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    • 9. 发明授权
    • Composite patterning devices for soft lithography
    • 用于软光刻的复合图案形成装置
    • US07195733B2
    • 2007-03-27
    • US11115954
    • 2005-04-27
    • John A. RogersEtienne Menard
    • John A. RogersEtienne Menard
    • B29C67/00B29C35/08
    • B82Y10/00B82Y30/00B82Y40/00C04B24/383C04B28/14C04B2111/00181G03F7/0002
    • The present invention provides methods, devices and device components for fabricating patterns on substrate surfaces, particularly patterns comprising structures having microsized and/or nanosized features of selected lengths in one, two or three dimensions. The present invention provides composite patterning devices comprising a plurality of polymer layers each having selected mechanical properties, such as Young's Modulus and flexural rigidity, selected physical dimensions, such as thickness, surface area and relief pattern dimensions, and selected thermal properties, such as coefficients of thermal expansion, to provide high resolution patterning on a variety of substrate surfaces and surface morphologies.
    • 本发明提供用于在衬底表面上制造图案的方法,装置和器件部件,特别是包括具有一维,二维或三维尺寸选定长度的微小尺寸和/或纳米尺寸特征的结构的图案。 本发明提供了复合图案形成装置,其包括多个聚合物层,每个聚合物层各自具有选择的机械性质,例如杨氏模量和弯曲刚度,所选择的物理尺寸,例如厚度,表面积和浮雕图案尺寸,以及选定的热性能,例如系数 的热膨胀,以在各种基底表面和表面形态上提供高分辨率图案。