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    • 3. 发明专利
    • 半導體元件
    • 半导体组件
    • TW202023073A
    • 2020-06-16
    • TW108130643
    • 2019-08-27
    • 日商琳得科股份有限公司LINTEC CORPORATION
    • 森田亘MORITA, WATARU加藤邦久KATO, KUNIHISA武藤豪志MUTO, TSUYOSHI勝田祐馬KATSUTA, YUMA
    • H01L35/16H01L35/32C08K3/01C08L101/00
    • 一種半導體元件,其在將半導體元件使用作為熱電轉換元件時,提供具有優異熱電性能之具備剖面形狀經控制的熱電元件層之熱電轉換元件,且為在基板上包括由半導體組合物構成的半導體元件層的半導體元件,上述半導體組合物包括半導體材料,並且,在將包括上述半導體元件層的中央部的縱剖面的面積設為S(μm2)、縱剖面的厚度方向的厚度的最大值設為Dmax(μm)、縱剖面的寬度方向的長度的最大值設為Xmax(μm)時,上述半導體元件層的上述縱剖面滿足以下的條件(A)及(B): (A)0.75≦S/(Dmax×Xmax)≦1.00 (B)Dmax≧10μm或(Dmax/Xmax)≧0.03。
    • 一种半导体组件,其在将半导体组件使用作为热电转换组件时,提供具有优异热电性能之具备剖面形状经控制的热电组件层之热电转换组件,且为在基板上包括由半导体组合物构成的半导体组件层的半导体组件,上述半导体组合物包括半导体材料,并且,在将包括上述半导体组件层的中央部的纵剖面的面积设为S(μm2)、纵剖面的厚度方向的厚度的最大值设为Dmax(μm)、纵剖面的宽度方向的长度的最大值设为Xmax(μm)时,上述半导体组件层的上述纵剖面满足以下的条件(A)及(B): (A)0.75≦S/(Dmax×Xmax)≦1.00 (B)Dmax≧10μm或(Dmax/Xmax)≧0.03。
    • 6. 发明专利
    • 高耐熱尺寸安定之射出材料及其應用
    • 高耐热尺寸安定之射出材料及其应用
    • TW202018009A
    • 2020-05-16
    • TW107139656
    • 2018-11-08
    • 台灣勁合有限公司TAIWAN CHEMWELL INDUSTRIAL CO., LTD.
    • 陳信宏CHEN, HSIN-HUNG
    • C08L67/00C08L63/00C08L71/12C08K3/01B29C45/00
    • 一種高耐熱尺寸安定之射出材料,其包含:一液晶高分子;一擴鏈劑,該擴鏈劑為包含環氧官能基之高分子;以及一尺寸安定劑,該尺寸安定劑為無機粉體或纖維;本發明利用該擴鏈劑的具可反應官能基分子進行該液晶高分子的接枝及干擾,以破壞其結晶排列,降低其結晶速度跟結晶程度,改善材料快速結晶所導致的射出機射孔塞嘴、材料溢流問題;再另外在配方中導入纖維或填料以提高其耐熱性,以提高耐用次數及使用溫度,同時降低材料的熱膨脹係數,使材料在冷熱循環環境使用時,具有低熱膨脹係數的特性,延長使用壽命。
    • 一种高耐热尺寸安定之射出材料,其包含:一液晶高分子;一扩链剂,该扩链剂为包含环氧官能基之高分子;以及一尺寸安定剂,该尺寸安定剂为无机粉体或纤维;本发明利用该扩链剂的具可反应官能基分子进行该液晶高分子的接枝及干扰,以破坏其结晶排列,降低其结晶速度跟结晶程度,改善材料快速结晶所导致的射出机射孔塞嘴、材料溢流问题;再另外在配方中导入纤维或填料以提高其耐热性,以提高耐用次数及使用温度,同时降低材料的热膨胀系数,使材料在冷热循环环境使用时,具有低热膨胀系数的特性,延长使用寿命。