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41. 发明申请

WO2022161659A1 OPTISCHES SYSTEM, SOWIE VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022161659A1
公开(公告)日：2022-08-04
申请号：PCT/EP2021/083360
申请日：2021-11-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DIRAUF, Andre , GRUNER, Toralf , BAER, Norman , MONZ, Thomas , BUETTNER, Paul
发明人： DIRAUF, Andre , GRUNER, Toralf , BAER, Norman , MONZ, Thomas , BUETTNER, Paul
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches System sowie ein Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein optisches System wenigstens einen Spiegel (100, 200, 300, 400, 500, 600) mit einer optischen Wirkfläche (101, 201, 301, 401, 501, 601) und einem Spiegelsubstrat (110, 210, 310, 410, 510, 610), wobei in dem Spiegelsubstrat eine Mehrzahl von Temperierzonen (131-136, 141-146, 231-236, 241-246, 331-336, 341-346, 431, 441-446, 531-536, 541, 631, 641) angeordnet ist, und eine Temperiereinrichtung (150, 250, 350, 450, 550, 650), über welche die in den Temperierzonen jeweils vorliegenden Temperaturen unabhängig voneinander einstellbar sind, auf, wobei diese Temperierzonen in wenigstens zwei Ebenen mit unterschiedlichem Abstand von der optischen Wirkfläche angeordnet sind, und wobei die Temperierzonen in diesen wenigstens zwei Ebenen als Kühlkanäle ausgestaltet sind, welche unabhängig voneinander von einem Kühlfluid mit variabel einstellbarer Kühlfluidtemperatur durchströmbar sind.

42. 发明申请

WO2022028710A1 OPTICAL SYSTEM AND METHOD OF OPERATING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022028710A1
公开(公告)日：2022-02-10
申请号：PCT/EP2020/072216
申请日：2020-08-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , GRUNER, Toralf , BAER, Norman , VAN BERKEL, Koos , VAN BOKHOVEN, Laurentius J.A. , LORENZ, Maike , MONZ, Thomas , SCHNEIDER, Eva , STIEPAN, Hans-Michael , STREEFKERK, Bob , DIRAUF, André
发明人： GRUNER, Toralf , BAER, Norman , VAN BERKEL, Koos , VAN BOKHOVEN, Laurentius J.A. , LORENZ, Maike , MONZ, Thomas , SCHNEIDER, Eva , STIEPAN, Hans-Michael , STREEFKERK, Bob , DIRAUF, André
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/18
摘要： The invention relates to an optical system, in particular for microlithography, and to a method for operating an optical system. According to an aspect of the invention, an optical system comprises at least one mirror (100, 500, 600) having an optical effective surface (101, 501, 601) and a mirror substrate (110, 510, 610), wherein at least one cooling channel (115, 515, 615) in which a cooling fluid is capable to flow is arranged in the mirror substrate in order to dissipate heat that is generated in the mirror substrate due to absorption of electromagnetic radiation incident from a light source on the optical effective surface, and a unit (135, 535, 635) to adjust the temperature and/or the flow rate of the cooling fluid either dependent on a measured quantity that characterizes the thermal load in the mirror substrate or dependent on an estimated thermal load to be expected in the mirror substrate for a given power of the light source.

43. 发明申请

WO2021224036A1 VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES DEFORMIERBAREN SPIEGELS, SOWIE OPTISCHES SYSTEM MIT EINEM DEFORMIERBAREN SPIEGEL 审中-公开
公开(公告)号：WO2021224036A1
公开(公告)日：2021-11-11
申请号：PCT/EP2021/060757
申请日：2021-04-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , STIEPAN, Hans Michael , GRUNER, Toralf , HILD, Kerstin , SAVELYEV, Evgeny
发明人： STIEPAN, Hans Michael , GRUNER, Toralf , HILD, Kerstin , SAVELYEV, Evgeny
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00 , G21K1/06
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben eines deformierbaren Spiegels sowie ein optisches System mit einem deformierbaren Spiegel, wobei der Spiegel (10, 30) ein Spiegelsubstrat (12, 32), ein Reflexionsschichtsystem (21, 41) zur Reflexion von auf eine optische Wirkfläche (11, 31) des Spiegels auftreffender elektromagnetischer Strahlung, und wenigstens eine piezoelektrische Schicht (16, 36) aufweist, welche zwischen Spiegelsubstrat und Reflexionsschichtsystem angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtsystem zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht befindliche Elektrodenanordnung durch eine Spannungsansteuerung der ersten und/oder der zweiten Elektrodenanordnung mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Ermitteln einer im Bereich der piezoelektrischen Schicht vorliegenden Temperaturverteilung; und Anpassen der Spannungsansteuerung der ersten und/oder der zweiten Elektrodenanordnung in Abhängigkeit von der im Schritt a) ermittelten Temperaturverteilung.

44. 发明申请

WO2021073821A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2021073821A1
公开(公告)日：2021-04-22
申请号：PCT/EP2020/075737
申请日：2020-09-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SIEGLER, Steffen , RUOFF, Johannes , WOLF, Alexander , CARL, Michael , GRUNER, Toralf , SCHICKETANZ, Thomas
发明人： SIEGLER, Steffen , RUOFF, Johannes , WOLF, Alexander , CARL, Michael , GRUNER, Toralf , SCHICKETANZ, Thomas
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G01M11/00 , G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Durchführen, in einer interferometrischen Prüfanordnung, wenigstens einer ersten Interferogramm-Messung an dem optischen Element durch Überlagerung einer durch Beugung elektromagnetischer Strahlung an einem diffraktiven Element erzeugten und an dem optischen Element reflektierten Prüfwelle mit einer nicht an dem optischen Element reflektierten Referenzwelle, Durchführen wenigstens einer weiteren Interferogramm-Messung an jeweils einem Kalibrierspiegel zur Ermittlung von Kalibrierkorrekturen, und Bestimmen der Passe des optischen Elements basierend auf der an dem optischen Element durchgeführten ersten Interferogramm-Messung und der ermittelten Kalibrierkorrekturen. Dabei werden für den wenigstens einen Kalibrierspiegel wenigstens zwei Interferogramm-Messungen durchgeführt, welche sich hinsichtlich des Polarisationszustandes der elektromagnetischen Strahlung voneinander unterscheiden.

45. 发明申请

WO2020020550A1 SPIEGEL FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE, SOWIE VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES DEFORMIERBAREN SPIEGELS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020020550A1
公开(公告)日：2020-01-30
申请号：PCT/EP2019/066634
申请日：2019-06-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LIPPERT, Johannes , GRUNER, Toralf , HILD, Kerstin , LUCKE, Philip , NEMATOLLAHI, Mohammadreza
发明人： LIPPERT, Johannes , GRUNER, Toralf , HILD, Kerstin , LUCKE, Philip , NEMATOLLAHI, Mohammadreza
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20 , G02B5/08 , G02B26/06
摘要： Die Erfindung betrifft einen Spiegel für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein Verfahren zum Betreiben eines deformierbaren Spiegels. Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein Spiegel eine optische Wirkfläche (11), ein Spiegelsubstrat (12), einen Reflexionsschichtstapel (21) zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (11) auftreffender elektromagnetischer Strahlung, und wenigstens eine piezoelektrische Schicht (16) auf, welche zwischen Spiegelsubstrat (12) und Reflexionsschichtstapel (21) angeordnet und über eine erste, auf der dem Reflexionsschichtstapel (21) zugewand- ten Seite der piezoelektrischen Schicht (16) befindliche Elektrodenanordnung und eine zweite, auf der dem Spiegelsubstrat (12) zugewandten Seite der piezoelektrischen Schicht (16) befindliche Elektrodenanordnung mit einem elektrischen Feld zur Erzeugung einer lokal variablen Deformation beaufschlagbar ist, wobei diese piezoelektrische Schicht (16) eine Mehrzahl von durch Säulengrenzen voneinander räumlich separierten Säulen aufweist, wobei ein mittlerer Säulendurchmesser dieser Säulen im Bereich von 0.1 μm bis 50μm liegt.

46. 发明申请

WO2019228765A1 VERFAHREN SOWIE VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN DES ERWÄRMUNGSZUSTANDES EINES SPIEGELS IN EINEM OPTISCHEN SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2019228765A1
公开(公告)日：2019-12-05
申请号：PCT/EP2019/061713
申请日：2019-05-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , DE RAPPER, Willem Michiel , GRUNER, Toralf
发明人： DE RAPPER, Willem Michiel , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B27/00 , G02B7/00 , G02B7/02 , G02B7/18 , G02B17/06 , G02B5/08 , G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Spiegels in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Ein Verfahren zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements weist folgende Schritte auf: Messen, unter Verwendung eines Temperatursensors (220), von Werten einer ersten Temperatur, welches das optische Element an einer ersten Position aufweist, und Abschätzen, auf Basis der gemessenen Werte, einer zweiten Temperatur, welche das optische Element an einer von der ersten Position entfernten zweiten Position aufweist, wobei das Abschätzen der zweiten Temperatur unter Berücksichtigung einer zeitlichen Änderung der zuvor gemessenen Werte erfolgt.

47. 发明申请

WO2016113113A1 ARRANGEMENT FOR REDUCING CONTAMINATION IN A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：减少微波投影曝光装置污染的装置
公开(公告)号：WO2016113113A1
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：PCT/EP2015/081412
申请日：2015-12-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf
发明人： HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70033 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： The invention relates to an arrangement for reducing contamination in a microlithographic projection exposure apparatus, wherein the projection exposure apparatus is designed for operation in the EUV and comprises an illumination device, wherein during the operation of the projection exposure apparatus EUV light generated by a plasma excitation of a target material brought about by a first laser light source enters the illumination device via an intermediate focus (IF). The arrangement comprises a second laser light source (140), which directs directional electromagnetic radiation into a region adjoining the intermediate focus (IF) within the illumination device, wherein said second laser light source (140) is designed in such a way that the directional electromagnetic radiation of the second laser light source (140) brings about an evaporation or plasma excitation for at least part of target material that has entered said region during the operation of the projection exposure apparatus.
摘要翻译：本发明涉及一种用于减少微光刻投影曝光装置中的污染的装置，其中投影曝光装置被设计为在EUV中操作并且包括照明装置，其中在投影曝光装置的操作期间由等离子体激发产生的EUV光由第一激光光源引起的目标材料经由中间焦点（IF）进入照明装置。该装置包括第二激光源（140），其将定向电磁辐射引导到与照明装置内的中间聚焦（IF）相邻的区域中，其中所述第二激光源（140）被设计成使得定向第二激光光源（140）的电磁辐射在投影曝光装置的操作期间对已经进入所述区域的目标材料的至少一部分产生蒸发或等离子体激发。

48. 发明申请

WO2012041461A2 PROJECTION EXPOSURE TOOL FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译：微刻法投影曝光工具及微刻曝光法
公开(公告)号：WO2012041461A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/004750
申请日：2011-09-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
发明人： HETZLER, Jochen , BLEIDISTEL, Sascha , GRUNER, Toralf , HARTJES, Joachim , SCHWAB, Markus , WOLF, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70133 , G03F7/70608 , G03F7/70733 , G03F9/7003 , G03F9/7034 , G03F9/7049
摘要： A projection exposure tool (10) for microlithography for exposing a substrate (20) comprises a projection objective (18) and an optical measuring apparatus (40) for determining a surface topography of the substrate (20) before the latter is exposed. The measuring apparatus (40) has a measuring beam path which extends outside of the projection objective (18), and is configured as a wavefront measuring apparatus, which is configured to determine topography measurement values simultaneously at a number of points on the substrate surface (21).
摘要翻译：用于微曝光曝光衬底（20）的投影曝光工具（10）包括投影物镜（18）和用于确定衬底（20）的表面形貌的光学测量装置（40）在后者暴露之前。测量设备（40）具有延伸到投影物镜（18）外部的测量光束路径，并且被配置为波前测量设备，该波前测量设备被配置为同时在基板表面上的多个点处确定地形测量值 21）。

49. 发明申请

WO2012031765A2 METHOD FOR OPERATING A PROJECTION EXPOSURE TOOL AND CONTROL APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影曝光工具和控制装置的操作方法
公开(公告)号：WO2012031765A2
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：PCT/EP2011/004535
申请日：2011-09-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , GERHARD, Michael , DÖRBRAND, Bernd , GRUNER, Toralf
发明人： GERHARD, Michael , DÖRBRAND, Bernd , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/706 , G03F7/70833 , G03F7/70891
摘要： A method for operating a projection exposure tool (10) for microlithography is provided. The projection exposure tool (10) comprises an optical system (24; 18) which comprises a number of optical elements (26) which, during an imaging process, convey electromagnetic radiation (16, 16a, 16b, 16c), all of the surfaces of the optical elements (26) interacting with the electromagnetic radiation (16) during the imaging process forming an overall optical surface of the optical system (24; 18). The method comprises the steps: determining respective individual thermal expansion coefficients (52) at at least two different locations of the overall optical surface, calculating a change to an optical property of the optical system (24; 18) brought about by heat emission of the electromagnetic radiation (16, 16a, 16b, 16c) during the imaging process upon the basis of the thermal expansion coefficients (52), and imaging mask structures into an image plane (34) by means of the projection exposure tool (10) with adaptation of the imaging characteristics of the projection exposure tool (10) such that the calculated change to the optical property is at least partially compensated.
摘要翻译：提供了一种用于操作用于微光刻的投影曝光工具（10）的方法。投影曝光工具（10）包括光学系统（24; 18），该光学系统包括多个光学元件（26），其在成像过程期间传送电磁辐射（16,16a，16b，16c），所有表面的光学元件（26）在成像过程中与电磁辐射（16）相互作用，形成光学系统（24; 18）的整个光学表面。该方法包括以下步骤：确定在整个光学表面的至少两个不同位置处的各自的热膨胀系数（52），计算由所述光学系统的热发射引起的光学系统（24; 18）的光学特性的变化基于热膨胀系数（52）在成像过程期间的电磁辐射（16,16a，16b，16c），以及借助于具有适应性的投影曝光工具（10）将掩模结构成像到图像平面（34）的投影曝光工具（10）的成像特性，使得计算出的对光学特性的改变至少部分地被补偿。

50. 发明申请

WO2020254147A1 MIRROR, IN PARTICULAR FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020254147A1
公开(公告)日：2020-12-24
申请号：PCT/EP2020/065938
申请日：2020-06-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , STIEPAN, Hans Michael , GRUNER, Toralf
发明人： STIEPAN, Hans Michael , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B26/08 , G03F7/20
摘要： The invention relates to a mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus. In accordance with one aspect, a mirror according to the invention has an optical effective surface (11, 31), a mirror substrate (12, 32), a reflection layer system (21, 41) for reflecting electromagnetic radiation that is incident on the optical effective surface, and at least one piezoelectric layer (16, 36), which is arranged between the mirror substrate and the reflection layer system and to which an electric field for producing a locally variable deformation is able to be applied by way of a first electrode arrangement situated on the side of the piezoelectric layer facing the reflection layer system, and by way of a second electrode arrangement situated on the side of the pie- zoelectric layer facing the mirror substrate, wherein one of said electrode arrangements is assigned a mediator layer (17, 37, 51, 52, 53, 71) for setting an at least regionally continuous profile of the electrical potential along the respective electrode arrangement; and wherein said mediator layer has at least two mutually electrically insulated regions (17a, 17b, 17c,…; 37a, 37b, 37c,…).

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