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1. 发明专利

TWI700387B 真空排氣系統有权
简体标题：真空排气系统
公开(公告)号：TWI700387B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW104117395
申请日：2015-05-29
申请人：日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：塩川篤志 , SHIOKAWA, ATSUSHI , 杉浦哲郎 , SUGIURA, TETSURO , 関口信一 , SEKIGUCHI, SHINICHI , 京谷敬史 , KYOTANI, TAKASHI , 駒井哲夫 , KOMAI, TETSUO , 木村憲雄 , KIMURA, NORIO , 石川敬一 , ISHIKAWA, KEIICHI , 大須賀透 , OSUGA, TORU
IPC分类号： C23C16/455 , F04B41/06 , F04B37/14

2. 发明专利

TW201309912A 用於一幫浦中之壓力補償的系統與方法审中-公开
简体标题：用于一帮浦中之压力补偿的系统与方法
公开(公告)号：TW201309912A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101144065
申请日：2006-11-21
申请人：恩特葛瑞斯公司 , ENTEGRIS, INC.
发明人：康乃拉喬治 , GONNELLA, GEORGE , 賽隆詹姆士賽隆 , CEDRONE, JAMES
IPC分类号： F04B41/06 , F04B49/00
CPC分类号： F04B49/08 , F04B13/00 , F04B49/065 , F04B51/00 , F04B2205/03
摘要：本發明揭示用於大體上維持一幫浦裝置之一腔室中的一基線壓力之系統及方法。本發明之實施例可用來控制一馬達以補償或解決一可在該幫浦裝置之一腔室中發生之壓力浮動。更特定言之，一施配馬達可經控制以基於一在施配腔室中所感應之壓力而在一施配之前大體上維持該施配腔室中之一基線壓力。在一實施例中，在開始一施配之前，可利用一控制迴路，使得：重複判定該施配腔室中之壓力是否高於一所要之壓力，且若如此，則調整幫浦構件之移動以大體上維持施配腔室中之所要之壓力直至開始流體之一施配。
简体摘要：本发明揭示用于大体上维持一帮浦设备之一腔室中的一基线压力之系统及方法。本发明之实施例可用来控制一马达以补偿或解决一可在该帮浦设备之一腔室中发生之压力浮动。更特定言之，一施配马达可经控制以基于一在施配腔室中所感应之压力而在一施配之前大体上维持该施配腔室中之一基线压力。在一实施例中，在开始一施配之前，可利用一控制回路，使得：重复判定该施配腔室中之压力是否高于一所要之压力，且若如此，则调整帮浦构件之移动以大体上维持施配腔室中之所要之压力直至开始流体之一施配。

3. 发明专利

TWI506202B 用於一幫浦中之壓力補償的系統與方法有权
简体标题：用于一帮浦中之压力补偿的系统与方法
公开(公告)号：TWI506202B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW101144065
申请日：2006-11-21
申请人：恩特葛瑞斯公司 , ENTEGRIS, INC.
发明人：康乃拉喬治 , GONNELLA, GEORGE , 賽隆詹姆士賽隆 , CEDRONE, JAMES
IPC分类号： F04B41/06 , F04B49/00
CPC分类号： F04B49/08 , F04B13/00 , F04B49/065 , F04B51/00 , F04B2205/03

4. 发明专利

TW201433696A 空氣壓縮機裝置审中-公开
简体标题：空气压缩机设备
公开(公告)号：TW201433696A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW102106340
申请日：2013-02-23
申请人：周文三 , JHOU, WEN SAN
发明人：周文三 , JHOU, WEN SAN
IPC分类号： F04B41/06
摘要：本發明係提供一種空氣壓縮機裝置，尤其是指一種不必裝設機械式壓力安全閥即能讓空氣壓縮機在運作階段時保持在壓力安全值範圍之內，足以保護輪胎在充氣時不至於產生超出輪胎壓力安全值之現象的發明，其是在空氣壓縮機之汽缸外壁設有一具備副氣室的歧管，副氣室與汽缸壓縮室相連通但不與出氣用途之儲氣座相連通，當空氣壓縮機之活塞頭的頂平面完全抵於汽缸壓縮室頂壁面，此時部分壓縮空氣進入副氣室內，不僅讓活塞體之下衝行程的動作更順暢，亦讓空氣壓縮機不必另設壓力安全閥即可防止產生超出安全壓力值範圍的充氣動作。
简体摘要：本发明系提供一种空气压缩机设备，尤其是指一种不必装设机械式压力安全阀即能让空气压缩机在运作阶段时保持在压力安全值范围之内，足以保护轮胎在充气时不至于产生超出轮胎压力安全值之现象的发明，其是在空气压缩机之汽缸外壁设有一具备副气室的歧管，副气室与汽缸压缩室相连通但不与出气用途之储气座相连通，当空气压缩机之活塞头的顶平面完全抵于汽缸压缩室顶壁面，此时部分压缩空气进入副气室内，不仅让活塞体之下冲行程的动作更顺畅，亦让空气压缩机不必另设压力安全阀即可防止产生超出安全压力值范围的充气动作。

5. 发明专利

TWI623685B 幫浦系統有权
简体标题：帮浦系统
公开(公告)号：TWI623685B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW103104619
申请日：2014-02-12
申请人：愛德華有限公司 , EDWARDS LIMITED
发明人：史東伊恩大衛 , STONES, IAN DAVID , 葛雷茂可倫威廉 , GRAY, MALCOLM WILLIAM , 波特伊安大衛 , PORT, IAIN DAVID
IPC分类号： F04B41/06 , F04B37/14

6. 实用新型

TWM534777U 具有多個馬達的空氣壓縮機有权
简体标题：具有多个马达的空气压缩机
公开(公告)号：TWM534777U
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105212655
申请日：2016-08-19
申请人：鋒尚精密有限公司
发明人：吳榮哲 , 王尉
IPC分类号： F04B41/06

7. 发明专利

TWI548812B 空氣壓縮機裝置有权
简体标题：空气压缩机设备
公开(公告)号：TWI548812B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW102106340
申请日：2013-02-23
申请人：周文三 , JHOU, WEN SAN
发明人：周文三 , JHOU, WEN SAN
IPC分类号： F04B41/06

8. 发明专利

TWI400389B 用於一幫浦中之壓力補償的系統與方法有权
简体标题：用于一帮浦中之压力补偿的系统与方法
公开(公告)号：TWI400389B
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW095142929
申请日：2006-11-21
申请人：恩特葛瑞斯公司 , ENTEGRIS, INC.
发明人：喬治康乃拉 , GONNELLA, GEORGE , 詹姆士賽隆 , CEDRONE, JAMES
IPC分类号： F04B41/06 , F04B49/00
CPC分类号： F04B49/08 , F04B13/00 , F04B49/065 , F04B51/00 , F04B2205/03

9. 发明专利

TWI651468B 雙缸雙行程打氣筒有权
简体标题：双缸双行程打气筒
公开(公告)号：TWI651468B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106144835
申请日：2017-12-20
申请人：雙餘實業股份有限公司
发明人：王羅平
IPC分类号： F04B39/12 , F04B39/14 , F04B41/06

10. 发明专利

TW201604315A 真空排氣系統审中-公开
简体标题：真空排气系统
公开(公告)号：TW201604315A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104117395
申请日：2015-05-29
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：塩川篤志 , SHIOKAWA, ATSUSHI , 杉浦哲郎 , SUGIURA, TETSURO , 関口信一 , SEKIGUCHI, SHINICHI , 京谷敬史 , KYOTANI, TAKASHI , 駒井哲夫 , KOMAI, TETSUO , 木村憲雄 , KIMURA, NORIO , 石川敬一 , ISHIKAWA, KEIICHI , 大須賀透 , OSUGA, TORU
IPC分类号： C23C16/455 , F04B41/06 , F04B37/14
CPC分类号： H01L21/67017 , C23C14/22 , C23C16/4412 , C23C16/52 , F04B37/14 , F04B37/16 , F04B41/00 , G05D16/2013 , H01J37/32834 , H01J37/32844 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/67276 , Y02C20/30
摘要：本發明係關於從半導體元件製造裝置等所使用之1個或複數個處理室中，將處理氣體予以排氣而使用之真空排氣系統。真空排氣系統係用以從複數個處理室(1)中將氣體予以排氣之真空裝置。真空排氣系統係具備：分別連接於複數個處理室(1)之複數個第1真空泵(5)；連接於複數個第1真空泵(5)之集合管(7)；以及連接於集合管(7)之第2真空泵(8)。
简体摘要：本发明系关于从半导体组件制造设备等所使用之1个或复数个处理室中，将处理气体予以排气而使用之真空排气系统。真空排气系统系用以从复数个处理室(1)中将气体予以排气之真空设备。真空排气系统系具备：分别连接于复数个处理室(1)之复数个第1真空泵(5)；连接于复数个第1真空泵(5)之集合管(7)；以及连接于集合管(7)之第2真空泵(8)。

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