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1. 发明专利

TWI606753B 極端紫外光生成系統有权
简体标题：极端紫外光生成系统
公开(公告)号：TWI606753B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW102119927
申请日：2013-06-05
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 溝口計 , MIZOGUCHI, HAKARU , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , H05G2/005

2. 发明专利

TW201404246A 極端紫外光生成系統审中-公开
简体标题：极端紫外光生成系统
公开(公告)号：TW201404246A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102119927
申请日：2013-06-05
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 溝口計 , MIZOGUCHI, HAKARU , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要：本發明的極端紫外光生成系統，係對標靶照射第1脈衝雷射光及第2脈衝雷射光而使標靶電漿化，藉此構成可生成極端紫外光之極端紫外光生成系統，亦可具備：腔室，其係設有用以導入第1脈衝雷射光及第2脈衝雷射光之至少1個的導入口；標靶供給裝置，其係構成可對腔室內的既定的領域供給標靶；第1雷射裝置，其係構成可輸出被照射於腔室內的標靶之第1脈衝雷射光，具有未滿1ns的脈衝寬之第1脈衝雷射光；及第2雷射裝置，其係構成可輸出被照射於被第1脈衝雷射光照射的標靶之第2脈衝雷射光。
简体摘要：本发明的极端紫外光生成系统，系对标靶照射第1脉冲激光光及第2脉冲激光光而使标靶等离子化，借此构成可生成极端紫外光之极端紫外光生成系统，亦可具备：腔室，其系设有用以导入第1脉冲激光光及第2脉冲激光光之至少1个的导入口；标靶供给设备，其系构成可对腔室内的既定的领域供给标靶；第1激光设备，其系构成可输出被照射于腔室内的标靶之第1脉冲激光光，具有未满1ns的脉冲宽之第1脉冲激光光；及第2激光设备，其系构成可输出被照射于被第1脉冲激光光照射的标靶之第2脉冲激光光。

3. 发明专利

TW201304613A 極端紫外光產生裝置审中-公开
简体标题：极端紫外光产生设备
公开(公告)号：TW201304613A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101108311
申请日：2012-03-12
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU , 柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA
IPC分类号： H05G2/00
摘要：〔課題〕將在使用有極端紫外光產生裝置的情況時所產生之極端紫外光的強度安定化。〔解決手段〕腔室裝置，係為被與至少1個的雷射裝置一同作使用之腔室裝置，其係可具備有：腔室，係被設置有用以將從前述至少1個的雷射裝置所輸出之至少1個的雷射光導入至內部的至少1個的射入口；和靶材供給部，係被設置在前述腔室內，並用以對於前述腔室內之特定的區域而供給靶材物質；和雷射集光光學系，係用以將前述至少1個的雷射光集光於前述特定之區域處；和光學元件，係用以對於前述至少1個的雷射光之在前述特定之區域處的光束剖面之光強度分布作修正。
简体摘要：〔课题〕将在使用有极端紫外光产生设备的情况时所产生之极端紫外光的强度安定化。〔解决手段〕腔室设备，系为被与至少1个的激光设备一同作使用之腔室设备，其系可具备有：腔室，系被设置有用以将从前述至少1个的激光设备所输出之至少1个的激光光导入至内部的至少1个的射入口；和靶材供给部，系被设置在前述腔室内，并用以对于前述腔室内之特定的区域而供给靶材物质；和激光集光光学系，系用以将前述至少1个的激光光集光于前述特定之区域处；和光学组件，系用以对于前述至少1个的激光光之在前述特定之区域处的光束剖面之光强度分布作修正。

4. 发明专利

TWI580318B 產生極遠紫外光的系統與方法有权
简体标题：产生极远紫外光的系统与方法
公开(公告)号：TWI580318B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW101121329
申请日：2012-06-14
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：堀司 , HORI, TSUKASA , 柿崎弘司 , KAKIZAKI, KOUJI , 柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , F21K2/00

5. 发明专利

TW201403979A 雷射系統及極端紫外光生成系統审中-公开
简体标题：激光系统及极端紫外光生成系统
公开(公告)号：TW201403979A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102114610
申请日：2013-04-24
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H01S3/098 , H01S3/106 , G03F7/20
CPC分类号： H01S3/1106 , H01S3/005 , H01S3/105 , H01S3/107 , H01S3/1118 , H01S3/139 , H01S3/2316 , H01S3/235 , H05G2/008
摘要：本發明的雷射系統係亦可具備：時脈生成器；鎖模雷射裝置，其係含光共振器；調整裝置，其係構成可調整光共振器的光共振器長；檢測器，其係配置於脈衝雷射光的光路，檢測出脈衝雷射光，而構成可輸出檢測訊號；開關裝置，其係配置於脈衝雷射光的光路，構成可開關脈衝雷射光；及控制部，其係根據藉由時脈生成器所輸出的時脈訊號及藉由檢測器所輸出的檢測訊號，構成可控制調整裝置，根據藉由時脈生成器所輸出的時脈訊號及從外部裝置輸入的時序訊號，構成可控制開關裝置。
简体摘要：本发明的激光系统系亦可具备：时脉生成器；锁模激光设备，其系含光共振器；调整设备，其系构成可调整光共振器的光共振器长；检测器，其系配置于脉冲激光光的光路，检测出脉冲激光光，而构成可输出检测信号；开关设备，其系配置于脉冲激光光的光路，构成可开关脉冲激光光；及控制部，其系根据借由时脉生成器所输出的时脉信号及借由检测器所输出的检测信号，构成可控制调整设备，根据借由时脉生成器所输出的时脉信号及从外部设备输入的时序信号，构成可控制开关设备。

6. 发明专利

TW201316838A 產生極遠紫外光的系統與方法审中-公开
简体标题：产生极远紫外光的系统与方法
公开(公告)号：TW201316838A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW101121329
申请日：2012-06-14
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：堀司 , HORI, TSUKASA , 柿崎弘司 , KAKIZAKI, KOUJI , 柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , F21K2/00
摘要：本發明之系統包括室、經組態以產生待導入該室之雷射光束的雷射光束裝置、用以至少控制該雷射光束之光束強度及輸出時序(timing)的雷射光束裝置之雷射控制器，及用以將靶材供應至該室的靶材供應單元，該靶材係經該雷射光束照射以產生極遠紫外光。
简体摘要：本发明之系统包括室、经组态以产生待导入该室之激光光束的激光光束设备、用以至少控制该激光光束之光束强度及输出时序(timing)的激光光束设备之激光控制器，及用以将靶材供应至该室的靶材供应单元，该靶材系经该激光光束照射以产生极远紫外光。

7. 发明专利

TWI591920B 雷射系統及極端紫外光生成系統有权
简体标题：激光系统及极端紫外光生成系统
公开(公告)号：TWI591920B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW102114610
申请日：2013-04-24
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H01S3/098 , H01S3/106 , G03F7/20
CPC分类号： H01S3/1106 , H01S3/005 , H01S3/105 , H01S3/107 , H01S3/1118 , H01S3/139 , H01S3/2316 , H01S3/235 , H05G2/008

8. 发明专利

TWI580316B 極端紫外光產生裝置有权
简体标题：极端紫外光产生设备
公开(公告)号：TWI580316B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW101108311
申请日：2012-03-12
申请人：極光先進雷射股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU , 柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA
IPC分类号： H05G2/00

9. 发明专利

TWI601451B 產生極紫外光的系統和方法有权
简体标题：产生极紫外光的系统和方法
公开(公告)号：TWI601451B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW101135203
申请日：2012-09-26
申请人：極光股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：長野仁 , NAGANO, HITOSHI , 和田靖典 , WADA, YASUNORI , 柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/70041 , G21K1/062 , H01L21/0275 , H01S3/005 , H01S3/10038 , H01S3/1075 , H01S3/115 , H01S3/1305 , H01S3/1643 , H01S3/2316 , H01S3/235 , H01S3/2375 , H01S5/4087 , H05G2/005

10. 发明专利

TW201316843A 產生極紫外光的系統和方法审中-公开
简体标题：产生极紫外光的系统和方法
公开(公告)号：TW201316843A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW101135203
申请日：2012-09-26
申请人：極光股份有限公司 , GIGAPHOTON INC.
发明人：長野仁 , NAGANO, HITOSHI , 和田靖典 , WADA, YASUNORI , 柳田達哉 , YANAGIDA, TATSUYA , 若林理 , WAKABAYASHI, OSAMU
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/008 , G03F7/70025 , G03F7/70033 , G03F7/70041 , G21K1/062 , H01L21/0275 , H01S3/005 , H01S3/10038 , H01S3/1075 , H01S3/115 , H01S3/1305 , H01S3/1643 , H01S3/2316 , H01S3/235 , H01S3/2375 , H01S5/4087 , H05G2/005
摘要：提供一種用以產生極紫外光的系統，其中，在一腔室裡面的目標材料會被一雷射射束照射用以變成電漿。該系統包含：一第一雷射設備，其會被配置成用以輸出一第一雷射射束；一第二雷射設備，其會被配置成用以輸出一射束基底(pedestal)與一第二雷射射束；以及一控制器，其會被連接至該等第一雷射設備與第二雷射設備並且會被配置成用以讓該第一雷射射束最先被輸出，該射束基底會在該第一雷射射束後面被輸出，而能量高於該射束基底的第二雷射射束則會在該射束基底後面被輸出。
简体摘要：提供一种用以产生极紫外光的系统，其中，在一腔室里面的目标材料会被一激光射束照射用以变成等离子。该系统包含：一第一激光设备，其会被配置成用以输出一第一激光射束；一第二激光设备，其会被配置成用以输出一射束基底(pedestal)与一第二激光射束；以及一控制器，其会被连接至该等第一激光设备与第二激光设备并且会被配置成用以让该第一激光射束最先被输出，该射束基底会在该第一激光射束后面被输出，而能量高于该射束基底的第二激光射束则会在该射束基底后面被输出。

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