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51. 发明申请

WO2006066638A1 A FILTER DEVICE FOR THE COMPENSATION OF AN ASYMMETRIC PUPIL ILLUMINATION 审中-公开
标题翻译：一种用于补偿不对称瞳孔照射的滤波器装置
公开(公告)号：WO2006066638A1
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：PCT/EP2005/009165
申请日：2005-08-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian
发明人： MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B26/008 , G01J1/0488 , G02B27/0933 , G02B27/0994 , G03F7/70091 , G03F7/70191
摘要： The invention relates to a filter device (100) for an illumination system, especially for the correction of the illumination of the illuminating pupil, comprising a light source, with the illumination system being passed through by a boudle of illuminating rays from the light source to an object plane, with the bundle of illuminating rays impinging upon the filter device (100), comprising at least one filter element (105) which can be introduced into the beam path of the bundle of illuminating rays, with the filter element comprising an actuating device (113), so that the filter element can be brought with the help of the actuating device into the bundle of illuminating rays.
摘要翻译：本发明涉及用于照明系统的滤波器装置（100），特别是用于校正照明光瞳的照明的滤波器装置（100），其包括光源，其中照明系统通过布鲁尔（100）照射来自所述光源的射线到物平面，其中所述照射射线束照射在所述滤光器装置（100）上，所述滤光器元件包括至少一个滤光元件（105），所述滤光元件可被引入所述照明射线束，过滤元件包括致动装置（113），使得过滤元件可以借助致动装置被带入照明射线束中。

52. 发明申请

WO2005085955A2 TRANSMISSIONSFILTERVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：变速箱过滤装置
公开(公告)号：WO2005085955A2
公开(公告)日：2005-09-15
申请号：PCT/EP2005/002148
申请日：2005-03-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , SCHOLZ, Axel
发明人： FIOLKA, Damian , SCHOLZ, Axel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/3066 , G02F1/0305 , G02F1/0316 , G02F2201/20 , G02F2203/12 , G03F7/70566
摘要： Eine Transmissionsfiltervorrichtung zur ortsabhängigen Intensitätsfilterung einer Eintrittslichtverteilung umfasst mindestens eine in Transmission betreibbare Verzögerungseinrichtung (23) zur Erzeugung einer ortsabhängigen Verzögerungswirkung am Licht der Eintrittslichtverteilung, wobei die Verzögerungseinrichtung (23) zur Erzeugung einer zeitlich variablen, ortsabhängigen Verzögerungswirkung ansteuerbar ist, sowie mindestens eine im Lichtweg hinter der Verzögerungseinrichtung angeordnete Polarisationsfilteranordnung (24). Die Transmissionsfiltervorrichtung (22) eignet sich besonders für den Einsatz in Beleuchtungssystemen von Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen, da die Transmissionsfilterwirkung zeitlich variabel einstellbar und somit auf den Wechsel der Beleuchtungssettings des Beleuchtungssystems abstimmbar ist. Ein Belichtungsverfahren eines Substrats ist mit einem erfindungsgemäßen Beleuchtungssystem vorteilhaft durchführbar.
摘要翻译：过滤入射光分布依赖于位置的强度A发送滤波器装置包括至少一个可操作以传输延迟装置（23），用于对入射的光分布的光，其中，所述延迟装置（23）是可控制的，以产生一个随时间变化的，空间相关延迟效应产生依赖于位置的延迟效应，和至少一个在光路后面延迟装置，设置偏振过滤器组件（24）。发送滤波器装置（22）是特别适合于在微光刻投射曝光设备的照明系统中使用，因为发送滤波器效果是在时间上可调，并且因此可调节到的照明系统的照明设置的变化。一个衬底的曝光方法有利地与根据本发明的照明系统中进行。

53. 发明申请

WO2005083517A3 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2005083517A3
公开(公告)日：2005-09-09
申请号：PCT/EP2005/001948
申请日：2005-02-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus
发明人： FIOLKA, Damian , ZENZINGER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Ein Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (7) mit dem Licht einer zugeordneten Lichtquelle (10) hat mindestens einen Polarisationskompensator (11) in einer Pupillenebene (23) des Beleuchtungssystems. Mit diesem kann eine von winkelabhängig polarisationsverändernden Elementen (5) eingeführte Polarisationsveränderung mindestens teilweise kompensiert werden. Der Polarisationskompensator (11) weist zur ortsabhängigen Polarisationsveränderung Polarisationsveränderungsmittel auf, die als doppelbrechende Elemente oder Elemente mit einer doppelbrechenden Struktur ausgebildet sein können. Durch eine solche Polarisationskompensation können insbesondere bei Verwendung eines nachfolgenden Projektionsobjektivs mit physikalischem Strahlteiler die Transmissionseigenschaften der Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage gesteigert werden.

54. 发明申请

WO2005083511A2 SYSTEM ZUR REDUZIERUNG DER KOHÄRENZ EINER LASERSTRAHLUNG 审中-公开
标题翻译：系统来降低激光辐射的一致性
公开(公告)号：WO2005083511A2
公开(公告)日：2005-09-09
申请号：PCT/EP2005/001797
申请日：2005-02-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DIECKMANN, Nils , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian
发明人： DIECKMANN, Nils , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70583 , G03F7/70058
摘要： Bei einem System zur Reduzierung der Kohärenz einer wellenfronten aussendenden Laserstrahlung (10b), insbesondere für ein Projektionsobjektiv in der Halbleiterlithographie wird ein von dem auf eine Oberfläche(11) eines Resonatorkörpers (9) auftreffenden Laserstrahles (10) ein erster Teilstrahl (10a) teilreflektiert. Ein zweiter Teilstrahl (10b) tritt in den Resonatorkörper (9) ein und tritt nach mehreren Totalreflexionen wenigstens annährend im Bereich der Eintrittsstelle wieder aus dem Resonatorkörper (9) aus. Anschließend werden die beiden Teilstrahlen (10a und 10b) gemeinsam zu einer Beleuchtungsbene weitergeleitet. Der Resonatorkörper (9) ist derart ausgebildet, dass zusätzlich zu der Aufteilung in Teilstrahlen (10a,10b) die Wellenfronten wenigstens eines Teilstrahles (10b) während eines Laserpulses moduliert werden, wobei die an dem Resonatorkörper (9) reflektierten und die in den Resonatorkörper eintretenden Teilstrahlen (10a, 10b) nach dem Resonatorkörper (9) überlagert werden und wobei der Resonatorkkörper (9,9') mit einer Phasenplatte (12) mit unterschiedlicher lokaler Phasenverteilung versehen ist.
摘要翻译：在用于减少的波阵面发射激光辐射（10B）的一致性的系统，特别是用于在半导体光刻的投射物镜是的一个谐振器（9）入射激光束（10）的表面（11）上的一个部分地反射第一部分光束（10A）。第二部分光束（10b）的至少约进入谐振器（9）和出口由多个全反射在进入点的区域背面从谐振器（9）。随后，将两个子光束（10a和10b）被传递到一个公共照明平面。的谐振器（9）被设计为使得除了分成子光束（10A，10B）的波阵面被激光脉冲期间调制的至少一个偏光束（10b）的，反射的，在所述谐振器（9）和进入所述谐振器分光束（10A，10B）是由具有相位板（12）上设置有不同的本地相位分布的谐振器（9），并且其中Resonatorkkörper（9,9“）重叠。

55. 发明申请

WO2005078522A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2005078522A2
公开(公告)日：2005-08-25
申请号：PCT/EP2005/001501
申请日：2005-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHOLZ, Axel , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes
发明人： FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHOLZ, Axel , DEGÜNTHER, Markus , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/7015 , G03B27/54 , G03F7/70075 , G03F7/70108
摘要： An illumination system for a microlithographic projection exposure step-and-scan apparatus has a light source (14), a first optical raster element (62; 62'; 62''; 62''') and a second optical raster element (64; 90; 90''; 100). The first optical raster element extends in a first pupil plane (28) of the illumination system (10) and is designed such that the geometrical optical flux of the system is increased perpendicular to a scan direction of the projection exposure apparatus. The second optical raster element extends in a second pupil plane (28) of the illumination system, which is not necessarily different from the first pupil plane (28), and is designed such that the geometrical optical flux of the system is increased in the scan direction and perpendicular thereto. This allows to improve the irradiance uniformity in a reticle plane (46).
摘要翻译：一种用于微光刻投影曝光步进扫描装置的照明系统具有光源（14），第一光栅元件（62; 62'; 62“，62”'）和第二光栅元件（64 ; 90; 90“; 100）。第一光栅元件在照明系统（10）的第一光瞳平面（28）中延伸，并被设计成使得系统的几何光通量垂直于投影曝光设备的扫描方向增加。第二光栅元件在照明系统的第二光瞳平面（28）中延伸，其不一定与第一光瞳平面（28）不同，并且被设计成使得在扫描中系统的几何光通量增加方向并与其垂直。这允许改进掩模版平面（46）中的辐照度均匀性。

56. 发明申请

WO2005069078A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH IMMERSION PROJECTION LENS 审中-公开
标题翻译：具有倾斜投射镜的微观投影曝光装置
公开(公告)号：WO2005069078A1
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/EP2004/001779
申请日：2004-02-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70341
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus includes an illumination system (12) and a projection lens (20) which images a reticle (24) on a photosensitive layer (26). The projection exposure apparatus (10) further includes an immersion arrangement (42) for introducing an immersion liquid (34) into an immersion interspace (35) between a last optical element (L5) of the projection lens (20) on the image side and the photosensitive layer (26). A transmission filter (50) is designed and to arranged in the projection lens (20) in such a way that rays which enter the immersion interspace (35) from the last optical element (L5) at an angle of incidence (α) are attenuated more strongly the smaller the angle of incidence (α) is. The transmission filter may be arranged e.g. in a pupil plane (48) of the projection lens (20) and may have a transmittance which increases with increasing distance from an optical axis (44) of the projection lens (20). In this way compensation is provided for angle-dependent absorption in the immersion liquid (34) .
摘要翻译：微光刻投影曝光装置包括将感光层（26）上的标线（24）成像的照明系统（12）和投影透镜（20）。投影曝光装置（10）还包括浸没装置（42），用于将浸没液体（34）引入到在图像侧的投影透镜（20）的最后一个光学元件（L5）之间的浸没空间（35）中，以及感光层（26）。传输滤波器（50）被设计并布置在投影透镜（20）中，使得以入射角（α）从最后的光学元件（L5）进入浸没空间（35）的光线被衰减更强烈的是入射角（α）越小。传输滤波器可以被布置为例如。在投影透镜（20）的光瞳平面（48）中，并且可以具有随着与投影透镜（20）的光轴（44）的距离的增加而增加的透射率。以这种方式，为浸入液体（34）中的角度依赖吸收提供补偿。

57. 发明申请

WO2005050325A1 POLARIZATION-OPTIMIZING ILLUMINATION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：极化优化照明系统
公开(公告)号：WO2005050325A1
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：PCT/EP2004/012398
申请日：2004-11-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KOEHLER, Jess , FIOLKA, Damian
发明人： KOEHLER, Jess , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70566
摘要： An illumination system for a projection exposure installation for microlithography, in particular for a wafer scanner, for illuminating an illumination field on an outlet plane (53) of the illumination system with the light from a light source (2) has, within an imaging system (15) which images an intermediate field plane (13) on the outlet plane (53), a polarization conversion device (22) having a large number of polarization rectifier elements for producing a defined polarization state of the light emerging from the illumination system. The use of the polarization conversion device (22) allows the polarization state of the illumination light to be matched to the polarization state which is required in the downstream projection objective (51) without a significant proportion of the light injected from the light source into the illumination system being lost during the production of this polarization state.
摘要翻译：用于微光学的投影曝光装置的照明系统，特别是用于晶片扫描器的照明系统，用于利用来自光源（2）的光照射照明系统的出口平面（53）上的照明场，在照相系统（15），其在出射平面（53）上成像中间场平面（13）;偏振转换装置（22），其具有大量的偏振整流元件，用于产生从照明系统出射的光的限定的偏振状态。偏振转换装置（22）的使用允许照明光的偏振状态与下游投影物镜（51）中所需的偏振状态相匹配，而从光源注入的光的大部分不会照明系统在该极化状态的产生期间丢失。

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