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1. 发明专利

TWI667494B 顯微鏡裝置有权
简体标题：显微镜设备
公开(公告)号：TWI667494B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107112214
申请日：2018-04-10
申请人：日商凱羅斯股份有限公司 , KAIROS CO., LTD.
发明人：千葉敏雄 , CHIBA, TOSHIO , 谷岡健吉 , TANIOKA, KENKICHI , 河合滋 , KAWAI, SHIGERU
IPC分类号： G02B21/04 , G02B21/32

2. 发明专利

TW201736901A 照明裝置、光學裝置、壓印裝置、投影裝置、以及製造該物件的方法审中-公开
简体标题：照明设备、光学设备、压印设备、投影设备、以及制造该对象的方法
公开(公告)号：TW201736901A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106109382
申请日：2017-03-21
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：宮春文 , MIYAHARU, TAKAFUMI , 篠田健一郎 , SHINODA, KEN-ICHIRO , 松本宏 , MATSUMOTO, TAKAHIRO , 佐藤一洋 , SATO, KAZUHIRO
IPC分类号： G02B21/06 , G02B21/04 , G02B27/18 , G03F7/20
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B3/0006 , G02B27/0025 , G03F7/0002 , H04N9/3114
摘要：本發明提供執行傾斜照射的照射裝置，該照射裝置包括：第一光學元件，其由多個光學部件的陣列形成，各個光學部件經組構以產生點光源；以及第二光學元件，經組構以接收來自所述第一光學元件的光並形成照射區域，所述第二光學元件在一個方向上的屈光力不同於所述第二光學元件在與所述一個方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光學元件和所述第二光學元件中的至少一個具有圍繞光學元件的光軸的旋轉角度，以對由所述傾斜照射而引起的所述照射區域的失真進行補償。
简体摘要：本发明提供运行倾斜照射的照射设备，该照射设备包括：第一光学组件，其由多个光学部件的数组形成，各个光学部件经组构以产生点光源；以及第二光学组件，经组构以接收来自所述第一光学组件的光并形成照射区域，所述第二光学组件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学组件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光学组件和所述第二光学组件中的至少一个具有围绕光学组件的光轴的旋转角度，以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。

3. 发明专利

TW201918230A 整合米洛(Mirau)光學干涉顯微術之光學切層裝置审中-公开
简体标题：集成米洛(Mirau)光学干涉显微术之光学切层设备
公开(公告)号：TW201918230A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106137526
申请日：2017-10-31
申请人：銳準醫光股份有限公司 , ACUSOLUTIONS INC.
发明人：許光裕 , HSU, KUANG-YU , 蔡建中 , TSAI, CHIEN-CHUNG
IPC分类号： A61B50/10 , G02B21/04 , A61B90/20
CPC分类号： G02B21/04 , G01B9/02041 , G01B9/02091 , G02B21/0092 , G02B21/06 , G02B21/14 , G02B21/16 , G02B21/367
摘要：一種整合米洛(Mirau)光學干涉顯微術與螢光顯微術之光學切層裝置，其具有：一寬頻光源裝置，用以產生一寬頻光束；一光環行器，具有一第一側邊、一第二側邊及一第三側邊，所述第一側邊係面對該寬頻光源裝置以將一入射光束分成一透射光束及由所述第二側邊穿出之一反射光束；一短波光源裝置，用以產生一短波光束；一第一二色分光器，具有一第一側邊、一第二側邊及一第三側邊，所述第一側邊係面對該短波光源裝置，該第一二色分光器係用以使波長短於一預設波長之光束無法穿透，且該短波光束之波長小於該預設波長；一米洛干涉物鏡，具有一平行光側及一聚光側，該平行光側係面對該第一二色分光器之所述第二側邊；一樣本承載單元，面對該米洛干涉物鏡之聚光側且係用以承載一染有螢光劑之樣本；一投影透鏡，具有一入光側及一出光側，該入光側係面對該光環行器之所述第三側邊；以及一感測單元，係面對該投影透鏡之所述出光側。
简体摘要：一种集成米洛(Mirau)光学干涉显微术与萤光显微术之光学切层设备，其具有：一宽带光源设备，用以产生一宽带光束；一光环行器，具有一第一侧边、一第二侧边及一第三侧边，所述第一侧边系面对该宽带光源设备以将一入射光束分成一透射光束及由所述第二侧边穿出之一反射光束；一短波光源设备，用以产生一短波光束；一第一二色分光器，具有一第一侧边、一第二侧边及一第三侧边，所述第一侧边系面对该短波光源设备，该第一二色分光器系用以使波长短于一默认波长之光束无法穿透，且该短波光束之波长小于该默认波长；一米洛干涉物镜，具有一平行光侧及一聚光侧，该平行光侧系面对该第一二色分光器之所述第二侧边；一样本承载单元，面对该米洛干涉物镜之聚光侧且系用以承载一染有萤光剂之样本；一投影透镜，具有一入光侧及一出光侧，该入光侧系面对该光环行器之所述第三侧边；以及一传感单元，系面对该投影透镜之所述出光侧。

4. 发明专利

TW201723596A 放大裝置审中-公开
简体标题：放大设备
公开(公告)号：TW201723596A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105128338
申请日：2016-09-02
申请人： 3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：貟智省 , YUN, ZHISHENG , 麥克道威爾艾琳愛麗斯 , MCDOWELL, ERIN ALICE , 奧德科克安德魯約翰 , OUDERKIRK, ANDREW JOHN , 安柏桂格艾倫 , AMBUR, GREGG ALAN , 汪提摩西路易斯 , WONG, TIMOTHY LOUIS
IPC分类号： G02B27/28 , G02B23/24 , G02B21/04 , G02B5/30 , G02B27/14
CPC分类号： G02B5/3075 , B29C45/14 , B29C55/04 , B29D11/00644 , B29D11/0073 , B29D11/00865 , B29K2069/00 , B29K2995/003 , B29K2995/0034 , B29L2009/00 , B29L2011/00 , G02B1/041 , G02B5/005 , G02B5/04 , G02B5/0891 , G02B5/3041 , G02B5/305 , G02B5/3058 , G02B5/3066 , G02B5/3083 , G02B5/3091 , G02B13/0055 , G02B17/0856 , G02B17/0896 , G02B21/04 , G02B21/28 , G02B23/2407 , G02B27/0068 , G02B27/0093 , G02B27/0172 , G02B27/0176 , G02B27/0905 , G02B27/0983 , G02B27/144 , G02B27/145 , G02B27/148 , G02B27/22 , G02B27/2228 , G02B27/2235 , G02B27/283 , G02B27/286 , G02B2027/011 , G02B2027/013 , G02B2027/0134 , G02B2027/0138 , G02B2027/0154 , G02C7/02 , G02C7/081 , G03B21/00 , G03B21/28 , G06F3/013
摘要：描述一種包括一光學系統之放大裝置。該光學系統包括：一出射光瞳；一反射偏光器，其靠近該出射光瞳；一部分反射器，其設置成相鄰於該反射偏光器而與該出射光瞳相對；以及一四分之一波延遲器，其設置於該反射偏光器與該部分反射器之間。該反射偏光器相對於兩個正交軸彎曲且該部分反射器與該反射偏光器間隔開。
简体摘要：描述一种包括一光学系统之放大设备。该光学系统包括：一出射光瞳；一反射偏光器，其靠近该出射光瞳；一部分反射器，其设置成相邻于该反射偏光器而与该出射光瞳相对；以及一四分之一波延迟器，其设置于该反射偏光器与该部分反射器之间。该反射偏光器相对于两个正交轴弯曲且该部分反射器与该反射偏光器间隔开。

5. 发明专利

TWI674089B 整合米洛(Mirau)光學干涉顯微術之光學切層裝置有权
简体标题：集成米洛(Mirau)光学干涉显微术之光学切层设备
公开(公告)号：TWI674089B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：TW106137526
申请日：2017-10-31
申请人：銳準醫光股份有限公司 , ACUSOLUTIONS INC.
发明人：許光裕 , HSU, KUANG-YU , 蔡建中 , TSAI, CHIEN-CHUNG
IPC分类号： A61B50/10 , G02B21/04 , A61B90/20

6. 发明专利

TW201903463A 採用進階光學干涉顯微術之光學切層裝置审中-公开
简体标题：采用进阶光学干涉显微术之光学切层设备
公开(公告)号：TW201903463A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW106118559
申请日：2017-06-05
申请人：銳準醫光股份有限公司 , ACUSOLUTIONS INC.
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN-CHUNG , 許光裕 , HSU, KUANG-YU
IPC分类号： G02B21/04 , G02B21/08 , G02B27/10
摘要：一種採用光學干涉顯微術及螢光顯微術之光學切層裝置，具有：一分光器，能夠使一入射光束分成一反射光束及一透射光束；一寬頻光源裝置，用以提供該入射光束；一參考端單元，用以使該透射光束經一可調光程返回該分光器；一短波光源裝置；一第一二色分光器，其第一側邊係面對該短波光源裝置，其第三側邊係面對該分光器，且其能夠使波長短於一預設波長之光束無法穿透；一物鏡，具有一平行光側以面對該第一二色分光器之所述第二側邊；一樣本承載單元，係面對該物鏡之一聚光側；以及一投影透鏡及一感測單元，用以接收該分光器之一輸出光束。
简体摘要：一种采用光学干涉显微术及萤光显微术之光学切层设备，具有：一分光器，能够使一入射光束分成一反射光束及一透射光束；一宽带光源设备，用以提供该入射光束；一参考端单元，用以使该透射光束经一可调光程返回该分光器；一短波光源设备；一第一二色分光器，其第一侧边系面对该短波光源设备，其第三侧边系面对该分光器，且其能够使波长短于一默认波长之光束无法穿透；一物镜，具有一平行光侧以面对该第一二色分光器之所述第二侧边；一样本承载单元，系面对该物镜之一聚光侧；以及一投影透镜及一传感单元，用以接收该分光器之一输出光束。

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