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1. 发明专利

TWI555291B 脈衝雷射振盪器及脈衝雷射振盪控制方法有权
简体标题：脉冲激光振荡器及脉冲激光振荡控制方法
公开(公告)号：TWI555291B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW101124811
申请日：2012-07-10
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梶山康一 , KAJIYAMA, KOICHI , 水村通伸 , MIZUMURA, MICHINOBU , 木口哲也 , KIGUCHI, TETSUYA , 石井大助 , ISHII, DAISUKE , 柳川良勝 , YANAGAWA, YOSHIKATSU , 瀧本政美 , TAKIMOTO, MASAMI
IPC分类号： H01S3/107
CPC分类号： H01S3/11 , H01S3/005 , H01S3/08054 , H01S3/092 , H01S3/10038 , H01S3/107 , H01S3/115 , H01S3/1611 , H01S3/1643 , H01S3/2308

2. 发明专利

TW201419690A 脈衝光產生裝置审中-公开
简体标题：脉冲光产生设备
公开(公告)号：TW201419690A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102136843
申请日：2013-10-11
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：大石真吾 , OISHI, SHINGO , 藤本正俊 , FUJIMOTO, MASATOSHI , 山岸彰伍 , YAMAGISHI, SHOGO , 森口俊浩 , MORIGUCHI, TOSHIHARU
IPC分类号： H01S3/10 , H01S3/02
CPC分类号： H01S3/235 , H01S3/0064 , H01S3/10038 , H01S3/107
摘要：本發明之脈衝光產生裝置10包含：增益介質21；能量供給部14；種子光源12，其週期性地向光學諧振器提供種子光P2；光電元件23，其設置於諧振光路上；偏光分光器25；及電壓供給部15，其對光電元件23施加脈衝狀之驅動電壓Vd。電壓供給部15對光電元件23施加具有階梯狀之電壓波形之驅動電壓Vd。
简体摘要：本发明之脉冲光产生设备10包含：增益介质21；能量供给部14；种子光源12，其周期性地向光学谐振器提供种子光P2；光电组件23，其设置于谐振光路上；偏光分光器25；及电压供给部15，其对光电组件23施加脉冲状之驱动电压Vd。电压供给部15对光电组件23施加具有阶梯状之电压波形之驱动电压Vd。

3. 发明专利

TWI403783B 使用雙晶體泡克耳斯盒雷射放大之方法及系統有权
简体标题：使用双晶体泡克耳斯盒激光放大之方法及系统
公开(公告)号：TWI403783B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW096108581
申请日：2007-03-13
申请人： AMO開發有限責任公司 , AMO DEVELOPMENT LLC
发明人：魯班札達洋 , ZADOYAN, RUBEN , 麥克卡拉維提斯 , KARAVITIS, MICHAEL
IPC分类号： G02F1/03
CPC分类号： H01S3/127 , G02F1/0322 , H01S3/08054 , H01S3/10038 , H01S3/107 , H01S3/235

4. 发明专利

TW201740643A 脈衝控制裝置及脈衝控制方法审中-公开
简体标题：脉冲控制设备及脉冲控制方法
公开(公告)号：TW201740643A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW105130292
申请日：2016-09-20
申请人： EO科技股份有限公司 , EO TECHNICS CO., LTD.
发明人：申東晙 , SHIN, DONG JOON
IPC分类号： H01S3/10 , H01S3/106 , H01S3/107
CPC分类号： H01S3/10 , H01S3/106 , H01S3/107
摘要：本發明揭示一種雷射脈衝控制裝置及雷射脈衝控制方法。雷射脈衝控制裝置包括：脈衝雷射發生器，按照固定的時間間隔產生多個雷射脈衝；光調變器，藉由驅動而選擇性地提取雷射脈衝中的一部分；控制部，隨時間改變施加至光調變器的電訊號而對光調變器的驅動進行控制；以及光放大器，放大所提取的雷射脈衝。
简体摘要：本发明揭示一种激光脉冲控制设备及激光脉冲控制方法。激光脉冲控制设备包括：脉冲激光发生器，按照固定的时间间隔产生多个激光脉冲；光调制器，借由驱动而选择性地提取激光脉冲中的一部分；控制部，随时间改变施加至光调制器的电信号而对光调制器的驱动进行控制；以及光放大器，放大所提取的激光脉冲。

5. 发明专利

TW201712981A 奈米線雷射結構及製作方法审中-公开
简体标题：奈米线激光结构及制作方法
公开(公告)号：TW201712981A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105127635
申请日：2016-08-29
申请人：慕尼黑工業大學 , TECHNISCHE UNIVERSITAT MUNCHEN
发明人：梅耶赫爾班尼迪克 , MAYER, HERR BENEDIKT , 科穆勒葛瑞格 , KOBLMULLER, GREGOR , 芬里強納森 , FINLEY, JONATHAN , 克里克佩拉赫爾約翰尼斯 , KLICPERA, HERR JOHANNES , 亞伯史崔特赫爾爵哈德 , ABSTREITER, HERR GERHARD
IPC分类号： H01S5/30
CPC分类号： H01S5/3428 , G02B6/42 , H01S3/107 , H01S3/108 , H01S3/1103 , H01S3/14 , H01S5/0092 , H01S5/021 , H01S5/0218 , H01S5/0243 , H01S5/026 , H01S5/0265 , H01S5/0608 , H01S5/142 , H01S5/18369 , H01S5/305 , H01S5/341 , H01S5/42
摘要：一種奈米線雷射結構，包含基材、延伸自該基材並具有第一直徑的細長支撐元件、以及延伸於該支撐元件上及/或周圍的細長主體元件，該主體元件具有第二直徑，該第二直徑比該第一直徑大至少兩倍，其中該主體元件被與該基材隔開。
简体摘要：一种奈米线激光结构，包含基材、延伸自该基材并具有第一直径的细长支撑组件、以及延伸于该支撑组件上及/或周围的细长主体组件，该主体组件具有第二直径，该第二直径比该第一直径大至少两倍，其中该主体组件被与该基材隔开。

6. 发明专利

TW200904577A 多重雷射波長和脈衝寬度之處理鑽孔 MULTIPLE LASER WAVELENGTH AND PULSE WIDTH PROCESS DRILLING 失效
简体标题：多重激光波长和脉冲宽度之处理钻孔 MULTIPLE LASER WAVELENGTH AND PULSE WIDTH PROCESS DRILLING
公开(公告)号：TW200904577A
公开(公告)日：2009-02-01
申请号：TW097120180
申请日：2008-05-30
申请人：伊雷克托科學工業股份有限公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：類維生 LEI, WEISHENG , 孫雲龍 SUN, YUNLONG , 大迫康 OSAKO, YASU , 約翰大維儂 DAVIGNON, JOHN , 格蘭西門森 SIMENSON, GLENN , 松本久 MATSUMOTO, HISASHI
IPC分类号： B23K , H05K
CPC分类号： H05K3/0038 , B23K26/389 , H01S3/0092 , H01S3/082 , H01S3/107 , H01S3/109 , H01S3/117 , H05K1/0366 , H05K3/0035 , H05K2203/108
摘要：本發明提供雙射束雷射輸出,其較佳的係衍生自單一雷射射束,其會改良在一包含纖維强化樹脂的目標材料(例如一印刷電路板)中被鑽出的通道的側壁的品質。本發明的兩個實施例會分別使用兩個雷射輸出分量來從一工作件(12)的一目標材料位置處移除一部分(14)目標材料(18)並且以一材料移除速率來快速地清除被連結至該目標材料位置下方一金屬層的該目標材料之殘餘材料。一第一實施例必須導引一處理雷射輸出,用以入射在該目標材料位置處的該目標材料的一部分之上,該處理雷射輸出具有以個別第一波長與第二波長(�� 1、�� 2)為特徵的第一分量與第二分量。一第二實施例必須導引一處理雷射輸出,用以入射在該目標材料位置處的該目標材料的一部分之上,該處理雷射輸出具有以個別第一脈衝寬度與第二脈衝寬度為特徵的第一分量與第二分量。
简体摘要：本发明提供双射束激光输出,其较佳的系衍生自单一激光射束,其会改良在一包含纤维强化树脂的目标材料(例如一印刷电路板)中被钻出的信道的侧壁的品质。本发明的两个实施例会分别使用两个激光输出分量来从一工作件(12)的一目标材料位置处移除一部分(14)目标材料(18)并且以一材料移除速率来快速地清除被链接至该目标材料位置下方一金属层的该目标材料之残余材料。一第一实施例必须导引一处理激光输出,用以入射在该目标材料位置处的该目标材料的一部分之上,该处理激光输出具有以个别第一波长与第二波长(�� 1、�� 2)为特征的第一分量与第二分量。一第二实施例必须导引一处理激光输出,用以入射在该目标材料位置处的该目标材料的一部分之上,该处理激光输出具有以个别第一脉冲宽度与第二脉冲宽度为特征的第一分量与第二分量。

7. 发明专利

TW200804890A 使用雙晶體泡克耳斯盒雷射放大之方法及系統 METHOD AND SYSTEM FOR LASER AMPLIFICATION USING A DUAL CRYSTAL POCKELS CELL 审中-公开
简体标题：使用双晶体泡克耳斯盒激光放大之方法及系统 METHOD AND SYSTEM FOR LASER AMPLIFICATION USING A DUAL CRYSTAL POCKELS CELL
公开(公告)号：TW200804890A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096108581
申请日：2007-03-13
申请人：英特雷公司 INTRALASE CORP.
发明人：魯班札達洋 ZADOYAN, RUBEN , 麥克卡拉維提斯 KARAVITIS, MICHAEL
IPC分类号： G02F
CPC分类号： H01S3/127 , G02F1/0322 , H01S3/08054 , H01S3/10038 , H01S3/107 , H01S3/235
摘要：本發明揭示一種用於雷射放大之系統,其包括用以控制超快雷射之雷射脈衝發射的一雙晶體泡克耳斯盒。該泡克耳斯盒係構成用於致動相對於其他晶體之一晶體的旋轉方向之調整。調整該泡克耳斯盒中一個或兩個晶體之旋轉方向來控制該雷射脈衝中的旁頻帶。
简体摘要：本发明揭示一种用于激光放大之系统,其包括用以控制超快激光之激光脉冲发射的一双晶体泡克耳斯盒。该泡克耳斯盒系构成用于致动相对于其他晶体之一晶体的旋转方向之调整。调整该泡克耳斯盒中一个或两个晶体之旋转方向来控制该激光脉冲中的旁频带。

8. 发明专利

TW200409423A 用於控制光學腔之長度的方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING THE LENGTH OF AN OPTICAL CAVITY 审中-公开
简体标题：用于控制光学腔之长度的方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING THE LENGTH OF AN OPTICAL CAVITY
公开(公告)号：TW200409423A
公开(公告)日：2004-06-01
申请号：TW092106007
申请日：2003-03-19
申请人：聖荷西系統公司 SAN JOSE SYSTEMS, INC.
发明人：布魯思 R 伍得烈 WOODLEY, BRUCE ROBERT
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S5/141 , H01S3/10061 , H01S3/107 , H01S5/02248 , H01S5/06837 , H01S5/0687
摘要：本發明揭示一種用於控制一雷射腔長度的方法及裝置，包括一架構以產生一光束能量之雷射二極體，該雷射二極體具有一第一端及一輸出端，該第一端係與一高反射面鏡光連通。本發明尚提供一由一光電材料構成並具有一接收端及一傳輸端之波導，其中，該接收端係與該輸出端光連通，而該傳輸端係與一輸出耦接器光連通。複數個電極係沿著該波導的一水平軸配置，其中，每一電極上的電壓分別被控制以改變相鄰於每一電極所在位置處之波導折射率。於該傳輸端也提供一架構以衰減該光束能量之偏光器。
简体摘要：本发明揭示一种用于控制一激光腔长度的方法及设备，包括一架构以产生一光束能量之激光二极管，该激光二极管具有一第一端及一输出端，该第一端系与一高反射面镜光连通。本发明尚提供一由一光电材料构成并具有一接收端及一传输端之波导，其中，该接收端系与该输出端光连通，而该传输端系与一输出耦接器光连通。复数个电极系沿着该波导的一水平轴配置，其中，每一电极上的电压分别被控制以改变相邻于每一电极所在位置处之波导折射率。于该传输端也提供一架构以衰减该光束能量之偏光器。

9. 发明专利

TW430581B 雷射裝置有权
简体标题：激光设备
公开(公告)号：TW430581B
公开(公告)日：2001-04-21
申请号：TW088104620
申请日：1999-03-24
申请人：三菱電機股份有限公司
发明人：竹中裕司 , 西前順一 , 佐藤行雄
IPC分类号： B23K , H01S
CPC分类号： H01S3/082 , H01S3/08054 , H01S3/0813 , H01S3/107 , H01S3/115
摘要：本發明提供一種雷射裝置。由於通常之雷射光束的輸出比Ｑ開關脈衝之雷射光束的輸出為大,因此如將通常的雷射裝置與Ｑ開關雷射裝置組合構成,則電氣光學調變器超過其容許限度而在構造上成問題。
本發明提供一種雷射裝置,對於光學調變手段不施加電壓時,透過偏光控制鏡之雷射光束的第l直線偏光成分在,第l雷射共振器產生雷射振盪,並由第2反射鏡射出雷射光束;而對於光學調變手段施加脈衝電壓時,由偏光控制鏡反射的雷射光束之第２直線偏光成分通過光學調變手段而於第2雷射共振器發生依Ｑ開關的雷射振盪,並將其第l直線偏光成分透過偏光控制鏡由第2反射鏡附出。
简体摘要：本发明提供一种激光设备。由于通常之激光光束的输出比Ｑ开关脉冲之激光光束的输出为大,因此如将通常的激光设备与Ｑ开关激光设备组合构成,则电气光学调制器超过其容许限度而在构造上成问题。本发明提供一种激光设备,对于光学调制手段不施加电压时,透过偏光控制镜之激光光束的第l直线偏光成分在,第l激光共振器产生激光振荡,并由第2反射镜射出激光光束;而对于光学调制手段施加脉冲电压时,由偏光控制镜反射的激光光束之第２直线偏光成分通过光学调制手段而于第2激光共振器发生依Ｑ开关的激光振荡,并将其第l直线偏光成分透过偏光控制镜由第2反射镜附出。

10. 发明专利

TWI591920B 雷射系統及極端紫外光生成系統有权
简体标题：激光系统及极端紫外光生成系统
公开(公告)号：TWI591920B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW102114610
申请日：2013-04-24
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H01S3/098 , H01S3/106 , G03F7/20
CPC分类号： H01S3/1106 , H01S3/005 , H01S3/105 , H01S3/107 , H01S3/1118 , H01S3/139 , H01S3/2316 , H01S3/235 , H05G2/008

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