated with the UV protective material is finally applied. The plastic surface may be heated after polishing and prior to application of the protective coating material.
摘要翻译：用于恢复塑料表面的光透射和光学透明性的塑料修复工具包和方法，例如塑料飞机窗，汽车塑料头灯罩，塑料太阳镜和塑料校正光学透镜。这些工具包和方法恢复了由于起雾，划伤和/或紫外线诱发氧化而损坏的塑料表面。试剂盒和方法使用至少一种抛光组合物，其构造成通过去除划痕来提高澄清度。紫外线保护材料被结合到至少一种抛光组合物中，使得在抛光过程中UV保护材料变成塑料表面，并且在浸渍有UV保护材料的塑料表面上形成硬保护涂层的保护涂层是终于应用了。塑料表面可以在抛光之后并且在施加保护涂层材料之前被加热。

67. 发明申请

WO2006044466A9 METHOD OF SHARPENING CUTTING EDGES 审中-公开
标题翻译：切割切割方法
公开(公告)号：WO2006044466A9
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：PCT/US2005036687
申请日：2005-10-13
申请人： CABOT MICROELECTRONICS CORP
发明人： SPIRO CLIFFORD , STEUER GEORGE , KAUFMAN FRANK
IPC分类号： C09K3/14 , A61B19/00 , B24B3/36 , B24B37/00
CPC分类号： A61B17/3211 , A61B2017/00526 , B24B3/36 , B24B37/00 , C09K3/1463
摘要： The invention is directed to a method for polishing a cutting edge on a cutting instrument, comprising contacting a cutting edge of a cutting instrument with a polishing pad and a chemical-mechanical polishing composition comprising particles of an abrasive, and a liquid carrier, wherein the abrasive is suspended in the liquid carrier, and abrading at least a portion of the cutting edge to polish the cutting edge. The invention further provides a cutting instrument having a highly uniform edge.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在切割仪器上抛光切割边缘的方法，包括将切割仪器的切割边缘与抛光垫接触，以及包含磨料颗粒和液体载体的化学机械抛光组合物，其中研磨剂悬浮在液体载体中，并且研磨至少一部分切割边缘以抛光切割边缘。本发明还提供了一种具有高度均匀边缘的切割仪器。

68. 发明申请

WO2006110224A3 SLURRY COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING ORGANIC POLYMER-BASED OPHTHALMIC SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：用于抛光有机聚合物的透明基材的浆料组合物和方法
公开(公告)号：WO2006110224A3
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：PCT/US2006006306
申请日：2006-02-22
申请人： FERRO CORP , FERRANTI STEVEN A
发明人： FERRANTI STEVEN A
IPC分类号： C09K3/14 , B24B1/00 , B24B7/19 , B24B7/30 , B24B37/00 , C09K13/00 , C09K13/06
CPC分类号： B24B37/00 , B24B13/00 , C09G1/02 , C09K3/1463
摘要： The present invention provides a slurry composition and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates. The slurry composition according to the invention includes an aqueous dispersion of abrasive particles and a pyrrolidone compound. The abrasive particles can be alumina, zirconia, silica, titania or combinations of the foregoing. Slurry compositions according to the invention can be used to polish all types of organic polymer-based ophthalmic substrates, but are particularly useful for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates having an index of refraction greater than 1.498 because they remove such materials at a greater efficiency than conventional slurry compositions without detrimentally affecting the quality of the resulting surface.
摘要翻译：本发明提供了一种用于抛光有机聚合物基眼底物的浆料组合物和方法。根据本发明的浆料组合物包括磨料颗粒和吡咯烷酮化合物的水分散体。研磨颗粒可以是氧化铝，氧化锆，二氧化硅，二氧化钛或上述的组合。根据本发明的浆料组合物可以用于抛光所有类型的基于有机聚合物的眼用基材，但是对于抛光具有大于1.498的折射率的有机聚合物基眼用基材特别有用，因为它们以更高的效率除去这些材料而不会不利地影响所得表面的质量。

69. 发明申请

WO2008118588A3 SLURRY COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING ORGANIC POLYMER-BASED OPHTHALMIC SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：用于抛光有机聚合物的透明基材的浆料组合物和方法
公开(公告)号：WO2008118588A3
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：PCT/US2008054824
申请日：2008-02-25
申请人： FERRO CORP , FERRANTI STEVEN A
发明人： FERRANTI STEVEN A
IPC分类号： B24B1/00 , B24B7/19 , B24B7/30 , C09K3/14
CPC分类号： B24B13/00 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/1463
摘要： The present invention provides a slurry composition and method for polishing organic polymer- based ophthalmic substrates. The slurry composition according to the invention includes an aqueous dispersion of abrasive particles and a pyrrolidone compound. The abrasive particles can be alumina, zirconia, silica, titania or combinations of the foregoing. Slurry compositions according to the invention can be used to polish all types of organic polymer-based ophthalmic substrates, but are particularly useful for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates having an index of refraction greater than 1.498 because they remove such materials at a greater efficiency than conventional slurry compositions without detrimentally affecting the quality of the resulting surface.
摘要翻译：本发明提供了一种用于抛光基于有机聚合物的眼科基底的浆料组合物和方法。根据本发明的浆料组合物包括磨料颗粒和吡咯烷酮化合物的水分散体。研磨颗粒可以是氧化铝，氧化锆，二氧化硅，二氧化钛或上述的组合。根据本发明的浆料组合物可以用于抛光所有类型的基于有机聚合物的眼用基材，但是对于抛光具有大于1.498的折射率的有机聚合物基眼用基材特别有用，因为它们以更高的效率除去这些材料而不会不利地影响所得表面的质量。

70. 发明申请

WO2008118588A2 SLURRY COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING ORGANIC POLYMER-BASED OPHTHALMIC SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：抛光基于有机聚合物的眼用基材的浆料组合物和方法
公开(公告)号：WO2008118588A2
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：PCT/US2008/054824
申请日：2008-02-25
申请人： FERRO CORPORATION , FERRANTI, Steven, A.
发明人： FERRANTI, Steven, A.
IPC分类号： B24B7/30
CPC分类号： B24B13/00 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/1463
摘要： The present invention provides a slurry composition and method for polishing organic polymer- based ophthalmic substrates. The slurry composition according to the invention includes an aqueous dispersion of abrasive particles and a pyrrolidone compound. The abrasive particles can be alumina, zirconia, silica, titania or combinations of the foregoing. Slurry compositions according to the invention can be used to polish all types of organic polymer-based ophthalmic substrates, but are particularly useful for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates having an index of refraction greater than 1.498 because they remove such materials at a greater efficiency than conventional slurry compositions without detrimentally affecting the quality of the resulting surface.
摘要翻译：本发明提供了用于抛光基于有机聚合物的眼用基材的浆料组合物和方法。根据本发明的浆料组合物包含磨料颗粒和吡咯烷酮化合物的水分散体。磨粒可以是氧化铝，氧化锆，二氧化硅，二氧化钛或前述的组合。根据本发明的浆料组合物可用于抛光所有类型的基于有机聚合物的眼用基材，但对于抛光折射率大于1.498的基于有机聚合物的眼用基材特别有用，因为它们以更高的效率去除这些材料与传统的浆料组合物相比，不会不利地影响所得表面的质量。

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