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11. 发明申请

WO2012093820A2 광학소자 봉지용 실리콘 수지 조성물 审中-公开
标题翻译：用于封装光学元件的有机硅树脂组合物
公开(公告)号：WO2012093820A2
公开(公告)日：2012-07-12
申请号：PCT/KR2012/000020
申请日：2012-01-02
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 송석진 , 김재현 , 주한복 , 박종대
发明人： 송석진 , 김재현 , 주한복 , 박종대
IPC分类号： C08L83/14 , C08G77/58 , C08L83/04 , C08G77/06 , H01L23/29
CPC分类号： H01L23/296 , C08G77/58 , C08L83/14 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 본 발명은 광학소자 봉지용 실리콘 수지 조성물에 관한 것으로서, (a) 하기 화학식 1의 유기실란을 하기 화학식 2의 금속(IV) 알콕사이드와 치환반응시켜 하기 화학식 3의 화합물을 얻은 후, (b) 이를 하기 화학식 4의 유기실란과 축합반응시켜 하기 화학식 5의 화합물을 얻은 다음, (c) 이를 중축합 촉매 존재 하에서 중축합하여 제조한 실리콘계 고분자 수지를 포함하는 본 발명의 실리콘 수지 조성물은 투명성을 확보하면서도 높은 굴절률과 우수한 가공성을 제공할 수 있으므로, 광학소자의 봉지제로서 유용하게 사용될 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及用于密封光学元件的有机硅树脂组合物，其包含：（a）用下式（2）的有机硅烷取代下式（2）的金属（IV）醇盐然后，（b）中得到的式（4）的式5的有机硅烷和缩合反应的化合物，以它，然后，（c）中，本发明包括获得通过缩聚他们下缩合催化剂的有机硅制备的基于硅的聚合物树脂的树脂组合物可以有效地用作光学元件的包封剂，因为它可以在确保透明性的同时提供高折射率和优异的可加工性。

12. 发明申请

WO2012064097A2 극자외선 리소그라피용 포토레지스트 탑코트 조성물과 이를 이용하는 패턴 형성 방법 审中-公开
标题翻译：用于极紫外光刻的光致抗蚀剂面漆组合物和使用该组合物的图案形成方法
公开(公告)号：WO2012064097A2
公开(公告)日：2012-05-18
申请号：PCT/KR2011/008498
申请日：2011-11-09
申请人：㈜동진쎄미켐 , 이재우 , 오승근 , 이정열 , 김정식 , 김재현
发明人： 이재우 , 오승근 , 이정열 , 김정식 , 김재현
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0271 , G03F7/091 , G03F7/11
摘要： 극자외선 리소그라피용 마스크에 쓰이는 포토레지스트 탑코트과 그 제조를 위한 조성물을 개시한다. 이 포토레지스트 탑코트 형성용 조성물은 ㄱ) 100 중량부의 수용성 바인더 수지, ㄴ) 0.01 내지 30 중량부의 극자외선 대역외 자외선 차단제와 ㄷ) 1,000 내지 10,000 중량부의 양성자성 용매를 포함한다. 이러한 포토레지스트 탑코트를 사용하면 극자외선 리소그라피의 대역외 영역 자외선에 의한 회로 패턴의 불량을 크게 줄이고, 거친 선폭도 개선할 수 있다.
摘要翻译：公开了用于极紫外光刻的掩模中使用的光致抗蚀剂顶涂层及其组合物。（a）100重量份的水溶性粘合剂树脂，（b）0.01至30重量份的极紫外带外部紫外线屏蔽剂，和（c）1,000至10,000重量份的质子溶剂。使用这种光致抗蚀剂面涂层可以极大地减少由于紫外线光刻的带外区域中的紫外线导致的电路图案的缺陷，并且还改善了粗线宽度。

13. 发明申请

WO2011102613A3 다목적으로 사용되는 어촌계용 부잔교 审中-公开
公开(公告)号：WO2011102613A3
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/KR2011/000803
申请日：2011-02-08
申请人： 유한회사 주하나 , 김재현
发明人： 김재현
IPC分类号： E01D15/14 , E01D15/24 , B63B35/34 , B63B35/28
摘要： 본 고안은 다목적으로 사용되는 부잔교에 관한 것으로, 부잔교를 이용하여 육상으로 연결된 도교를 통하여 어민들이 승하선을 함으로써 간만의 차이에 따라 발생 되는 선박의 안전 및 어민들의 안전한 승하선 뿐만 아니라 수산물의 임시보관을 위한 해상수족관과 어민들의 양식시설을 위한 닻의 운반 및 설치용 바지선으로도 활용되도록 고안되어 다목적으로 사용되는 어촌계용 부잔교에 관한 것이다.

14. 发明申请

WO2011016650A2 광학소자의 투광부 패키지 방법 및 장치 审中-公开
标题翻译：用于包装光学元件的发光单元的方法和装置
公开(公告)号：WO2011016650A2
公开(公告)日：2011-02-10
申请号：PCT/KR2010/005032
申请日：2010-07-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 손정현 , 주한복 , 박종대 , 김재현
发明人： 손정현 , 주한복 , 박종대 , 김재현
IPC分类号： H01L33/48 , G02F1/13357
CPC分类号： H01L51/5253 , G02F1/133603 , G02F2001/133607
摘要： 본 발명은 광학소자의 투광부 패키지 방법 및 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 수광부 또는 발광부를 가지는 광학소자에 대하여 상기 수광부 또는 발광부 주위의 전부 또는 일부를 봉지하는 투광부를 형성하는 투광부 패키지 방법에 있어서, 다수의 상기 광학소자가 평면상에 배열되는 광학소자 어레이를 준비하는 단계; 상기 광학소자들에 각각 대응하는 화선부를 가지는 스크린을 준비하는 단계; 및, 진공상태에서 투광성 수지를 상기 스크린을 통하여 스크린 인쇄하여 상기 투광부를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자의 투광부 패키지 방법 및 장치에 관한 것이다. 이를 통하여 본 발명은 진공 스크린 인쇄 공정을 적용하여 대 면적 substrate(특히, LED로 이루어진 LCD용 BLU제작에 적용되는)에 짧은 시간 내에 균일한 유기막(돔형상의 투광부)을 형성할 수 있어 공정시간을 단축할 수 있고, 투광부내에 존재할 수 있는 pore의 발생을 최소화하고, 스크린 메시 및 패턴에 따라 다양한 형상에도 불구하고 기공의 발생이 적은 투광부를 형성할 수 있다. 따라서 투광부의 형성에 따라 광 추출효율 및 확산도 또한 조절이 가능하여 균일한 빛의 특성을 구현할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于封装光学元件的光发射单元的方法和装置，更具体地，涉及一种用于封装光发射单元的方法和装置，其包括形成用于封装光学元件的部分的光透射单元或具有光接收单元或发光单元的光学元件的光接收单元或发光单元的周边的整体，其中用于封装光发射单元的方法包括：步骤制备其中多个光学元件布置在平面上的光学元件阵列; 准备具有对应于各个光学元件的图像单元的屏幕的步骤; 以及通过所述屏幕将真空状态的透光树脂丝网印刷以形成所述光发射单元的步骤。如上所述，本发明的方法涉及实现真空丝网印刷工艺，以在具有大面积的基底上（特别是施加的基底）形成均匀的有机膜（即，圆顶状光透射单元）在制造用于由LED组成的LCD的BLU中），从而缩短处理时间，从而最小化透光单元中的孔的产生，并且即使当具有较少孔的情况下也形成具有较少孔的透光单元透光单元可以根据屏幕和图案的网格而具有各种形状。因此，透光单元的形成使光提取效率和光的扩散度得以控制，从而获得具有均匀光特性的光学元件。

15. 发明申请

WO2012134226A2 포토리소그래피용 세정액 조성물 审中-公开
标题翻译：用于光刻机的清洁溶液组合物
公开(公告)号：WO2012134226A2
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/KR2012/002392
申请日：2012-03-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 오승근 , 이재우 , 김재현
发明人： 오승근 , 이재우 , 김재현
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/34 , G03F7/40
CPC分类号： C11D7/265 , C11D3/3765 , C11D3/3773 , C11D3/3776 , C11D7/3245 , C11D7/5004 , G03F7/168
摘要： 본 발명은 포토레지스트 패턴 형성 시 발생하는 패턴 쓰러짐 및 선폭 거칠기(LWR)의 수치 증대를 방지하고, 패턴 표면을 경화시켜 식각 저항성을 높일 수 있는 포토리소그래피용 세정액 조성물을 개시한다. 상기 세정액 조성물은 화학식 1로 표시되는 산성 단분자 화합물 또는 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 수용성 고분자; 및 용매를 포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光刻的清洁溶液组合物，其防止图案塌陷和在形成光致抗蚀剂图案期间可能发生的线宽粗糙度（LWR）的数值增加，并且使图案表面变硬耐蚀刻性。清洗液组合物包括：包含化学式1表示的单分子酸化合物或化学式3表示的重复单元的水溶性聚合物; 和溶剂。

16. 发明申请

WO2012081865A2 포토리소그래피용 세정액 조성물 审中-公开
标题翻译：清洗液组合物用于光刻技术
公开(公告)号：WO2012081865A2
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：PCT/KR2011/009526
申请日：2011-12-12
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 오승근 , 이재우 , 이정열 , 김정식 , 김재현
发明人： 오승근 , 이재우 , 이정열 , 김정식 , 김재현
IPC分类号： C11D3/37 , G03F7/42
CPC分类号： C11D3/43 , C11D3/378 , G03F7/425 , G03F7/426
摘要： 포토레지스트 패턴 형성 시 발생하는 레지스트 스컴(scum) 및 패턴 쓰러짐을 방지하고, 선폭 거칠기(line width roughness: LWR)의 수치 증대를 억제(개선)할 수 있는 세정액 조성물이 개시된다. 상기 세정액 조성물은 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 수용성 고분자; 계면활성제; 및 용매를 포함한다.
摘要翻译：公开了一种用于防止在形成光致抗蚀剂图案时可能发生的抗污垢浮渣形成和图案塌陷以及用于防止（改善）线宽粗糙度（LWR）增加的清洗液组合物。清洗液组合物包括：水溶性聚合物，包括由权利要求1的化学式1表示的重复单元; 表面活性剂; 和溶剂。

17. 发明申请

WO2012067315A1 복합유황폴리머 审中-公开
标题翻译：复合硫磺聚合物
公开(公告)号：WO2012067315A1
公开(公告)日：2012-05-24
申请号：PCT/KR2011/002321
申请日：2011-04-04
申请人： 지에스칼텍스 주식회사 , 김재현 , 강명구 , 김혜령
发明人： 김재현 , 강명구 , 김혜령
IPC分类号： C08G75/00 , C08L81/00 , C08K7/24
CPC分类号： C08G75/0263 , C04B28/36 , C08K7/24 , C08K2201/003 , C08L81/00 , C04B20/002 , C04B20/0076 , C04B24/00 , C04B40/0085
摘要： 100 중량부의 유황을， 디싸이클로펜타디엔 (DCPD) 1 내지 10 중량부를 포함하는 유황 개질제로 중합하여 형성된 유황 폴리머， 및 표면에 다공성 기공이 형성된 무기입자로서， 제 1 평균 입경을 갖는 제 1 무기입자들 및 계 1 평균 입경의 5 내지 15 배인 제 2 평균 입경을 갖는 제 2 무기입자들로 이루어진 무기재료를 포함하는 콘크리트 제조용 복합 유황 폴리머가 개시된다. 상기 복합 유황 폴리머는 작업성이 우수할 뿐만 아니라 휨 강도 등의 물리적 특성이 매우 우수하다.
摘要翻译：公开了用于制造混凝土的复合硫聚合物，其包含：通过使100重量份的硫与包含1至10重量份的二环戊二烯（DCPD）的硫改性剂聚合而形成的硫聚合物; 以及无机材料，其具有第一平均粒径的第一无机粒子，其是表面具有孔的无机粒子，第二平均粒径为第一平均粒径的5〜15倍的第二无机粒子。复合硫聚合物具有优异的加工性和物理性能，如弯曲强度。

18. 发明申请

WO2012067314A1 개질 유황 폴리머 및 이를 포함하는 콘크리트 조성물 审中-公开
标题翻译：改性磺化聚合物和含有它的混凝土组合物
公开(公告)号：WO2012067314A1
公开(公告)日：2012-05-24
申请号：PCT/KR2011/002314
申请日：2011-04-04
申请人： 지에스칼텍스 주식회사 , 김재현 , 김혜령
发明人： 김재현 , 김혜령
IPC分类号： C08G75/00 , C08L81/00
CPC分类号： C08G75/0263 , C08L81/00
摘要： 본 발명은 페놀계 화합물 또는 티오에스테르계 화합물을 유황 및 디싸이클로펜타디엔과 함께 중합하여 합성된 개질 유황 폴리머를 제공한다. 본 발명에 따르면, 장기 저장성 및 작업성이 우수하면서도 휨강도 및 압축강도 등의 기계적 강도가 우수한 개질 유황 폴리머를 확보할 수 있다.
摘要翻译：本发明提供了通过使苯酚类化合物或硫酯类化合物与硫和二环戊二烯聚合而合成的重整硫酸聚合物。根据本发明，可以获得具有优异的长期保存性和加工性，并且还具有优异的机械强度如弯曲强度和抗压强度的重整硫酸聚合物。

19. 发明申请

WO2011108907A3 한방추출물을 유효성분으로 함유하는 소양증 및 아토피 개선용 조성물 审中-公开
公开(公告)号：WO2011108907A3
公开(公告)日：2011-09-09
申请号：PCT/KR2011/001555
申请日：2011-03-07
申请人： (주) 메디플랜 , 정원철 , 김지은 , 이선희 , 김재현 , 함경식 , 방미애 , 응웬지용 , 조정용
发明人： 정원철 , 김지은 , 이선희 , 김재현 , 함경식 , 방미애 , 응웬지용
IPC分类号： A61K36/48 , A61K36/28 , A61K36/882 , A61K36/804 , A61K8/97 , A23L1/29 , A61P17/00 , A61Q19/00
摘要： 본 발명은, 지황, 석창포, 황백, 고삼, 죽엽, 자초, 편축, 목근피, 관동화, 장군피 및 목과 추출물을 유효성분으로 함유하는 소양증 개선용 조성물에 관한 것으로서, 피부면역조절을 유도하여 피부소양증의 개선 효과를 가진다. 또한 본 발명은 생지황, 석창포, 고삼, 자초 및 황백의 추출물을 유효성분으로 함유하는 아토피 치료용 조성물에 관한 것이다. 상기 추출물을 포함하는 아토피 치료용 화장료 조성물, 약학 조성물 및 건강기능식품으로 다양하게 사용될 수 있다.

20. 发明申请

WO2010151041A2 수용성 코팅막용 조성물 审中-公开
标题翻译：用于水溶性涂膜的组合物
公开(公告)号：WO2010151041A2
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/KR2010/004069
申请日：2010-06-23
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 이정열 , 장유진 , 이재우 , 김재현
发明人： 이정열 , 장유진 , 이재우 , 김재현
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： G03F7/40
摘要： 포토레지스트막 및 패턴의 두께 감소(top-loss) 조절 및 이를 이용한 라인 에지 러프니스(line edge roughness: LER)의 개선이 가능한 수용성 코팅막용 조성물이 개시된다. 상기 수용성 코팅막용 조성물은, 수용성 고분자 1 내지 30중량%; 상기 수용성 고분자 100중량부에 대하여, 유기산, 무기산 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 산 화합물 0.1 내지 300중량부; 상기 수용성 고분자 100중량부에 대하여, 유기염기 0.1 내지 50중량부; 및 나머지 용매를 포함하며, 포토레지스트막 및 패턴 상에, 가열 공정에 의해 산을 확산시키고 물 또는 현상액에 녹을 수 있는 수용성 코팅막을 형성하여, 포토레지스트막 및 패턴의 두께를 감소시키기 위한 것이다.
摘要翻译：公开了一种用于水溶性涂膜的组合物，其可以调节光致抗蚀剂膜和图案的顶部损耗，并且改善线边缘粗糙度（LER）。水溶性涂膜用组合物含有：1〜30重量％的水溶性聚合物; 0.1〜300重量份选自有机酸，无机酸及其混合物的酸性化合物相对于100重量份的水溶性聚合物; 0.1〜50重量份有机碱，相对于100重量份的水溶性聚合物; 其余为溶剂。本发明通过加热工艺扩散酸，并形成可溶于水或显影剂溶液中的水溶性涂膜，以使光致抗蚀剂膜和图案上的顶部损失得以实现。

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