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1. 发明申请

US20130159944A1 FLARE MAP CALCULATING METHOD AND RECORDING MEDIUM 有权
标题翻译： FLARE MAP计算方法和记录介质
公开(公告)号：US20130159944A1
公开(公告)日：2013-06-20
申请号：US13615691
申请日：2012-09-14
申请人： Taiga UNO , Toshiya KOTANI , Satoshi TANAKA
发明人： Taiga UNO , Toshiya KOTANI , Satoshi TANAKA
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F7/70941 , G03F1/70
摘要： A flare map calculating method of an embodiment calculates an optical image intensity distribution in each division region set in a pattern region. Furthermore, an average value of the optical image intensity distribution is calculated in each division region. A pattern or plural patterns, which has a pattern density corresponding to the average value, is calculated as a corresponding density pattern in each division region. Furthermore, a density map, which represents a pattern density distribution within the pattern region, is generated based on the corresponding density pattern, and a flare map representing a flare intensity distribution within the pattern region is calculated by convolution integral of the density map and a point spread function.
摘要翻译：实施例的耀斑映射计算方法计算在图案区域中设置的每个划分区域中的光学图像强度分布。此外，在每个划分区域中计算出光学图像强度分布的平均值。在每个划分区域中计算具有对应于平均值的图案密度的图案或多个图案作为相应的浓度图案。此外，基于对应的浓度模式生成表示图案区域内的图案密度分布的密度图，并且通过密度图和a的卷积积分来计算表示图案区域内的耀斑强度分布的耀斑图点扩散功能。

2. 发明申请

US20100030545A1 PATTERN SHAPE PREDICTING METHOD AND PATTERN SHAPE PREDICTING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：图案形状预测方法和图案形状预测装置
公开(公告)号：US20100030545A1
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：US12512686
申请日：2009-07-30
申请人： Taiga UNO , Toshiya Kotani
发明人： Taiga UNO , Toshiya Kotani
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G03F1/36 , G03F1/68
摘要： A pattern shape predicting method comprising: predicting, with simulation, an intensity distribution of a pattern image concerning a pattern shape of a pattern on substrate formed on a substrate based on pattern data; calculating a first pattern edge position from the intensity distribution of the pattern image; calculating a feature value of the intensity distribution of the pattern image in a predetermined range including the first pattern edge position; calculating a fluctuation amount of the first pattern edge position from the feature value using a correlation; and predicting a second pattern edge position taking into account the fluctuation amount with respect to the first pattern edge position.
摘要翻译：一种图案形状预测方法，包括：基于图案数据，通过模拟预测与形成在基板上的基板上的图案的图案形状有关的图案图像的强度分布; 根据图案图像的强度分布计算第一图案边缘位置; 在包括所述第一图案边缘位置的预定范围内计算所述图案图像的强度分布的特征值; 使用相关性从特征值计算第一图案边缘位置的变动量; 并且考虑到相对于第一图案边缘位置的波动量来预测第二图案边缘位置。

3. 发明申请

US20110262867A1 METHOD OF CREATING AN EVALUATION MAP, SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT 审中-公开
标题翻译：创建评估图的方法，系统，制造半导体器件和计算机程序产品的方法
公开(公告)号：US20110262867A1
公开(公告)日：2011-10-27
申请号：US13052840
申请日：2011-03-21
申请人： Taiga UNO , Yukiyasu Arisawa
发明人： Taiga UNO , Yukiyasu Arisawa
IPC分类号： G03F7/20 , G06F17/50
CPC分类号： G03F1/70
摘要： According to one embodiment, evaluation map creating method is disclosed. The method determines number (N) of times on changing division starting position of layout for segmenting the layout into areas M to create the map by segmenting the layout into areas m and obtaining evaluation value v corresponding to area m (P1). The layout is divided by areas M larger than area m by changing the position, centers of k pieces of areas mk among areas m coincide centers of k pieces of areas M among areas M (P2). Pattern densities D of the layout in areas M is obtained (P3). Evaluation values Vk on areas Mk are calculated by convolving pattern density D for each of areas M with distribution function F (P4). The P2-P4 are repeated N times and obtained N pieces of evaluation values Vk are synthesized (P5).
摘要翻译：根据一个实施例，公开了评估图创建方法。该方法通过将布局分割为区域m并获得对应于区域m（P1）的评估值v来确定将布局分割的区域开始位置的次数（N）确定为区域M以创建地图。通过改变位置将布局除以大于区域m的区域M，区域m中的k个区域mk的中心与区域M（P2）中的k个区域M的中心重合。获得区域M中的布局的图案密度D（P3）。通过对具有分布函数F（P4）的每个区域M的图案密度D进行卷积来计算区域Mk上的评价值Vk。 P2-P4重复N次，得到N个评价值Vk（P5）。

4. 发明申请

US20120202140A1 FLARE PREDICTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND COMPUTER-READABLE MEDIUM 有权
标题翻译：闪光预测方法，光电子制造方法，半导体器件制造方法和计算机可读介质
公开(公告)号：US20120202140A1
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：US13233680
申请日：2011-09-15
申请人： Taiga UNO , Yukiyasu ARISAWA
发明人： Taiga UNO , Yukiyasu ARISAWA
IPC分类号： G03F7/20 , G06F17/50 , G03F1/68
CPC分类号： G03F1/24 , G03F1/70 , G03F7/70433 , G03F7/70941
摘要： According to one embodiment, a flare prediction method in photolithography includes determining a pattern density distribution of a pattern layout, determining an inclination of a variation in the pattern density distribution, and performing a flare calculation in a plurality of partition sizes based on the inclination of a variation in the pattern density distribution.
摘要翻译：根据一个实施例，光刻中的闪光预测方法包括确定图案布局的图案密度分布，确定图案密度分布的变化的倾斜度，以及基于倾斜度的多个分割尺寸执行闪光计算模式密度分布的变化。

5. 发明申请

US20100323282A1 METHOD OF CORRECTING A FLARE AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT 有权
标题翻译：校正一个FLARE和计算机程序产品的方法
公开(公告)号：US20100323282A1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：US12817968
申请日：2010-06-17
申请人： Taiga UNO , Yukiyasu Arisawa , Hajime Aoyama
发明人： Taiga UNO , Yukiyasu Arisawa , Hajime Aoyama
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/70
摘要： A method of correcting a flare comprising: calculating a distribution of a flare value corresponding to pattern data on the pattern data as a flare map; calculating an occupancy of a pattern having a predetermined flare value on the pattern data as a flare value occupancy for each flare value, by using the flare map; determining a reference flare value to be a reference of the flare value based on the distribution of the flare value occupancy; and performing a pattern correction corresponding to the flare value with a pattern correction amount at the reference flare value as a reference.
摘要翻译：一种校正闪光的方法，包括：计算与图案数据上的图案数据相对应的耀斑值的分布，作为耀斑图; 通过使用闪光图，计算对图案数据具有预定耀斑值的图案的占有量作为每个耀斑值的闪光值占有率; 基于闪光值占用的分布，确定参考闪光值作为闪光值的参考; 并且以参考闪光值的模式校正量作为参考，执行与闪光值对应的图案校正。

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