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1. 发明专利

TW201414674A 用於製造矽烷之方法及系統审中-公开
简体标题：用于制造硅烷之方法及系统
公开(公告)号：TW201414674A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102148315
申请日：2011-12-20
申请人： MEMC電子材料公司 , MEMC ELECTRONIC MATERIALS, INC.
发明人：古普塔潘尼特 , GUPTA, PUNEET , 厄克亨利法蘭克 , ERK, HENRY FRANK , 葛拉比雅力克西司 , GRABBE, ALEXIS
IPC分类号： C01B33/10
CPC分类号： C25B1/14 , C01B6/04 , C01B33/043 , C25B1/24
摘要：本發明揭示用於製造矽烷之方法及系統，其中使用電解使反應性組分再生。該等方法及系統可為關於鹵素、鹼金屬或鹼土金屬及/或氫氣之實質性閉環。
简体摘要：本发明揭示用于制造硅烷之方法及系统，其中使用电解使反应性组分再生。该等方法及系统可为关于卤素、碱金属或碱土金属及/或氢气之实质性闭环。

2. 发明专利

TW201311576A 氫氟酸廢液回收再使用的處理方法（三）审中-公开
简体标题：氢氟酸废液回收再使用的处理方法（三）
公开(公告)号：TW201311576A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW100131578
申请日：2011-09-01
申请人：謝政龍 , HSIEH, CHENG LUNG , 楊添旺 , YANG, TIEN WANG , 劉定忠 , LIU, TING CHUNG
发明人：謝政龍 , HSIEH, CHENG LUNG , 楊添旺 , YANG, TIEN WANG , 劉定忠 , LIU, TING CHUNG
IPC分类号： C02F1/60 , C01B33/10
摘要：本發明為有關一種「氫氟酸廢液回收再使用的處理方法(三)」，其係先分析氫氟酸廢液中矽的含量，再將大於矽含量數值一倍以上的鉀化合物，添加入處理槽中的氫氟酸廢液內，使氫氟酸廢液中的氟及矽與鉀相結合反應生成氟矽酸鉀固體物，經等待氟矽酸鉀固體物沉降後，再抽取上層液並添加高濃度氫氟酸使其符合原製程使用之氫氟酸濃度值後，即可輸送回原製程使用；由於氫氟酸廢液中僅需添加少量鉀離子，即可製得可重覆使用之氫氟酸，不需耗用大量之化學藥劑，也大幅降低廢水排放量，並可節省原製程之氫氟酸使用量及其額外購買成本的支出，進而達到簡化處理步驟、降低處理成本並兼具環保效益。
简体摘要：本发明为有关一种“氢氟酸废液回收再使用的处理方法(三)”，其系先分析氢氟酸废液中硅的含量，再将大于硅含量数值一倍以上的钾化合物，添加入处理槽中的氢氟酸废液内，使氢氟酸废液中的氟及硅与钾相结合反应生成氟硅酸钾固体物，经等待氟硅酸钾固体物沉降后，再抽取上层液并添加高浓度氢氟酸使其符合原制程使用之氢氟酸浓度值后，即可输送回原制程使用；由于氢氟酸废液中仅需添加少量钾离子，即可制得可重复使用之氢氟酸，不需耗用大量之化学药剂，也大幅降低废水排放量，并可节省原制程之氢氟酸使用量及其额外购买成本的支出，进而达到简化处理步骤、降低处理成本并兼具环保效益。

3. 发明专利

TWI472486B 用於純化三氯矽烷及四氯化矽之方法和裝置有权
简体标题：用于纯化三氯硅烷及四氯化硅之方法和设备
公开(公告)号：TWI472486B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：TW095106046
申请日：2006-03-02
申请人：緬克電子材料股份有限公司 , MEMC ELECTRONIC MATERIALS S.P.A.
发明人：吉安費寇傑提 , GHETTI, GIANFRANCO
IPC分类号： C01B33/107 , C01B33/10

4. 发明专利

TW201522222A 溫度穩定之軟磁粉末审中-公开
简体标题：温度稳定之软磁粉末
公开(公告)号：TW201522222A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103138162
申请日：2014-11-04
申请人：巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：帕賈諾珊德洛 , PAGANO, SANDRO , 黃載亨 , HWANG, JAE HYUNG , 里布雪拉夫 , LIEBSCHER, RALF , 普列希特法蘭克 , PRECHTL, FRANK , 庫賀奧里佛 , KOCH, OLIVER , 瓦成柏格奧圖 , WATZENBERGER, OTTO , 克洛克佛克 , KLOCK, VOLKER
IPC分类号： C01B33/10 , C09D1/00 , H01F1/20 , B22F1/02
CPC分类号： H01F1/20 , B22F1/02 , C23C30/00 , H01F1/26 , H01F1/36 , H01F3/08 , H01F41/0246
摘要：本發明係關於一種塗佈有一矽基塗層之軟磁粉末，其中該矽基塗層包含以下含氟組成物中之至少一者：a)式(I)之含氟組成物Si1-0,25aM1aO2-0,5bFb (I) 其中a在0.015至0.52之範圍內，b在0.015至0.52之範圍內，M1為H、K、Rb、Cs或NR14，其中每一R1係獨立地選自由以下各者組成之群組：H、C1-6烷基、苯基及苯甲基；或b)式(II)之含氟組成物Si1-0,75cM2cO2-0,5dFd (II) 其中c在0.005至0.17之範圍內，d在0.015至0.52之範圍內，M2為B或Al；或c)式(III)之含氟組成物Si1-1,25ePeO2-0,5fFf (III) 其中e在0.003至0.10之範圍內，f在0.015至0.52之範圍內。本發明進一步係關於一種塗佈該軟磁粉末之方法，此軟磁粉末之使用及一種包括此軟磁粉末之電子組件。
简体摘要：本发明系关于一种涂布有一硅基涂层之软磁粉末，其中该硅基涂层包含以下含氟组成物中之至少一者：a)式(I)之含氟组成物Si1-0,25aM1aO2-0,5bFb (I) 其中a在0.015至0.52之范围内，b在0.015至0.52之范围内，M1为H、K、Rb、Cs或NR14，其中每一R1系独立地选自由以下各者组成之群组：H、C1-6烷基、苯基及苯甲基；或b)式(II)之含氟组成物Si1-0,75cM2cO2-0,5dFd (II) 其中c在0.005至0.17之范围内，d在0.015至0.52之范围内，M2为B或Al；或c)式(III)之含氟组成物Si1-1,25ePeO2-0,5fFf (III) 其中e在0.003至0.10之范围内，f在0.015至0.52之范围内。本发明进一步系关于一种涂布该软磁粉末之方法，此软磁粉末之使用及一种包括此软磁粉末之电子组件。

5. 发明专利

TW201311574A 氫氟酸廢液回收再使用的處理方法（一）审中-公开
简体标题：氢氟酸废液回收再使用的处理方法（一）
公开(公告)号：TW201311574A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW100131576
申请日：2011-09-01
申请人：謝政龍 , HSIEH, CHENG LUNG , 楊添旺 , YANG, TIEN WANG , 劉定忠 , LIU, TING CHUNG
发明人：謝政龍 , HSIEH, CHENG LUNG , 楊添旺 , YANG, TIEN WANG , 劉定忠 , LIU, TING CHUNG
IPC分类号： C02F1/60 , C01B33/10
摘要：本發明為有關一種「氫氟酸廢液回收再使用的處理方法(一)」，其係先分析氫氟酸廢液中矽的含量，再將大於矽含量數值一倍以上的鈉化合物，添加入處理槽中的氫氟酸廢液內，使氫氟酸廢液中的氟及矽與鈉相結合反應生成氟矽酸鈉固體物，經等待氟矽酸鈉固體物沉降後，再抽取上層液並添加高濃度氫氟酸使其符合原製程使用之氫氟酸濃度值後，即可輸送回原製程使用；由於氫氟酸廢液中僅需添加少量鈉離子，即可製得可重覆使用之氫氟酸，不需耗用大量之化學藥劑，也大幅降低廢水排放量，並可節省原製程之氫氟酸使用量及其額外購買成本的支出，進而達到簡化處理步驟、降低處理成本並兼具環保效益。
简体摘要：本发明为有关一种“氢氟酸废液回收再使用的处理方法(一)”，其系先分析氢氟酸废液中硅的含量，再将大于硅含量数值一倍以上的钠化合物，添加入处理槽中的氢氟酸废液内，使氢氟酸废液中的氟及硅与钠相结合反应生成氟硅酸钠固体物，经等待氟硅酸钠固体物沉降后，再抽取上层液并添加高浓度氢氟酸使其符合原制程使用之氢氟酸浓度值后，即可输送回原制程使用；由于氢氟酸废液中仅需添加少量钠离子，即可制得可重复使用之氢氟酸，不需耗用大量之化学药剂，也大幅降低废水排放量，并可节省原制程之氢氟酸使用量及其额外购买成本的支出，进而达到简化处理步骤、降低处理成本并兼具环保效益。

6. 发明专利

TWI638773B 複合氟化物螢光體及其製造方法有权
简体标题：复合氟化物萤光体及其制造方法
公开(公告)号：TWI638773B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW104103051
申请日：2015-01-29
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：金吉正実 , KANEYOSHI, MASAMI , 石井政利 , ISHII, MASATOSHI
IPC分类号： C01B33/10 , C01G23/00 , C09K11/08 , C09K11/61 , C09K11/66 , C09K11/67 , H01L33/50

7. 发明专利

TW201545981A 複合氟化物螢光體及其製造方法审中-公开
简体标题：复合氟化物萤光体及其制造方法
公开(公告)号：TW201545981A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104103051
申请日：2015-01-29
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：金吉正実 , KANEYOSHI, MASAMI , 石井政利 , ISHII, MASATOSHI
IPC分类号： C01B33/10 , C01G23/00 , C09K11/08 , C09K11/61 , C09K11/66 , C09K11/67 , H01L33/50
CPC分类号： C09K11/617 , C01G17/006 , C01G19/006 , C01G23/002 , C01G25/006 , C01G27/006 , C01P2002/50 , C01P2002/54 , C01P2002/84 , C01P2004/61 , C09K11/675
摘要：本發明係關於一種螢光體之製造方法，其係具有以下述式(I)A2MF6：Mn (I)(A為由Li、Na、K、Rb及Cs中選出，且至少含有Na及/或K之1種或2種以上之鹼金屬，M為由Si、Ti、Zr、Hf、Ge及Sn中選出之1種或2種以上之4價元素)所示之化學組成的螢光體之製造方法，其係準備含有M之第1氫氟酸溶液、與含有A之第2氫氟酸溶液，並且將含有Mn之化合物溶解於上述第1氫氟酸溶液與第2氫氟酸溶液之任一方或另外配製溶解含有Mn之化合物的溶液，於混合上述溶液使上述式(I)之螢光體沈澱時，係以於上述溶液全部混合後之狀態下的M濃度成為0.1莫耳/公升以上、0.5莫耳/公升以下的方式混合；依照本發明，可穩定地且產率良好地製造發光特性優良的複合氟化物螢光體。
简体摘要：本发明系关于一种萤光体之制造方法，其系具有以下述式(I)A2MF6：Mn (I)(A为由Li、Na、K、Rb及Cs中选出，且至少含有Na及/或K之1种或2种以上之碱金属，M为由Si、Ti、Zr、Hf、Ge及Sn中选出之1种或2种以上之4价元素)所示之化学组成的萤光体之制造方法，其系准备含有M之第1氢氟酸溶液、与含有A之第2氢氟酸溶液，并且将含有Mn之化合物溶解于上述第1氢氟酸溶液与第2氢氟酸溶液之任一方或另外配制溶解含有Mn之化合物的溶液，于混合上述溶液使上述式(I)之萤光体沈淀时，系以于上述溶液全部混合后之状态下的M浓度成为0.1莫耳/公升以上、0.5莫耳/公升以下的方式混合；依照本发明，可稳定地且产率良好地制造发光特性优良的复合氟化物萤光体。

8. 发明专利

TW201311575A 氫氟酸廢液回收再使用的處理方法（二）审中-公开
简体标题：氢氟酸废液回收再使用的处理方法（二）
公开(公告)号：TW201311575A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW100131577
申请日：2011-09-01
申请人：謝政龍 , HSIEH, CHENG LUNG , 楊添旺 , YANG, TIEN WANG , 劉定忠 , LIU, TING CHUNG
发明人：謝政龍 , HSIEH, CHENG LUNG , 楊添旺 , YANG, TIEN WANG , 劉定忠 , LIU, TING CHUNG
IPC分类号： C02F1/60 , C01B33/10
摘要：本發明為有關一種「氫氟酸廢液回收再使用的處理方法(二)」，其係先分析氫氟酸廢液中矽的含量，再將大於矽含量數值一倍以上的鋇化合物，添加入處理槽中的氫氟酸廢液內，使氫氟酸廢液中的氟及矽與鋇相結合反應生成氟矽酸鋇固體物，經等待氟矽酸鋇固體物沉降後，再抽取上層液並添加高濃度氫氟酸使其符合原製程使用之氫氟酸濃度值後，即可輸送回原製程使用；由於氫氟酸廢液中僅需添加少量鋇離子，即可製得可重覆使用之氫氟酸，不需耗用大量之化學藥劑，也大幅降低廢水排放量，並可節省原製程之氫氟酸使用量及其額外購買成本的支出，進而達到簡化處理步驟、降低處理成本並兼具環保效益。
简体摘要：本发明为有关一种“氢氟酸废液回收再使用的处理方法(二)”，其系先分析氢氟酸废液中硅的含量，再将大于硅含量数值一倍以上的钡化合物，添加入处理槽中的氢氟酸废液内，使氢氟酸废液中的氟及硅与钡相结合反应生成氟硅酸钡固体物，经等待氟硅酸钡固体物沉降后，再抽取上层液并添加高浓度氢氟酸使其符合原制程使用之氢氟酸浓度值后，即可输送回原制程使用；由于氢氟酸废液中仅需添加少量钡离子，即可制得可重复使用之氢氟酸，不需耗用大量之化学药剂，也大幅降低废水排放量，并可节省原制程之氢氟酸使用量及其额外购买成本的支出，进而达到简化处理步骤、降低处理成本并兼具环保效益。

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