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    • 8. 发明授权
    • Apparatus and method for intra-layer modulation of the material deposition and assist beam and the multilayer structure produced therefrom
    • 用于材料沉积和辅助光束的层内调制的装置和方法以及由其产生的多层结构
    • US06478931B1
    • 2002-11-12
    • US09634457
    • 2000-08-07
    • Hadyn N. G. WadleyXiaowang ZhouJunjie Quan
    • Hadyn N. G. WadleyXiaowang ZhouJunjie Quan
    • C23C1434
    • C23C14/54C23C14/165C23C14/46
    • A method of producing a multilayer structure that has reduced interfacial roughness and interlayer mixing by using a physical-vapor deposition apparatus. In general the method includes forming a bottom layer having a first material wherein a first plurality of monolayers of the first material is deposited on an underlayer using a low incident adatom energy. Next, a second plurality of monolayers of the first material is deposited on top of the first plurality of monolayers of the first material using a high incident adatom energy. Thereafter, the method further includes forming a second layer having a second material wherein a first plurality of monolayers of the second material is deposited on the second plurality of monolayers of the first material using a low incident adatom energy. Next, a second plurality of monolayers of the second material is deposited on the first plurality of monolayers of the second material using a high incident adatom energy.
    • 一种通过使用物理气相沉积设备制备具有降低的界面粗糙度和层间混合的多层结构的方法。 通常,该方法包括形成具有第一材料的底层,其中第一材料的第一多个单层使用低入射的原子能量沉积在底层上。 接下来,第一材料的第二多个单层被沉积在第一材料的第一多个单层的顶部上,使用高的入射吸收能量。 此后,该方法还包括形成具有第二材料的第二层,其中第二材料的第一多个单层被沉积在第一材料的第二多个单层上,使用低入射的原子能。 接下来,第二材料的第二多个单层使用高入射的原子能量沉积在第二材料的第一多个单层上。