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1. 发明授权

US5614273A Process and apparatus for plasma-activated electron beam vaporization 失效
标题翻译：等离子体激活电子束蒸发的方法和装置
公开(公告)号：US5614273A
公开(公告)日：1997-03-25
申请号：US639620
申请日：1996-04-29
申请人： Klaus Goedicke , Bert Scheffel , Jonathan Reschke , Siegfried Schiller , Volker Kirchhoff , Torsten Werner
发明人： Klaus Goedicke , Bert Scheffel , Jonathan Reschke , Siegfried Schiller , Volker Kirchhoff , Torsten Werner
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/30 , C23C14/56 , H01J37/305 , H05H1/24
CPC分类号： C23C14/562 , C23C14/24 , C23C14/30 , H01J37/3053
摘要： A process and apparatus for plasma-activated electron beam vaporization isrovided. The vaporizing material from at least two vaporizer crucibles is vaporized with electron beams. An electric voltage is applied to the vaporizer crucibles in such a way that the vapor-emitting areas serve as electrodes of an electric discharge. The vaporizing material acts as a cathode or anode. The process and apparatus are preferably intended for the reactive coating of large surfaces and for the reactive coating of components, tools and strip steel.
摘要翻译：提供了一种用于等离子体激活的电子束蒸发的方法和装置。来自至少两个蒸发器坩埚的气化材料用电子束蒸发。以蒸发器坩埚的方式施加电压使得蒸汽发射区域用作放电电极。蒸发材料充当阴极或阳极。该方法和装置优选用于大表面的反应性涂层和组件，工具和带钢的反应性涂层。

2. 发明授权

US6083356A Method and device for pre-treatment of substrates 失效
标题翻译：用于预处理底物的方法和装置
公开(公告)号：US6083356A
公开(公告)日：2000-07-04
申请号：US91099
申请日：1998-09-14
申请人： Klaus Goedicke , Fred Fietzke , Jonathan Reschke , Wolfgang Hempel , Bert Scheffel , Christoph Metzner , Siegfried Schiller
发明人： Klaus Goedicke , Fred Fietzke , Jonathan Reschke , Wolfgang Hempel , Bert Scheffel , Christoph Metzner , Siegfried Schiller
IPC分类号： C23C14/02 , H01J37/32 , B01J19/08
CPC分类号： H01J37/32018 , C23C14/022 , H01J37/34 , H01J2237/3322
摘要： Process and apparatus for pre-treatment of a substrate surface in a vacuum by a glow discharge for a subsequent coating process in a vacuum. The process includes maintaining a low pressure glow discharge between the substrate to be pre-treated and a counter-electrode, where the counter-electrode composed of at least a component of the coating to be deposited in the vacuum coating process. The process also includes periodically alternating a polarity of the substrate to act as a cathode or as an anode of the low pressure glow discharge, and individually controlling at least one of pulse length and discharge voltage in both polarities. A frequency of alternation of the polarity is set within a range of between 1 Hz and 1000 kHz. The apparatus includes an evacuatable vacuum chamber, a substrate holder positioned to hold a substrate to be pre-treated, at least one counter-electrode, and an alternating voltage generator coupled to the substrate to be pre-treated and the at least one counter-electrode. The substrate and the counter-electrode are mounted in a potential-free manner.
摘要翻译： PCT No.PCT / EP96 / 05032 Sec。 371日期：1998年9月14日 102（e）1998年9月14日PCT PCT 1996年11月15日PCT公布。公开号WO97 / 22988 PCT 日期1997年6月26日用于在真空中通过辉光放电在真空中预处理衬底表面以用于在真空中进行随后的涂覆过程的工艺和设备。该方法包括保持待预处理的基板和反电极之间的低压辉光放电，其中反电极由真空涂覆工艺中要沉积的涂层的至少一部分组成。该方法还包括周期性地交替使衬底的极性作为阴极或作为低压辉光放电的阳极，以及分别控制两极性的脉冲长度和放电电压中的至少一个。极性的交替频率设定在1Hz〜1000kHz的范围内。该装置包括可抽空的真空室，定位成保持待预处理的基板的基板保持器，至少一个对电极和耦合到待预处理的基板的交流电压发生器，电极。基板和对电极以无电势的方式安装。

3. 发明授权

US5780803A Process for the stabilization of plasma generation by means of electron beam vaporizer 失效
标题翻译：通过电子束蒸发器稳定等离子体产生的方法
公开(公告)号：US5780803A
公开(公告)日：1998-07-14
申请号：US821030
申请日：1997-03-20
申请人： Klaus Goedicke , Volker Kirchhoff , Christoph Metzner , Bert Scheffel
发明人： Klaus Goedicke , Volker Kirchhoff , Christoph Metzner , Bert Scheffel
IPC分类号： C23C14/32 , H01J37/304 , H01J37/305 , B23K10/00 , B23K15/00
CPC分类号： H01J37/304 , C23C14/32 , H01J37/3053
摘要： The invention relates to a process for stabilizing plasma generation in the coating of large substrate surfaces by means of an electron beam vaporizer. To obtain a stable operation of the apparatus at a high vaporization rate and stable plasma excitation of the vapour cloud without using additional electrodes, according to the invention the vaporization rate of the electron beam vaporizer is initially set so high that at least 10% of the electron beam power is absorbed in the vaporization chamber by the vapour and the optical emission of the resulting plasma is measured. The operating parameters of the electron gun or a process parameter are then controlled in such a way that the optical emission, and therefore the energy absorption, remains constant.
摘要翻译：本发明涉及通过电子束蒸发器来稳定大衬底表面涂层中的等离子体产生的方法。为了以高蒸发速率和蒸气云的稳定等离子体激发而不使用附加电极获得设备的稳定操作，根据本发明，电子束蒸发器的蒸发速率最初设定得高至至少10％电子束功率被蒸汽吸收在蒸发室中，并测量所得等离子体的光发射。然后控制电子枪的操作参数或工艺参数，使得光发射，因此能量吸收保持恒定。

4. 发明授权

US6086963A Method and device for control of a vacuum vaporization process 失效
标题翻译：用于控制真空汽化过程的方法和装置
公开(公告)号：US6086963A
公开(公告)日：2000-07-11
申请号：US125106
申请日：1998-09-02
申请人： Klaus Goedicke , Bert Scheffel , Christoph Metzner
发明人： Klaus Goedicke , Bert Scheffel , Christoph Metzner
IPC分类号： C03C17/00 , C23C14/54 , C23C14/24 , C23C15/54
CPC分类号： C23C14/54 , C03C17/002
摘要： The vacuum vaporization process is controlled using recoil force of the evaporating particles as the measurable variable by measuring the rate of evaporation. The vaporizer vessel is arranged in the vacuum chamber with the aid of force transducers, and the signal emanating from the force transducers can be used to control, for example, the electrical energy to heat the vaporizing material, the beam deflection or the fill level in the vaporizer, with the sensors not coming into contact with the vapor. Vacuum vaporization processes, particularly for vapor deposition of functional coatings on tools and sheet substrates, can be controlled with this method and device.
摘要翻译： PCT No.PCT / DE97 / 00267 Sec。 371日期：1998年9月2日 102（e）1998年9月2日PCT PCT 1997年2月7日提交PCT公布。公开号WO97 / 30187 日期1997年8月21日通过测量蒸发速率，通过蒸发颗粒的反冲力作为可测量的变量控制真空蒸发过程。蒸发器容器借助于力传感器布置在真空室中，并且来自力传感器的信号可用于控制例如电能以加热气化材料，光束偏转或填充水平蒸发器，传感器不与蒸气接触。这种方法和装置可以控制真空汽化过程，特别是用于工具和片材基底上的功能涂层的气相沉积。

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