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1. 发明专利

TW201506240A 排氣處理裝置审中-公开
简体标题：排气处理设备
公开(公告)号：TW201506240A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103114821
申请日：2014-04-24
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：坂田晉 , SAKATA, SUSUMU , 川端宏文 , KAWABATA, HIROFUMI
IPC分类号： F01N3/18 , F23G7/06
摘要：提供一種可對含有氫及氨之排氣以有效率之方式進行處理之排氣處理裝置。排氣處理裝置係具備有：第1除害裝置12，其進行含有氫及氨之排氣之一次處理；第2除害裝置13，其在第1除害裝置12之後段，進行排氣之二次除害處理；溫度測量手段14，其對自第1除害裝置所導出之一次處理氣體的溫度進行測量；及控制手段15，其當利用該溫度測量手段所測出之一次處理氣體的溫度為超過高溫側設定溫度時，而該高溫側設定溫度係被設定為高於預先所設定之目標溫度，則進行降低上述第1除害裝置之運轉溫度之控制，並且當利用上述溫度測量手段所測出之一次處理氣體的溫度為低於低溫側設定溫度時，而該低溫側設定溫度係被設定為低於目標溫度，則進行昇高上述第1除害裝置之運轉溫度之控制。
简体摘要：提供一种可对含有氢及氨之排气以有效率之方式进行处理之排气处理设备。排气处理设备系具备有：第1除害设备12，其进行含有氢及氨之排气之一次处理；第2除害设备13，其在第1除害设备12之后段，进行排气之二次除害处理；温度测量手段14，其对自第1除害设备所导出之一次处理气体的温度进行测量；及控制手段15，其当利用该温度测量手段所测出之一次处理气体的温度为超过高温侧设置温度时，而该高温侧设置温度系被设置为高于预先所设置之目标温度，则进行降低上述第1除害设备之运转温度之控制，并且当利用上述温度测量手段所测出之一次处理气体的温度为低于低温侧设置温度时，而该低温侧设置温度系被设置为低于目标温度，则进行升高上述第1除害设备之运转温度之控制。

2. 发明专利

TW201502440A 排氣處理裝置审中-公开
简体标题：排气处理设备
公开(公告)号：TW201502440A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103114822
申请日：2014-04-24
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：坂田晉 , SAKATA, SUSUMU , 川端宏文 , KAWABATA, HIROFUMI
IPC分类号： F23G7/06
摘要：提供一種可對含有氫及氨之排氣以有效率之方式進行處理之排氣處理裝置。排氣處理裝置係具備有：第1氫濃度測量手段13，其對含有氫及氨之排氣中之氫濃度進行測量；第2氫濃度測量手段16，其在該第1氫濃度測量手段之下游側，對排氣中之氫濃度進行測量；及燃燒式除害裝置12，其設置在第2氫濃度測量手段之下游側；並且在第1氫濃度測量手段與第2氫濃度測量手段之間，具備有氫添加手段，該氫添加手段係當利用第1氫濃度測量手段所測出之第1氫濃度成為第1氫濃度設定值以下時，開始對排氣添加氫，當利用第2氫濃度測量手段所測出之第2氫濃度成為第2氫濃度設定值以上時，結束對排氣添加氫。
简体摘要：提供一种可对含有氢及氨之排气以有效率之方式进行处理之排气处理设备。排气处理设备系具备有：第1氢浓度测量手段13，其对含有氢及氨之排气中之氢浓度进行测量；第2氢浓度测量手段16，其在该第1氢浓度测量手段之下游侧，对排气中之氢浓度进行测量；及燃烧式除害设备12，其设置在第2氢浓度测量手段之下游侧；并且在第1氢浓度测量手段与第2氢浓度测量手段之间，具备有氢添加手段，该氢添加手段系当利用第1氢浓度测量手段所测出之第1氢浓度成为第1氢浓度设置值以下时，开始对排气添加氢，当利用第2氢浓度测量手段所测出之第2氢浓度成为第2氢浓度设置值以上时，结束对排气添加氢。

3. 发明专利

TWI457168B 排氣處理方法及處理裝置有权
简体标题：排气处理方法及处理设备
公开(公告)号：TWI457168B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW098128636
申请日：2009-08-26
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：川端宏文 , KAWABATA, HIROFUMI
IPC分类号： B01D53/34
CPC分类号： F23G7/065 , B01D53/78 , B01D2251/30 , B01D2257/204 , B01D2257/2047 , B01D2258/0216 , F23J15/006 , F23J15/025 , F23J15/04 , F23J2215/10 , F23J2217/101 , F23J2217/50 , F23J2219/20 , F23J2219/40

4. 发明专利

TWI673430B 排氣處理裝置有权
简体标题：排气处理设备
公开(公告)号：TWI673430B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW103114821
申请日：2014-04-24
申请人：日商大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：坂田晉 , SAKATA, SUSUMU , 川端宏文 , KAWABATA, HIROFUMI
IPC分类号： F01N3/18 , F23G7/06

5. 发明专利

TW201010790A 排氣處理方法及處理裝置 EXHAUST GAS-PROCESSING METHOD AND EXHAUST GAS-PROCESSING APPARATUS 有权
简体标题：排气处理方法及处理设备 EXHAUST GAS-PROCESSING METHOD AND EXHAUST GAS-PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW201010790A
公开(公告)日：2010-03-16
申请号：TW098128636
申请日：2009-08-26
申请人：大陽日酸股份有限公司
发明人：川端宏文
IPC分类号： B01D
CPC分类号： F23G7/065 , B01D53/78 , B01D2251/30 , B01D2257/204 , B01D2257/2047 , B01D2258/0216 , F23J15/006 , F23J15/025 , F23J15/04 , F23J2215/10 , F23J2217/101 , F23J2217/50 , F23J2219/20 , F23J2219/40
摘要：本發明之排氣處理方法係將來自半導體製造裝置之排氣導入燃燒式除害裝置，接著送至集塵裝置，再送入2段架構之氣體洗淨裝置而進行處理的方法；前述2段架構之氣體洗淨裝置係由第1段氣體洗淨裝置及第2段氣體洗淨裝置所構成，將水當作洗淨液而以第1段氣體洗淨裝置進行氣體洗淨，接著將鹼性水溶液當作洗淨液而以第2段氣體洗淨裝置進行氣體洗淨。
简体摘要：本发明之排气处理方法系将来自半导体制造设备之排气导入燃烧式除害设备，接着送至集尘设备，再送入2段架构之气体洗净设备而进行处理的方法；前述2段架构之气体洗净设备系由第1段气体洗净设备及第2段气体洗净设备所构成，将水当作洗净液而以第1段气体洗净设备进行气体洗净，接着将碱性水溶液当作洗净液而以第2段气体洗净设备进行气体洗净。

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