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    • 2. 发明专利
    • 排氣處理裝置
    • 排气处理设备
    • TW201506240A
    • 2015-02-16
    • TW103114821
    • 2014-04-24
    • 大陽日酸股份有限公司TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
    • 坂田晉SAKATA, SUSUMU川端宏文KAWABATA, HIROFUMI
    • F01N3/18F23G7/06
    • 提供一種可對含有氫及氨之排氣以有效率之方式進行處理之排氣處理裝置。 排氣處理裝置係具備有:第1除害裝置12,其進行含有氫及氨之排氣之一次處理;第2除害裝置13,其在第1除害裝置12之後段,進行排氣之二次除害處理;溫度測量手段14,其對自第1除害裝置所導出之一次處理氣體的溫度進行測量;及控制手段15,其當利用該溫度測量手段所測出之一次處理氣體的溫度為超過高溫側設定溫度時,而該高溫側設定溫度係被設定為高於預先所設定之目標溫度,則進行降低上述第1除害裝置之運轉溫度之控制,並且當利用上述溫度測量手段所測出之一次處理氣體的溫度為低於低溫側設定溫度時,而該低溫側設定溫度係被設定為低於目標溫度,則進行昇高上述第1除害裝置之運轉溫度之控制。
    • 提供一种可对含有氢及氨之排气以有效率之方式进行处理之排气处理设备。 排气处理设备系具备有:第1除害设备12,其进行含有氢及氨之排气之一次处理;第2除害设备13,其在第1除害设备12之后段,进行排气之二次除害处理;温度测量手段14,其对自第1除害设备所导出之一次处理气体的温度进行测量;及控制手段15,其当利用该温度测量手段所测出之一次处理气体的温度为超过高温侧设置温度时,而该高温侧设置温度系被设置为高于预先所设置之目标温度,则进行降低上述第1除害设备之运转温度之控制,并且当利用上述温度测量手段所测出之一次处理气体的温度为低于低温侧设置温度时,而该低温侧设置温度系被设置为低于目标温度,则进行升高上述第1除害设备之运转温度之控制。