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    • 8. 发明专利
    • 聚合性化合物的混合物及其製造方法
    • 聚合性化合物的混合物及其制造方法
    • TW201700450A
    • 2017-01-01
    • TW105110239
    • 2016-03-31
    • 日本瑞翁股份有限公司ZEON CORPORATION
    • 坂本圭SAKAMOTO, KEI奧山久美OKUYAMA, KUMI佐貫加奈子SANUKI, KANAKO
    • C07C69/75C07C67/08C07C67/48G02B5/30
    • C07C67/58C07C67/14C07C69/017C07C69/75C07D277/82G02B1/08G02B5/30
    • 本發明係一種混合物及前述混合物的製造方法等,其中該混合物係含有化合物(1)及聚合性化合物(II),前述化合物(I)的含量為混合物全體的50mol%以上且1,4-環己烷二羧酸的含量為小於5mol%;該混合物的製造方法係具有以下的步驟:在與水不互溶的有機溶劑中,使1,4-環己二醯氯與化合物(IV)在鹼存在下反應之步驟;及將所得到的反應液,使用弱酸性緩衝溶液洗淨之步驟。依照本發明,能夠提供一種用以廉價地製造聚合性化合物之有用的混合物、及該混合物的製造方法,其中該聚合性化合物係具有實用的較低熔點,對泛用溶劑之溶解性優異且能夠以低成本製造,而且能夠得到在寬闊的波長區域能夠均勻的偏光轉換之光學薄膜(式中,A係表示氫原子、甲基或氯原子,n係表示1~20的整數)。
    • 本发明系一种混合物及前述混合物的制造方法等,其中该混合物系含有化合物(1)及聚合性化合物(II),前述化合物(I)的含量为混合物全体的50mol%以上且1,4-环己烷二羧酸的含量为小于5mol%;该混合物的制造方法系具有以下的步骤:在与水不互溶的有机溶剂中,使1,4-环己二酰氯与化合物(IV)在碱存在下反应之步骤;及将所得到的反应液,使用弱酸性缓冲溶液洗净之步骤。依照本发明,能够提供一种用以廉价地制造聚合性化合物之有用的混合物、及该混合物的制造方法,其中该聚合性化合物系具有实用的较低熔点,对泛用溶剂之溶解性优异且能够以低成本制造,而且能够得到在宽阔的波长区域能够均匀的偏光转换之光学薄膜(式中,A系表示氢原子、甲基或氯原子,n系表示1~20的整数)。