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1. 发明申请

US20100083200A1 METHODS, SYSTEM, AND COMPUTER PROGRAM PRODCUT FOR IMPLEMENTING COMPACT MANUFACTURING MODEL IN ELECTRONIC DESIGN AUTOMATION 有权
标题翻译：电子设计自动化中实现紧凑型制造模型的方法，系统和计算机程序
公开(公告)号：US20100083200A1
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：US12242442
申请日：2008-09-30
申请人： Li J. Song , Srini Doddi , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar
发明人： Li J. Song , Srini Doddi , Emmanuel Drege , Nickhil Jakatdar
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G06F17/5036 , G06F17/5068
摘要： Disclosed are a method, a system, and a computer program product for implementing compact manufacturing model during various stages of electronic circuit designs. In some embodiments, the method or the system receives or identifies physics based data. In some embodiments, the method or the system receives or identifies the physics based data for the corresponding manufacturing process by using the golden manufacturing process model. In some embodiments, the method or the system uses the physics based data to fine tune, modify, or adjust the golden manufacturing process model. In some embodiments, the method or the system invokes the just-right module. In some embodiments, the method or the system implements the compact manufacturing model and the correct-by-design module and provides guidelines for the various stages of the electronic circuit design.
摘要翻译：公开了一种用于在电子电路设计的各个阶段期间实现紧凑的制造模型的方法，系统和计算机程序产品。在一些实施例中，该方法或系统接收或识别基于物理的数据。在一些实施例中，该方法或系统通过使用金制造过程模型来接收或识别相应制造过程的基于物理的数据。在一些实施例中，该方法或系统使用基于物理的数据来微调，修改或调整黄金制造过程模型。在一些实施例中，该方法或系统调用正确的模块。在一些实施例中，该方法或系统实现紧凑的制造模型和逐个设计模块，并为电子电路设计的各个阶段提供指导。

2. 发明申请

US20050057748A1 Selecting a hypothetical profile to use in optical metrology 有权
标题翻译：选择用于光学计量学的假设剖面
公开(公告)号：US20050057748A1
公开(公告)日：2005-03-17
申请号：US10663300
申请日：2003-09-15
申请人： Vi Vuong , Junwei Bao , Srini Doddi , Emmanuel Drege , Jin Wen , Sanjay Yedur , Doris Chin , Nickhil Jakatdar , Lawrence Lane
发明人： Vi Vuong , Junwei Bao , Srini Doddi , Emmanuel Drege , Jin Wen , Sanjay Yedur , Doris Chin , Nickhil Jakatdar , Lawrence Lane
IPC分类号： G01B11/24 , G01B11/30 , G01N21/00 , G01N21/17 , G01N21/84 , G01N21/956 , G01R31/26 , G06F19/00 , H01L21/02 , H01L21/66
CPC分类号： G01B11/306 , G03F7/70625
摘要： A hypothetical profile is used to model the profile of a structure formed on a semiconductor wafer to use in determining the profile of the structure using optical metrology. To select a hypothetical profile, sample diffraction signals are obtained from measured diffraction signals of structures formed on the wafer, where the sample diffraction signals are a representative sampling of the measured diffraction signals. A hypothetical profile is defined and evaluated using a sample diffraction signal from the obtained sample diffraction signals.
摘要翻译：使用假设的轮廓来对形成在半导体晶片上的结构的轮廓进行建模，以用于使用光学计量来确定结构的轮廓。为了选择一个假设的曲线，样品衍射信号是从晶片上形成的结构的测量衍射信号获得的，其中样品衍射信号是测量的衍射信号的代表性采样。使用来自所获得的样品衍射信号的样品衍射信号来定义和评估假设轮廓。

3. 发明授权

US08136068B2 Methods, systems, and computer program products for implementing compact manufacturing models in electronic design automation 有权
标题翻译：用于实现电子设计自动化中的紧凑型制造模型的方法，系统和计算机程序产品
公开(公告)号：US08136068B2
公开(公告)日：2012-03-13
申请号：US12242442
申请日：2008-09-30
申请人： Li J. Song , Srini Doddi , Emmanuel Drego , Nickhil Jakatdar
发明人： Li J. Song , Srini Doddi , Emmanuel Drego , Nickhil Jakatdar
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G06F17/5036 , G06F17/5068
摘要： Disclosed are a method, a system, and a computer program product for implementing compact manufacturing model during various stages of electronic circuit designs. In some embodiments, the method or the system receives or identifies physics based data. In some embodiments, the method or the system receives or identifies the physics based data for the corresponding manufacturing process by using the golden manufacturing process model. In some embodiments, the method or the system uses the physics based data to fine tune, modify, or adjust the golden manufacturing process model. In some embodiments, the method or the system invokes the just-right module. In some embodiments, the method or the system implements the compact manufacturing model and the correct-by-design module and provides guidelines for the various stages of the electronic circuit design.
摘要翻译：公开了一种用于在电子电路设计的各个阶段期间实现紧凑的制造模型的方法，系统和计算机程序产品。在一些实施例中，该方法或系统接收或识别基于物理的数据。在一些实施例中，该方法或系统通过使用金制造过程模型来接收或识别相应制造过程的基于物理的数据。在一些实施例中，该方法或系统使用基于物理的数据来微调，修改或调整黄金制造过程模型。在一些实施例中，该方法或系统调用正确的模块。在一些实施例中，该方法或系统实现紧凑的制造模型和逐个设计模块，并为电子电路设计的各个阶段提供指导。

4. 发明授权

US07966586B2 Intelligent pattern signature based on lithography effects 有权
标题翻译：基于光刻效应的智能图案签名
公开(公告)号：US07966586B2
公开(公告)日：2011-06-21
申请号：US11952912
申请日：2007-12-07
申请人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： The present invention is directed to an improved method, system, and computer program product for accessing and analyzing patterns in the integrated circuit design. The method, system or computer program product includes generating an intelligent signature for a pattern. The derived pattern signature is an intelligent pattern identifier because it retains only essential information about a pattern that corresponds to lithography printable portions of the pattern. Accordingly, one pattern signature can represent a group of design patterns that are equivalents from a lithography perspective.
摘要翻译：本发明涉及用于访问和分析集成电路设计中的图案的改进的方法，系统和计算机程序产品。方法，系统或计算机程序产品包括为模式生成智能签名。导出的图案签名是智能图案标识符，因为它仅保留关于对应于图案的可光刻印刷部分的图案的必要信息。因此，一个图案签名可以表示与光刻方面相当的一组设计图案。

5. 发明申请

US20090150836A1 Intelligent Pattern Signature Based on Lithography Effects 有权
标题翻译：基于光刻效应的智能图案签名
公开(公告)号：US20090150836A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：US11952912
申请日：2007-12-07
申请人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： The present invention is directed to an improved method, system, and computer program product for accessing and analyzing patterns in the integrated circuit design. The method, system or computer program product includes generating an intelligent signature for a pattern. The derived pattern signature is an intelligent pattern identifier because it retains only essential information about a pattern that corresponds to lithography printable portions of the pattern. Accordingly, one pattern signature can represent a group of design patterns that are equivalents from a lithography perspective.
摘要翻译：本发明涉及用于访问和分析集成电路设计中的图案的改进的方法，系统和计算机程序产品。方法，系统或计算机程序产品包括为模式生成智能签名。导出的图案签名是智能图案标识符，因为它仅保留关于对应于图案的可光刻印刷部分的图案的必要信息。因此，一个图案签名可以表示与光刻方面相当的一组设计图案。

6. 发明授权

US07904853B1 Pattern signature 有权
标题翻译：模式签名
公开(公告)号：US07904853B1
公开(公告)日：2011-03-08
申请号：US11965680
申请日：2007-12-27
申请人： Junjiang Lei , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068
摘要： A method, system, and computer program product are disclosed for generating a pattern signature to represent a pattern in an integrated circuit design. In one approach, the method, system and computer program product transform pattern data, two dimensional data for the pattern, into a set of one dimensional mathematical functions, compress the set of one dimensional mathematical functions into a single variable function, compress the single variable function by calculating a set of values for the single variable function, and generate a pattern signature for the pattern from the set of values.
摘要翻译：公开了用于产生模式签名以表示集成电路设计中的模式的方法，系统和计算机程序产品。在一种方法中，方法，系统和计算机程序产品将模式数据，模式的二维数据转换为一组一维数学函数，将一维数学函数集合压缩为单个可变函数，压缩单个变量通过计算单个变量函数的一组值来产生函数，并从该组值生成该模式的模式签名。

7. 发明申请

US20090169114A1 INTERPOLATION OF IRREGULAR DATA IN A FINITE-DIMENSIONAL METRIC SPACE IN LITHOGRAPHIC SIMULATION 有权
标题翻译：在一个有限维度空间中的非线性数据的插值模拟
公开(公告)号：US20090169114A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：US11966920
申请日：2007-12-28
申请人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
发明人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
IPC分类号： G06K9/62
CPC分类号： G06F17/5081
摘要： A method, system, and computer program product for preprocessing a pattern in a library of patterns and querying a preprocessed library of patterns are disclosed. Embodiments for querying a preprocessed library of patterns are disclosed for determining a distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern, determining whether the distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern is within the range for the first pattern, and transforming the second pattern with the transformation matrix to provide information about the second pattern. Embodiments for preprocessing a pattern in a library of patterns are disclosed for determining a transformation matrix for the first pattern, determining a range for the first pattern, wherein a distance between a representation for a first pattern and a representation for a second pattern is within the range and the second pattern can be transformed with the transformation matrix to provide information about the second pattern, and associating the range and the transformation matrix with the first pattern.
摘要翻译：公开了一种用于对模式库中的模式进行预处理并查询预处理的模式库的方法，系统和计算机程序产品。公开了用于查询预处理的图案库的实施例，用于确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离，确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离是否在范围，并且用变换矩阵变换第二图案以提供关于第二图案的信息。公开了用于预处理图案库中的图案的实施例，用于确定第一图案的变换矩阵，确定第一图案的范围，其中第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离在范围，并且第二图案可以用变换矩阵变换以提供关于第二图案的信息，并且将范围和变换矩阵与第一图案相关联。

8. 发明授权

US08291351B2 Intelligent pattern signature based on lithography effects 有权
标题翻译：基于光刻效应的智能图案签名
公开(公告)号：US08291351B2
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：US13151208
申请日：2011-06-01
申请人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/36
摘要： The present invention is directed to an improved method, system, and computer program product for accessing and analyzing patterns in the integrated circuit design. The method, system or computer program product includes generating an intelligent signature for a pattern. The derived pattern signature is an intelligent pattern identifier because it retains only essential information about a pattern that corresponds to lithography printable portions of the pattern. Accordingly, one pattern signature can represent a group of design patterns that are equivalents from a lithography perspective.
摘要翻译：本发明涉及用于访问和分析集成电路设计中的图案的改进的方法，系统和计算机程序产品。方法，系统或计算机程序产品包括为模式生成智能签名。导出的图案签名是智能图案标识符，因为它仅保留关于对应于图案的可光刻印刷部分的图案的必要信息。因此，一个图案签名可以表示与光刻方面相当的一组设计图案。

9. 发明授权

US08358828B2 Interpolation of irregular data in a finite-dimensional metric space in lithographic simulation 有权
标题翻译：在光刻模拟中的有限维度量空间中插入不规则数据
公开(公告)号：US08358828B2
公开(公告)日：2013-01-22
申请号：US11966920
申请日：2007-12-28
申请人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
发明人： Srini Doddi , Junjiang Lei , Kuang-Hao Lay , Weiping Fang
IPC分类号： G06K9/00
CPC分类号： G06F17/5081
摘要： A method, system, and computer program product for preprocessing a pattern in a library of patterns and querying a preprocessed library of patterns are disclosed. Embodiments for querying a preprocessed library of patterns are disclosed for determining a distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern, determining whether the distance between the representation for the first pattern and the representation for the second pattern is within the range for the first pattern, and transforming the second pattern with the transformation matrix to provide information about the second pattern. Embodiments for preprocessing a pattern in a library of patterns are disclosed for determining a transformation matrix for the first pattern, determining a range for the first pattern, wherein a distance between a representation for a first pattern and a representation for a second pattern is within the range and the second pattern can be transformed with the transformation matrix to provide information about the second pattern, and associating the range and the transformation matrix with the first pattern.
摘要翻译：公开了一种用于对模式库中的模式进行预处理并查询预处理的模式库的方法，系统和计算机程序产品。公开了用于查询预处理的图案库的实施例，用于确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离，确定第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离是否在范围，并且用变换矩阵变换第二图案以提供关于第二图案的信息。公开了用于预处理图案库中的图案的实施例，用于确定第一图案的变换矩阵，确定第一图案的范围，其中第一图案的表示与第二图案的表示之间的距离在范围，并且第二图案可以用变换矩阵变换以提供关于第二图案的信息，并且将范围和变换矩阵与第一图案相关联。

10. 发明授权

US08341571B1 Pattern signature 有权
标题翻译：模式签名
公开(公告)号：US08341571B1
公开(公告)日：2012-12-25
申请号：US13042414
申请日：2011-03-07
申请人： Junjiang Lei , Srini Doddi , Weiping Fang
发明人： Junjiang Lei , Srini Doddi , Weiping Fang
IPC分类号： G06F9/455 , G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5068
摘要： A method, system, and computer program product are disclosed for generating a pattern signature to represent a pattern in an integrated circuit design. In one approach, the method, system and computer program product transform pattern data, two dimensional data for the pattern, into a set of one dimensional mathematical functions, compress the set of one dimensional mathematical functions into a single variable function, compress the single variable function by calculating a set of values for the single variable function, and generate a pattern signature for the pattern from the set of values.
摘要翻译：公开了用于产生模式签名以表示集成电路设计中的模式的方法，系统和计算机程序产品。在一种方法中，方法，系统和计算机程序产品将模式数据，模式的二维数据转换为一组一维数学函数，将一维数学函数集合压缩为单个可变函数，压缩单个变量通过计算单个变量函数的一组值来产生函数，并从该组值生成该模式的模式签名。

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