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1. 发明专利

TWI469696B 電漿處理裝置有权
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TWI469696B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW101123579
申请日：2012-06-29
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岩崎征英 , IWASAKI, MASAHIDE
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32201 , H01J37/32211 , H01J37/3222

2. 发明专利

TW201423865A 成膜裝置审中-公开
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TW201423865A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102126392
申请日：2013-07-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：野澤俊久 , NOZAWA, TOSHIHISA , 岩崎征英 , IWASAKI, MASAHIDE , 岩尾俊彥 , IWAO, TOSHIHIKO
IPC分类号： H01L21/31
CPC分类号： C23C16/511 , C23C16/455 , C23C16/45536 , C23C16/45551 , C23C16/45565 , H01J37/32192 , H01J37/32211 , H01J37/32229 , H01J37/3244 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J37/32834
摘要：一實施形態之成膜裝置係具備載置台、處理容器、氣體供給部及電漿產生部。載置台係以其複數基板載置區域會移動於周圍方向之方式而可旋轉地設置於軸線中心。處理室係收納載置台，包含有第1區域及第2區域。藉由載置台的旋轉而相對於軸線移動於周圍方向之基板載置區域會依序通過第1區域及第2區域。氣體供給部會從對向於載置台所設置之噴射部將前驅體氣體供給至第1區域。電漿產生部係包含有在第2區域上方區劃導波路徑之一個以上之導波管、連接至該一個以上之導波管的微波產生器、以及透過設於一個以上之導波管下側導體部之複數開口而延伸至第2區域之介電體製的複數突出部。複數突出部係相對於該軸線而配列於放射方向。
简体摘要：一实施形态之成膜设备系具备载置台、处理容器、气体供给部及等离子产生部。载置台系以其复数基板载置区域会移动于周围方向之方式而可旋转地设置于轴线中心。处理室系收纳载置台，包含有第1区域及第2区域。借由载置台的旋转而相对于轴线移动于周围方向之基板载置区域会依序通过第1区域及第2区域。气体供给部会从对向于载置台所设置之喷射部将前驱体气体供给至第1区域。等离子产生部系包含有在第2区域上方区划导波路径之一个以上之导波管、连接至该一个以上之导波管的微波产生器、以及透过设于一个以上之导波管下侧导体部之复数开口而延伸至第2区域之介电体制的复数突出部。复数突出部系相对于该轴线而配列于放射方向。

3. 发明专利

TW200810613A 電漿處理裝置及電漿處理方法审中-公开
简体标题：等离子处理设备及等离子处理方法
公开(公告)号：TW200810613A
公开(公告)日：2008-02-16
申请号：TW096104878
申请日：2007-02-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：田才忠 TIAN, CAI ZHONG , 野澤俊久 NOZAWA, TOSHIHISA
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H01J37/32192 , H01J37/32211
摘要：本發明之電漿處理裝置,其特徵為具備:處理容器,開設有天井部,內部可抽成真空;載置台,設於上述處理容器內,用於載置被處理體;天板,氣密安裝於上述天井部之開口,由可透過微波之介電體構成;氣體導入手段,用於對上述處理容器內導入必要之氣體;平面天線構件,設於上述天板之中央部上面,為將特定傳導模態之微波導入上述處理容器內而形成有微波放射用縫隙;附加縫隙之導波管,設於上述天板之周邊部上面,為將和上述平面天線構件所導入微波不同傳導模態之微波導入上述處理容器內而形成有微波放射用縫隙;及微波供給手段,用於將微波供給至上述平面天線構件與微波附加縫隙之導波管。
简体摘要：本发明之等离子处理设备,其特征为具备:处理容器,开设有天井部,内部可抽成真空;载置台,设于上述处理容器内,用于载置被处理体;天板,气密安装于上述天井部之开口,由可透过微波之介电体构成;气体导入手段,用于对上述处理容器内导入必要之气体;平面天线构件,设于上述天板之中央部上面,为将特定传导模态之微波导入上述处理容器内而形成有微波放射用缝隙;附加缝隙之导波管,设于上述天板之周边部上面,为将和上述平面天线构件所导入微波不同传导模态之微波导入上述处理容器内而形成有微波放射用缝隙;及微波供给手段,用于将微波供给至上述平面天线构件与微波附加缝隙之导波管。

4. 发明专利

TW555878B 電漿處理裝置失效
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TW555878B
公开(公告)日：2003-10-01
申请号：TW090129064
申请日：2001-11-23
申请人：夏普股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：山本直子 , 山本達志 , 平山昌樹 , 大見忠弘
IPC分类号： H05H , H01L , H01J , C23F , C23C
CPC分类号： H01J37/32192 , H01J37/32211
摘要：槽天線板(7)放置於第二介電質板(5)上，用以輻射微波到室內部(13)之內，槽天線板(7)配置於面向室內部(13)之第二介電質板(5)之一側之上，槽天線板(7)係由導體所製成且包含槽(7a)以用於透過該處通過微波到室內部(13)。在此方式中，電漿處理裝置係配置藉微波來產生電漿，該電漿處理裝置能易於調整離子照射能量以用於欲處理之材料而獲得材料之均勻的電漿處理於材料平面之內。
简体摘要：槽天线板(7)放置于第二介电质板(5)上，用以辐射微波到室内部(13)之内，槽天线板(7)配置于面向室内部(13)之第二介电质板(5)之一侧之上，槽天线板(7)系由导体所制成且包含槽(7a)以用于透过该处通过微波到室内部(13)。在此方式中，等离子处理设备系配置藉微波来产生等离子，该等离子处理设备能易于调整离子照射能量以用于欲处理之材料而获得材料之均匀的等离子处理于材料平面之内。

5. 发明专利

TW492040B 耦合兩個具有不同阻抗之電路元件之裝置和方法失效
简体标题：耦合两个具有不同阻抗之电路组件之设备和方法
公开(公告)号：TW492040B
公开(公告)日：2002-06-21
申请号：TW090102526
申请日：2001-02-06
申请人：東京威力科創有限公司
发明人：安德瑞密卓維克 , 湯瑪士溫荷恩 , 韋恩李强生
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/32211 , H01P5/024
摘要：一種AC電源饋送裝置，用以將電力從電源傳導到載負。饋送裝置沿著它的長度方向具有固定的特性阻抗，且其外周緣的尺寸沿著它的長度方向逐漸改變，或者，饋送裝置具有一輸入端，連接到匹配網路，以及一輸出端，連接到電極，且具有一特性阻抗，它的值從實質上等於匹配網路之輸出阻抗的輸入端改變到阻抗值等於電極之阻抗的輸出端。
简体摘要：一种AC电源馈送设备，用以将电力从电源传导到载负。馈送设备沿着它的长度方向具有固定的特性阻抗，且其外周缘的尺寸沿着它的长度方向逐渐改变，或者，馈送设备具有一输入端，连接到匹配网络，以及一输出端，连接到电极，且具有一特性阻抗，它的值从实质上等于匹配网络之输出阻抗的输入端改变到阻抗值等于电极之阻抗的输出端。

6. 发明专利

TWI563116B 利用微波產生電漿的方法有权
简体标题：利用微波产生等离子的方法
公开(公告)号：TWI563116B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW099138423
申请日：2010-11-09
申请人：穆格公司 , MUEGGE GMBH
发明人：穆格霍斯特 , MUEGGE, HORST , 包姆格特納克勞斯馬丁 , BAUMGAERTNER, KLAUS-MARTIN , 凱薩馬蹄雅斯 , KAISER, MATHIAS , 艾柏茲魯卡斯 , ALBERTS, LUKAS
IPC分类号： C23C16/511 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32211 , C23C16/511 , H01J37/32192

7. 发明专利

TWI547994B 成膜裝置有权
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TWI547994B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW102126392
申请日：2013-07-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：野澤俊久 , NOZAWA, TOSHIHISA , 岩崎征英 , IWASAKI, MASAHIDE , 岩尾俊彥 , IWAO, TOSHIHIKO
IPC分类号： H01L21/31
CPC分类号： C23C16/511 , C23C16/455 , C23C16/45536 , C23C16/45551 , C23C16/45565 , H01J37/32192 , H01J37/32211 , H01J37/32229 , H01J37/3244 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J37/32834

8. 发明专利

TW201501173A 微波表面波電漿裝置审中-公开
简体标题：微波表面波等离子设备
公开(公告)号：TW201501173A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103109729
申请日：2014-03-14
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：方克梅瑞特 , FUNK, MERRITT , 趙建平 , ZHAO, JIANPING , 陳立 , CHEN, LEE , 凡特薩克彼得 , VENTZEK, PETER , 野澤俊久 , NOZAWA, TOSHIHISA , 岩尾俊彥 , IWAO, TOSHIHIKO
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32229 , H01J37/32211 , H01J37/32238 , H01L21/67017 , H01L21/67069
摘要：本發明揭露一種具有電力傳輸元件之處理系統，電力傳輸元件具有內腔體，電力傳輸元件將電磁能量傳播至內腔體中的連續縫隙附近。連續縫隙形成內腔體與基板處理腔室之間的開口。電磁能量可在連續縫隙中產生交流電荷，而能產生可傳播至處理腔室中的電場。電場可與處理腔室中的處理氣體互相作用，以產生用於處理基板之電漿。內腔體可藉由覆蓋連續縫隙之介電元件而與處理腔室隔開。電力傳輸元件（無論其本身或與其他電漿源組合）可用以控制處理腔室內的電漿密度。
简体摘要：本发明揭露一种具有电力传输组件之处理系统，电力传输组件具有内腔体，电力传输组件将电磁能量传播至内腔体中的连续缝隙附近。连续缝隙形成内腔体与基板处理腔室之间的开口。电磁能量可在连续缝隙中产生交流电荷，而能产生可传播至处理腔室中的电场。电场可与处理腔室中的处理气体互相作用，以产生用于处理基板之等离子。内腔体可借由覆盖连续缝隙之介电组件而与处理腔室隔开。电力传输组件（无论其本身或与其他等离子源组合）可用以控制处理腔室内的等离子密度。

9. 发明专利

TW200741862A 電漿處理裝置及方法 PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD 审中-公开
简体标题：等离子处理设备及方法 PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TW200741862A
公开(公告)日：2007-11-01
申请号：TW096109550
申请日：2007-03-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED , 國立大學法人東北大學 TOHOKU UNIVERSITY
发明人：堀口貴弘 HORIGUCHI, TAKAHIRO , 平山昌樹 HIRAYAMA, MASAKI , 大見忠弘 OHMI, TADAHIRO
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： H01J37/32568 , C23C16/45572 , C23C16/45574 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/32211
摘要：本發明是在於提供一種電漿處理裝置,係使微波通過複數形成於方形導波管的下面之槽孔,而傳播至配置於處理室的上面之介電質中,藉由在介電質表面所形成的電磁場的電場能量來使供給至處理室內的特定氣體電漿化,而對基板施以電漿處理之電漿處理裝置,其特徵為:方形導波管的上面構件係以具有導電性的非磁性材料所構成,且該上面構件可對下面昇降移動。按照氣體種類,壓力,微波供給裝置的功率輸出等之處理室內所被進行的電漿處理的條件來使方形導波管的上面構件對下面昇降移動,藉此變化管內波長。
简体摘要：本发明是在于提供一种等离子处理设备,系使微波通过复数形成于方形导波管的下面之槽孔,而传播至配置于处理室的上面之介电质中,借由在介电质表面所形成的电磁场的电场能量来使供给至处理室内的特定气体等离子化,而对基板施以等离子处理之等离子处理设备,其特征为:方形导波管的上面构件系以具有导电性的非磁性材料所构成,且该上面构件可对下面升降移动。按照气体种类,压力,微波供给设备的功率输出等之处理室内所被进行的等离子处理的条件来使方形导波管的上面构件对下面升降移动,借此变化管内波长。

10. 发明专利

TW200730038A 用以實施高效率電漿陷阱的方法和設備 METHODS AND ARRANGEMENT FOR IMPLEMENTING HIGHLY EFFICIENT PLASMA TRAPS 审中-公开
简体标题：用以实施高效率等离子猫腻的方法和设备 METHODS AND ARRANGEMENT FOR IMPLEMENTING HIGHLY EFFICIENT PLASMA TRAPS
公开(公告)号：TW200730038A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：TW095147514
申请日：2006-12-18
申请人：泛林股份有限公司 LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：蒙漢馬德甘馬利西 KAMAREHI, MOHAMMAD , 王英彥 WANG, ING-YANN ALBERT
IPC分类号： H05H
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32211 , H01J37/32357
摘要：一種建構用於將電漿包含在下游微波電漿系統之電漿管總成內的設備,該下游微波電漿系統被建構用於在該電漿管總成之電漿維持區域內產生電漿,且該下游微波電漿系統引導至少部分的該電漿向下游至該下游微波電漿系統的電漿處理室。該設備包含第一中空中央導電碟,其圍繞一圓筒狀構造,該圓筒狀構造界定該電漿管總成的電漿通道。該設備另包含第二中空中央導電碟,其亦圍繞該圓筒狀構造。建構該第二中空中央導電碟,使其設置在相對於該第一中空中央導電碟呈空間分離的關係,以在該第一中空中央導電碟和該第二中空中央導電碟之間,形成第一中空中央碟狀空隙區域。
简体摘要：一种建构用于将等离子包含在下游微波等离子系统之等离子管总成内的设备,该下游微波等离子系统被建构用于在该等离子管总成之等离子维持区域内产生等离子,且该下游微波等离子系统引导至少部分的该等离子向下游至该下游微波等离子系统的等离子处理室。该设备包含第一中空中央导电碟,其围绕一圆筒状构造,该圆筒状构造界定该等离子管总成的等离子信道。该设备另包含第二中空中央导电碟,其亦围绕该圆筒状构造。建构该第二中空中央导电碟,使其设置在相对于该第一中空中央导电碟呈空间分离的关系,以在该第一中空中央导电碟和该第二中空中央导电碟之间,形成第一中空中央碟状空隙区域。

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