专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

US6100628A Electron emissive film and method 失效
标题翻译：电子发射膜和方法
公开(公告)号：US6100628A
公开(公告)日：2000-08-08
申请号：US322304
申请日：1999-05-28
申请人： Bernard F. Coll , Eric P. Menu , Albert Alec Talin
发明人： Bernard F. Coll , Eric P. Menu , Albert Alec Talin
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/32 , H01J1/304 , H01J9/02 , H01J29/04 , H01J31/12 , H01J1/05
CPC分类号： B82Y30/00 , C23C14/0605 , C23C14/325 , H01J9/025
摘要： A method for forming an electron emissive film (200, 730, 830) includes the steps of: (i) evaporating a graphite source (120, 620) in a cathodic arc deposition apparatus (100, 600) to create a carbon plasma (170, 670), (ii) applying a potential difference between the graphite source (120, 620) and a glass or silicon deposition substrate (130, 630, 710, 810) for accelerating the carbon plasma (170, 670) toward the deposition substrate (130, 630, 710, 810), (iii) providing a working gas within the cathodic arc deposition apparatus (100, 600), and (ii) depositing the carbon plasma (170, 670) onto the deposition substrate (130, 630, 710, 810).
摘要翻译：形成电子发射膜（200,730,830）的方法包括以下步骤：（i）在阴极电弧沉积设备（100,600）中蒸发石墨源（120,620）以产生碳等离子体（170 ，670），（ii）在石墨源（120,620）和玻璃或硅沉积衬底（130,630,710,810）之间施加电位差，用于将碳等离子体（170,670）加速到沉积衬底（130,630,710,810），（iii）在阴极电弧沉积设备（100,600）内提供工作气体，和（ii）将碳等离子体（170,670）沉积到沉积衬底（130,630）上，710,810）。

2. 发明授权

US5837331A Amorphous multi-layered structure and method of making the same 失效
标题翻译：非晶多层结构及其制作方法
公开(公告)号：US5837331A
公开(公告)日：1998-11-17
申请号：US614703
申请日：1996-03-13
申请人： Eric P. Menu , John Song , Bernard F. Coll
发明人： Eric P. Menu , John Song , Bernard F. Coll
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/54 , C23C16/34 , H01J1/30 , H01J1/304 , H01J3/02 , H01J9/02 , H05H1/24 , B05D1/36 , B05D5/12 , C23C16/00
CPC分类号： C23C16/342 , C23C14/0605 , C23C14/548 , H01J3/022 , H01J9/025 , H01J2201/30457 , H01J2201/319
摘要： An amorphous multi-layered structure (100, 200) is formed by a method including the steps of: i) positioning a deposition substrate (101) in a physical vapor deposition apparatus (300, 400, 500) ii) ionizing a precursor of a multi-phase material within the physical vapor deposition apparatus (300, 400, 500) iv) modulating the total ion impinging energy of the ions to deposit layers having predetermined properties corresponding to the total ion impinging energy values.
摘要翻译：通过包括以下步骤的方法形成非晶多层结构（100,200）：i）将沉积基板（101）定位在物理气相沉积设备（300,400,500）中，ii）将物理气相沉积装置（300,400,500）内的多相材料iv）调节离子的总离子冲击能量以沉积具有对应于总离子冲击能量值的预定特性的层。

3. 发明授权

US6078133A Field emission device having an amorphous multi-layered structure 失效
标题翻译：具有非晶多层结构的场致发射器件
公开(公告)号：US6078133A
公开(公告)日：2000-06-20
申请号：US28797
申请日：1998-02-25
申请人： Eric P. Menu , John Song , Bernard F. Coll
发明人： Eric P. Menu , John Song , Bernard F. Coll
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/54 , C23C16/34 , H01J1/30 , H01J1/304 , H01J3/02 , H01J9/02 , H01J1/02
CPC分类号： C23C16/342 , C23C14/0605 , C23C14/548 , H01J3/022 , H01J9/025 , H01J2201/30457 , H01J2201/319
摘要： An amorphous multi-layered structure (100, 200) is formed by a method including the steps of: i) positioning a deposition substrate (101) in a physical vapor deposition apparatus, (300, 400, 500) ii) ionizing a precursor of a multi-phase material within the physical vapor deposition apparatus (300, 400, 500) iv) modulating the total ion impinging energy of the ions to deposit layers having predetermined properties corresponding to the total ion impinging energy values.
摘要翻译：通过包括以下步骤的方法形成非晶多层结构（100,200）：i）将沉积基板（101）定位在物理气相沉积设备中（300,400,500），ii）将前体在物理气相沉积装置（300,400,500）内的多相材料，iv）调节离子的总离子冲击能量以沉积具有对应于总离子冲击能量值的预定特性的层。

4. 发明授权

US5750188A Method for forming a thin film of a non-stoichiometric metal oxide 失效
标题翻译：用于形成非化学计量的金属氧化物薄膜的方法
公开(公告)号：US5750188A
公开(公告)日：1998-05-12
申请号：US705361
申请日：1996-08-29
申请人： Eric P. Menu
发明人： Eric P. Menu
IPC分类号： C09K11/08 , C09K11/60 , C23C14/00 , C23C14/08 , B05D5/13
CPC分类号： C23C14/0021 , C09K11/0811 , C09K11/605 , C23C14/086
摘要： A method for forming a thin film (220) of luminescent zinc oxide includes the steps of: (i) providing a mixture (170) of powdered zinc oxide and powdered graphite, (ii) providing a substrate (140) at a distance of about 9 millimeters from the mixture (170), (iii) disposing the mixture (170) and substrate (140) within an apparatus (100) that provides a confined environment having a partial pressure of oxygen of about 0.21 atmospheres, (iv) heating the mixture (170) to a temperature of about 850 degrees Celsius, and (v) establishing a temperature gradient between the substrate (140) and the mixture (170) of about 15 degrees, the temperature of the substrate (140) being less than the temperature of the mixture (170).
摘要翻译：形成发光氧化锌薄膜（220）的方法包括以下步骤：（i）提供粉状氧化锌和粉状石墨的混合物（170），（ii）提供距离约离开混合物（170）9毫米，（iii）将混合物（170）和基底（140）设置在提供约0.21大气压的氧分压的限制环境的设备（100）内，（iv）加热混合物（170）至约850摄氏度的温度，和（v）在衬底（140）和混合物（170）之间建立约15度的温度梯度，衬底（140）的温度小于混合物的温度（170）。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式