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51. 发明申请

WO2010125756A1 アーク式蒸発源及びこれを用いた皮膜の製造方法审中-公开
标题翻译： ARC蒸发源和使用其制造薄膜的方法
公开(公告)号：WO2010125756A1
公开(公告)日：2010-11-04
申请号：PCT/JP2010/002712
申请日：2010-04-14
申请人：株式会社神戸製鋼所 , 谷藤信一 , 山本兼司 , 藤井博文 , 黒川好徳
发明人：谷藤信一 , 山本兼司 , 藤井博文 , 黒川好徳
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/54 , H01J37/32055 , H01J37/32669 , H01J37/34 , H01J37/345
摘要：　アーク式蒸発源において、磁力線を基板方向に誘導して成膜速度を速くする。　ターゲット２の外周を取り囲むように設けられ、その磁化方向がターゲット２の表面と直交する方向に沿うように配置される少なくとも１つの外周磁石３と、ターゲット２の背面側に配置される背面磁石４とを備えている。背面磁石４は、その極性が外周磁石３の極性と同方向に向き、且つ、背面磁石４の磁化方向がターゲット２の表面と直交する方向に沿うように配置されている非リング状の第１の永久磁石４Ａを有している。
摘要翻译：提供了一种电弧蒸发源，其中通过在基板方向上诱导磁线来增加成膜速度。电弧蒸发源设置有：至少一个外周磁铁（3），其设置成使得外周磁铁围绕靶（2）的外周，并且其磁化方向与正交方向正交的方向目标（2）的表面; 以及设置在所述靶（2）的背面侧的后表面磁体（4）。后表面磁体（4）具有非环状的第一永磁体（4A），其极性与外周磁铁（3）的极性和背面磁体（4）的磁化方向相同的方向）在与靶（2）的表面正交相交的方向上。

52. 发明申请

WO2005081940A3 MAGNETICALLY ENHANCED, INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE FOR A FOCUSED ION BEAM SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于聚焦离子束系统的磁感应加强电感耦合等离子体源
公开(公告)号：WO2005081940A3
公开(公告)日：2007-07-12
申请号：PCT/US2005005643
申请日：2005-02-18
申请人： FEI CO , UNIV AUSTRALIAN , KELLER JOHN , SMITH NOEL , BOSWELL RODERICK , LAWRENCE SCIPIONI , CHARLES CHRISTINE , SUTHERLAND ORSON
发明人： KELLER JOHN , SMITH NOEL , BOSWELL RODERICK , LAWRENCE SCIPIONI , CHARLES CHRISTINE , SUTHERLAND ORSON
IPC分类号： H01J49/10 , C23C16/00 , H01J27/02 , H01J37/08
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J27/16 , H01J37/08 , H01J37/241 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/32669 , H01J2237/0815
摘要： The present invention provides an inductively coupled, magnetically enhanced ion beam source (10), suitable to be used in conjunction with probe-forming optics to produce an ion beam without kinetic energy oscillations induced by the source (10).
摘要翻译：本发明提供了一种电感耦合磁增强型离子束源（10），其适用于与探针形成光学器件结合使用以产生离子束而不产生源（10）引起的动能振荡。

53. 发明申请

WO2005081940A2 MAGNETICALLY ENHANCED, INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE FOR A FOCUSED ION BEAM SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于聚焦离子束系统的磁感应加强电感耦合等离子体源
公开(公告)号：WO2005081940A2
公开(公告)日：2005-09-09
申请号：PCT/US2005/005643
申请日：2005-02-18
申请人： FEI COMPANY , AUSTRALIAN NATIONAL UNIVERSITY , KELLER, John , SMITH, Noel , BOSWELL, Roderick , LAWRENCE, Scipioni , CHARLES, Christine , SUTHERLAND, Orson
发明人： KELLER, John , SMITH, Noel , BOSWELL, Roderick , LAWRENCE, Scipioni , CHARLES, Christine , SUTHERLAND, Orson
IPC分类号： C23C16/00 , H01J37/08
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J27/16 , H01J37/08 , H01J37/241 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/32669 , H01J2237/0815
摘要： The present invention provides an inductively coupled, magnetically enhanced ion beam source, suitable to be used in conjunction with probe-forming optics to produce an ion beam without kinetic energy oscillations induced by the source.
摘要翻译：本发明提供了一种电感耦合磁增强型离子束源，适用于与探针形成光学器件结合使用以产生离子束而不产生由该源引起的动能振荡。

54. 发明申请

WO2018170383A1 CYCLOTRONIC PLASMA ACTUATOR WITH ARC-MAGNET FOR ACTIVE FLOW CONTROL 审中-公开
公开(公告)号：WO2018170383A1
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：PCT/US2018/022837
申请日：2018-03-16
申请人： CU AEROSPACE, LLC , THE BOARD OF TRUSTEES OF THE UNIVERSITY OF ILLINOIS
发明人： ZIMMERMAN, Joseph , CARROLL, David L. , ANSELL, Phillip J. , HRISTOV, Georgi
IPC分类号： F15D1/00 , B64C23/00
CPC分类号： H01J37/32064 , B64C3/14 , B64C23/005 , B64C2230/12 , H01J37/32449 , H01J37/32568 , H01J37/32669 , H01J37/32678 , H05H1/50 , H05H13/005
摘要： In an embodiment of the invention there is a cyclotronic actuator. The actuator is defined by having a high-voltage plasma driver connected to a first electrode. The first electrode is surrounded by a dielectric material. A second electrode is grounded and placed away from the first electrode, such that a plasma arc is formed between the pair of electrodes when the high-voltage plasma driver is activated. A ring magnet surrounding the second electrode is configured to introduce a magnetic field locally to the plasma arc. The plasma arc will then discharge in a radial direction. The magnet creates a local magnetic field oriented vertically in a direction parallel to the axisymmetric orientation of the first and second electrodes to create a Lorentz Force. The force causes the plasma arc to move in a tangential direction and causes the plasma arc to discharge out in a circular pattern.

55. 发明申请

WO2016181919A1 電磁石装置、電磁石制御装置、電磁石制御方法、および電磁石システム审中-公开
标题翻译：电子设备，电磁控制装置，电磁控制方法和电磁系统
公开(公告)号：WO2016181919A1
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：PCT/JP2016/063698
申请日：2016-05-09
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：大橋　知範 , 茨田　敏光 , 山崎　裕延 , 工藤　美沙子 , 佐藤　一樹
IPC分类号： H05H1/46 , C23C14/35 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32669 , C23C14/35 , G01R19/16528 , H01F7/064 , H01F7/20 , H01F13/006 , H01F27/22 , H01J2237/334 , H01L21/3065
摘要：本発明に係る電磁石装置は、前面に環状の溝を有するヨークと、溝に配置される環状のコイルと、コイルの外面に設けられ、コイルをヨークに対して固定するエポキシ樹脂と、を有し、ヨークの溝の外周面と、コイルの径方向外側に設けられたエポキシ樹脂との間に隙間が設けられる。
摘要翻译：该电磁铁装置包括在其前表面具有环形槽的轭，设置在槽中的环形线圈和设置在线圈的外表面上以便将线圈固定到轭的环氧树脂并且在磁轭中的槽的外周面与设置在线圈的径向外侧的环氧树脂之间设置有间隙。

56. 发明申请

WO2015119787A1 METHODS OF DIRECTING MAGNETIC FIELDS IN A PLASMA SOURCE, AND ASSOCIATED SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：在等离子体源中引导磁场的方法和相关系统
公开(公告)号：WO2015119787A1
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：PCT/US2015/012607
申请日：2015-01-23
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： YE, Zheng John , PINSON, Jay D., II , HANAWA, Hiroji , ROCHA-ALVAREZ, Juan Carlos
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/34
CPC分类号： H01J37/3211 , H01J37/32458 , H01J37/32522 , H01J37/32669
摘要： A plasma source includes a plasma vessel that includes a dielectric material that encloses a cavity of a toroidal shape. The toroidal shape defines a toroidal axis therethrough. The vessel forms input and output connections, each of the input and output connections being in fluid communication with the cavity. One or more metal plates are disposed adjacent to the plasma vessel for cooling the plasma vessel. A magnetic core is disposed along the toroidal axis such that respective first and second ends of the magnetic core extend beyond axially opposed sides of the plasma vessel. First and second induction coils are wound about the respective first and second ends of the magnetic core. A plasma is generated in the cavity when an input gas is supplied through the input connection and an oscillating electrical current is supplied to the first and second induction coils.
摘要翻译：等离子体源包括等离子体容器，其包括围绕环形形状的空腔的电介质材料。环形形状限定了穿过其中的环形轴线。容器形成输入和输出连接，每个输入和输出连接与空腔流体连通。一个或多个金属板与等离子体容器相邻设置以冷却等离子体容器。磁芯沿着环形轴线设置，使得磁芯的相应的第一和第二端延伸超过等离子体容器的轴向相对的两侧。第一和第二感应线圈缠绕在磁芯的相应的第一和第二端。当通过输入连接提供输入气体并且向第一和第二感应线圈提供振荡电流时，在空腔中产生等离子体。

57. 发明申请

WO2015116500A1 ELECTROSTATIC CHUCK WITH MAGNETIC CATHODE LINER FOR CRITICAL DIMENSION (CD) TUNING 审中-公开
标题翻译：带静音卡带的静电卡盘，用于关键尺寸（CD）调谐
公开(公告)号：WO2015116500A1
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：PCT/US2015/012720
申请日：2015-01-23
申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
发明人： WILLWERTH, Michael D. , HSU, Chih-Hsun , TODOROW, Valentin N.
IPC分类号： H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
CPC分类号： H01J37/32715 , H01J37/32568 , H01J37/3266 , H01J37/32669 , H01J37/32697 , H01L21/6833
摘要： Electrostatic chucks with magnetic cathode liners for critical dimension (CD) tuning are described. For example, an electrostatic chuck (ESC) includes a cathode region. A wafer processing region is disposed above the cathode region. A magnetic cathode liner surrounds the cathode region, below the wafer processing region. The magnetic cathode liner is configured to provide magnetic field tuning capability for the ESC.
摘要翻译：描述了具有用于关键尺寸（CD）调谐的磁性阴极衬垫的静电吸盘。例如，静电卡盘（ESC）包括阴极区域。晶圆处理区域设置在阴极区域的上方。磁性阴极衬垫包围在晶片加工区域下面的阴极区域。磁性阴极衬套被配置为为ESC提供磁场调谐能力。

58. 发明申请

WO2015025783A1 ガスバリアーフィルムの製造装置及びガスバリアーフィルムの製造方法审中-公开
标题翻译：用于生产气体阻隔膜的装置和用于生产气体阻隔膜的方法
公开(公告)号：WO2015025783A1
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：PCT/JP2014/071357
申请日：2014-08-13
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：門馬　千明 , 大石　清 , 有田　浩了
IPC分类号： C23C16/44 , B32B9/00 , C23C16/50 , C23C16/54
CPC分类号： C23C16/545 , C23C16/308 , C23C16/401 , C23C16/509 , H01J37/32669 , H01J37/3277
摘要：　ガスバリアーフィルムの品質低下を防止する。　ローラーＣＶＤ装置20は、対向する一対の内壁面を有する真空チャンバー200と、間に放電空間Ｈを形成するように配設され、巻き掛けられた樹脂基材2を、放電空間Ｈを介して対向させる成膜ローラー31、32と、成膜ローラー31、32の周面に磁場を発生させる磁場発生装置34，35と、放電空間Ｈに放電を行わせるプラズマ発生用電源33と、放電空間Ｈの上方に配設され成膜ガスを放電空間Ｈに供給するガス供給口36と、放電空間Ｈの下方領域に配設され、放電空間Ｈのガスを真空チャンバー200外に排出するガス排出口37と、成膜ローラー31、32の周面のうち樹脂基材2に当接せずに露出し、かつ樹脂基材2との当接領域に対して周方向で隣接する露出領域Ｒを覆う被覆部材38とを備える。
摘要翻译：本发明防止阻气膜的质量下降。辊CVD装置（20）具有：具有彼此相对的一对内壁表面的真空室（200）; 成膜辊以这样的方式设置以在其间形成放电空间（H），并使卷绕的树脂基板（2）与它们之间的放电空间（H）相对; 导致在成膜辊（31,32）的周面产生磁场的磁场产生装置（34,35）; 在放电空间（H）进行放电的等离子体发生电源（33）; 设置在所述放电空间（H）的上方并向所述放电空间（H）供给成膜气体的供气口（36）; 设置在放电空间（H）下方的区域并将放电空间（H）的气体排出到真空室（200）外部的排气口（37）; 以及覆盖部件（38），其覆盖不与树脂基板（2）接触的成膜辊（31,32）的周面的露出区域（R），并且在周向方向上与接触区域相邻到树脂基板（2）。

59. 发明申请

WO2014188634A1 成膜装置审中-公开
标题翻译：胶片形成装置
公开(公告)号：WO2014188634A1
公开(公告)日：2014-11-27
申请号：PCT/JP2014/000676
申请日：2014-02-07
申请人：キヤノンアネルバ株式会社
发明人：小野　輝明 , 芝本　雅弘
IPC分类号： C23C14/24 , G11B5/84
CPC分类号： C23C14/325 , G11B5/8408 , H01J37/32055 , H01J37/32064 , H01J37/32614 , H01J37/3266 , H01J37/32669
摘要：　成膜装置１００は、ターゲット部１４０と、前記ターゲット部から放出された電子が流入するアノード部１３０と、前記ターゲット部に接触し、前記ターゲット部と前記アノード部を導通させることで、前記ターゲット部と前記アノード部との間にアーク放電を発生させるストライカ１３４と、前記ストライカを前記ターゲット部の方向または前記ターゲット部から退避する方向へ駆動するストライカ駆動手段１３４ａと、前記ターゲット部と前記アノード部に電力を付与する電力付与手段１５０と、前記ストライカ駆動手段および前記電力付与手段を制御する制御手段５０１と、を有し、前記制御手段は、前記ストライカと前記ターゲット部とを接触させた後に、前記ターゲット部と前記アノード部とに電力を付与する。
摘要翻译：一种成膜装置（100），具有：目标部分（140）; 阳极部分（130），电子从目标部分流出; 与目标部分接触的撞击器（134）引起目标部分和阳极部分之间的导电，从而在目标部分和阳极部分之间产生电弧放电; 用于沿朝向目标部分的方向或远离目标部分的方向驱动撞针的撞击器驱动装置（134a）; 用于向目标部分和阳极部分施加电力的动力施加装置（150）; 以及用于控制撞击器驱动装置和动力施加装置的控制装置（501），控制装置在使撞针和目标部件彼此接触之后对目标部分和阳极部分施加电力。

60. 发明申请

WO2014178100A1 アーク蒸発源审中-公开
标题翻译：弧蒸发源
公开(公告)号：WO2014178100A1
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：PCT/JP2013/062560
申请日：2013-04-30
申请人：日本アイ・ティ・エフ株式会社
发明人：岡崎　尚登 , 吉原　健 , 石塚　浩 , 松野　知保 , 楢原　真司
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32614 , H01J37/3266 , H01J37/32669 , H01J2237/327 , H01J2237/332
摘要：　真空中で、アーク放電によってカソード材料を溶解、蒸発させて、基材表面に成膜させるアーク蒸発源であって、略円板形状に形成されたカソードと、カソードの背面側に配置された磁界発生手段とを備え、磁界発生手段が、カソードの背面にカソードの放電面に対して２０°～５０°の方向に磁極が向けられて配置された少なくとも一つの永久磁石により、カソードの外周面においては基材方向に対して鋭角な磁力線、カソードの放電面の最外周部においては放電面に対してほぼ垂直な磁力線、カソードの放電面の外周面寄りの部分においてはカソードの中心方向に対して鋭角な磁力線が形成される磁界を発生させるように構成して、カソードを、外周部一杯まで利用可能とし、カソード材料の利用効率を飛躍的に高めることができるアーク蒸発源を提供する。
摘要翻译：提供一种电弧蒸发源，其用于通过真空中的电弧放电来熔化和蒸发阴极材料，并在基板的表面上形成膜，并且其配备有大致为圆盘状的磁体和磁性设置在阴极的背面的场产生装置。磁场产生装置被配置为产生磁场，该磁场通过设置在阴极的背面上的至少一个永久磁体而形成，其中磁极被定向在20°-50°的方向上，相对于阴极的放电表面，相对于阴极的外周面处的基板的方向形成锐角的磁线，基本上垂直于阴极的最外围部分的放电表面的磁线阴极排出表面和相对于阴极中心在该区域中朝向阴极排出表面的外圆周表面形成锐角的磁线。电弧蒸发源允许阴极充分利用到其周围，并且能够显着提高阴极材料的利用效率。

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