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1. 发明专利

TWI551536B 保護圖案化磁性材料的方法有权
简体标题：保护图案化磁性材料的方法
公开(公告)号：TWI551536B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW101121336
申请日：2012-06-14
申请人：希捷科技有限公司 , SEAGATE TECHNOLOGY LLC
发明人：范朝暉 , FAN, ZHAOHUI , 徐源 , XU, YUAN , 胡家禎 , HWU, JUSTIN JIA JEN , 輪湖公一 , WAGO, KOICHI , 郭曉民 , KUO, DAVID SHIAO-MIN
IPC分类号： B82Y20/00 , B82Y40/00
CPC分类号： G11B5/8408 , C23C16/45525 , C23C16/513 , G11B5/855 , H01F41/32 , Y10T428/24802

2. 发明专利

TWI536447B 在電漿製程中支撐工件之裝置及方法有权
简体标题：在等离子制程中支撑工件之设备及方法
公开(公告)号：TWI536447B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW099121708
申请日：2010-07-01
申请人：能多順股份有限公司 , NORDSON CORPORATION
发明人：福特大衛K , FOOTE, DAVID K. , 蓋堤詹姆士D , GETTY, JAMES D.
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/683 , G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855 , H01J37/32431

3. 发明专利

TW201417142A 圖案特徵之分析技術审中-公开
简体标题：图案特征之分析技术
公开(公告)号：TW201417142A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102124741
申请日：2013-07-10
申请人：希捷科技有限公司 , SEAGATE TECHNOLOGY LLC
发明人：余兆寧 , YU, ZHAONING , 倉高伸雄 , KURATAKA, NOBUO , 高茲納潔乃迪 , GAUZNER, GENNADY
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/0002 , C09K13/00 , G03F7/40 , G11B5/746 , G11B5/855
摘要：實施例揭示電子固化反色調處理的方法，包括：將抗蝕刻層沈積至製作於硬遮罩層上的圖案化之壓印出的光阻層，硬遮罩層係沈積於基板上；在將壓印出之圖案特徵蝕刻至硬遮罩及基板中的蝕刻處理期間，使用電子束劑量以固化抗蝕刻層；以及，使用分析處理，以將降低的圖案特徵布置漂移誤差量化以及將經蝕刻的壓印出之圖案特徵的增加的圖案特徵尺寸均勻性量化。
简体摘要：实施例揭示电子固化反色调处理的方法，包括：将抗蚀刻层沉积至制作于硬遮罩层上的图案化之压印出的光阻层，硬遮罩层系沉积于基板上；在将压印出之图案特征蚀刻至硬遮罩及基板中的蚀刻处理期间，使用电子束剂量以固化抗蚀刻层；以及，使用分析处理，以将降低的图案特征布置漂移误差量化以及将经蚀刻的压印出之图案特征的增加的图案特征尺寸均匀性量化。

4. 发明专利

TWI416514B 樹脂模製作用疊層體、疊層體、樹脂模、及磁性記錄媒體的製造方法失效
简体标题：树脂模制作用叠层体、叠层体、树脂模、及磁性记录媒体的制造方法
公开(公告)号：TWI416514B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW098116889
申请日：2009-05-21
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 梅澤友和 , UMEZAWA, TOMOKAZU , 福島正人 , FUKUSHIMA, MASATO , 竹山俊輔 , TAKEYAMA, SHUNSUKE , 櫻木喬規 , SAKURAGI, TAKANORI
IPC分类号： G11B5/84 , B29C59/02
CPC分类号： G11B5/855 , B29C33/3842 , B29C33/424 , Y10T428/31663

5. 发明专利

TWI401331B 雙面濺射蝕刻基板之系統與方法（二）失效
简体标题：双面溅射蚀刻基板之系统与方法（二）
公开(公告)号：TWI401331B
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：TW097147267
申请日：2008-12-05
申请人：因特瓦克公司 , INTEVAC, INC.
发明人：巴恩麥克 , BARNES, MICHAEL S. , 布拉克泰瑞 , BLUCK, TERRY
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： G11B5/84 , G11B5/855 , H01J37/3438

6. 发明专利

TWI387965B 磁性記錄媒體之製造方法及磁性記錄再生裝置失效
简体标题：磁性记录媒体之制造方法及磁性记录再生设备
公开(公告)号：TWI387965B
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW097146937
申请日：2008-12-03
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：福島正人 , FUKUSHIMA, MASATO , 坂脇彰 , SAKAWAKI, AKIRA , 山根明 , YAMANE, AKIRA
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/66 , G11B5/65
CPC分类号： G11B5/855 , H01F41/34

7. 发明专利

TW201041906A 轉印材料用硬化性組成物及含有（甲基）丙烯醯基之尿素化合物审中-公开
简体标题：转印材料用硬化性组成物及含有（甲基）丙烯酰基之尿素化合物
公开(公告)号：TW201041906A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：TW099102641
申请日：2010-01-29
申请人：昭和電工股份有限公司
发明人：新井良和 , 內田博
IPC分类号： C08F , B29C , G11B , C07C
CPC分类号： G11B5/855 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C07C275/10 , G03F7/0002 , G03F7/027
摘要：本發明的目的係提供奈米壓印法之轉印性非常好，且以氬氣體與氧氣體之蝕刻速度的選擇性高，可以高生產量形成微細圖型的轉印材料用硬化性組成物。本發明之轉印材料用硬化性組成物，其特徵係含有選自下式(1)~(3)所成群之至少1種的骨架與具有(甲基)丙烯醯基的化合物(A)。
简体摘要：本发明的目的系提供奈米压印法之转印性非常好，且以氩气体与氧气体之蚀刻速度的选择性高，可以高生产量形成微细图型的转印材料用硬化性组成物。本发明之转印材料用硬化性组成物，其特征系含有选自下式(1)~(3)所成群之至少1种的骨架与具有(甲基)丙烯酰基的化合物(A)。

8. 发明专利

TW201009828A 磁性記錄媒體之評價方法及製造方法 PROCESS FOR EVALATING MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PROCESS FOR PRODUCING MAGNETIC RECORDING MEDIUM 失效
简体标题：磁性记录媒体之评价方法及制造方法 PROCESS FOR EVALATING MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND PROCESS FOR PRODUCING MAGNETIC RECORDING MEDIUM
公开(公告)号：TW201009828A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098116465
申请日：2009-05-18
申请人：昭和電工股份有限公司
发明人：福島正人
IPC分类号： G11B
CPC分类号： G11B5/855 , G01R33/1207
摘要：本發明提供一種磁性記錄媒體的評價方法，該評價方法能夠提高該磁性記錄媒體的生產效率，該磁性記錄媒體係離散式或位元型樣式的磁性記錄媒體，即使在表面上殘留凹凸，磁頭的浮動特性仍很穩定，可處理高記錄密度。該等評價方法，係一種在圓盤狀基板的至少一方表面上設有磁性記錄圖案，且在表面上設有對應於該磁性記錄圖案的凹凸的磁性記錄媒體的評價方法，其特徵為：讓安裝有感應器的磁頭滑動部在旋轉的該磁性記錄媒體的表面上浮動移行，在該磁頭滑動部與該磁性記錄媒體處於非接觸狀態下檢測該感應器的輸出訊號，並根據該訊號判斷該磁性記錄媒體的良窳。
简体摘要：本发明提供一种磁性记录媒体的评价方法，该评价方法能够提高该磁性记录媒体的生产效率，该磁性记录媒体系离散式或比特型样式的磁性记录媒体，即使在表面上残留凹凸，磁头的浮动特性仍很稳定，可处理高记录密度。该等评价方法，系一种在圆盘状基板的至少一方表面上设有磁性记录图案，且在表面上设有对应于该磁性记录图案的凹凸的磁性记录媒体的评价方法，其特征为：让安装有感应器的磁头滑动部在旋转的该磁性记录媒体的表面上浮动移行，在该磁头滑动部与该磁性记录媒体处于非接触状态下检测该感应器的输出信号，并根据该信号判断该磁性记录媒体的良窳。

9. 发明专利

TW200937401A 磁性記錄媒體之製造方法及磁性記錄再生裝置 PROCESS FOR PRODUCING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING REPRODUCING APPARATUS 失效
简体标题：磁性记录媒体之制造方法及磁性记录再生设备 PROCESS FOR PRODUCING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING REPRODUCING APPARATUS
公开(公告)号：TW200937401A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097146937
申请日：2008-12-03
申请人：昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K.
发明人：福島正人 FUKUSHIMA, MASATO , 彰 SAKAWAKI, AKIRA , 山根明 YAMANE, AKIRA
IPC分类号： G11B
CPC分类号： G11B5/855 , H01F41/34
摘要：本發明提供磁性記錄媒體之製造方法,在非磁性基板的至少一表面具有磁性分離之磁性記錄圖案,包含以如下之(A)-(G)順序實施的7個步驟。(A)在非磁性基板形成磁性層的步驟、(B)在該磁性層上形成碳遮罩層的步驟、(C)在該碳遮罩層上形成抗蝕劑層的步驟、(D)在該抗蝕劑層形成磁性記錄圖案之負型圖案的步驟、(E)將對應於磁性記錄圖案之負型圖案之區域的該遮罩層去除的步驟、(F)對應於磁性記錄圖案之負型圖案的區域中,將該磁性層之至少表層部分去除的步驟、(G)依所希望設計,將殘留之該抗蝕劑層及碳遮罩層去除的步驟。所製造之磁性記錄媒體一面確保與以往相同以上的記錄再生特性,一面顯示較高的記錄密度。
简体摘要：本发明提供磁性记录媒体之制造方法,在非磁性基板的至少一表面具有磁性分离之磁性记录图案,包含以如下之(A)-(G)顺序实施的7个步骤。(A)在非磁性基板形成磁性层的步骤、(B)在该磁性层上形成碳遮罩层的步骤、(C)在该碳遮罩层上形成抗蚀剂层的步骤、(D)在该抗蚀剂层形成磁性记录图案之负型图案的步骤、(E)将对应于磁性记录图案之负型图案之区域的该遮罩层去除的步骤、(F)对应于磁性记录图案之负型图案的区域中,将该磁性层之至少表层部分去除的步骤、(G)依所希望设计,将残留之该抗蚀剂层及碳遮罩层去除的步骤。所制造之磁性记录媒体一面确保与以往相同以上的记录再生特性,一面显示较高的记录密度。

10. 发明专利

TW200930826A 雙面濺射蝕刻基板之系統與方法(一) SYSTEM AND METHOD FOR DUAL-SIDED SPUTTER ETCH OF SUBSTRATES 审中-公开
简体标题：双面溅射蚀刻基板之系统与方法(一) SYSTEM AND METHOD FOR DUAL-SIDED SPUTTER ETCH OF SUBSTRATES
公开(公告)号：TW200930826A
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：TW097147265
申请日：2008-12-05
申请人：因特瓦克公司 INTEVAC, INC.
发明人：巴恩麥克 BARNES, MICHAEL S. , 布拉克泰瑞 BLUCK, TERRY
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： G11B5/84 , G11B5/855 , H01J37/3438
摘要：本發明提供一種用以蝕刻圖案化媒介物碟片之系統。使用一可動非接觸電極執行濺射蝕刻。該電極移動至接近接觸但不接觸該基板之位置,以耦合RF能量至該碟片。所蝕刻之材料可為金屬,例如為Co/Pt/Cr或類似金屬。該基板以垂直保持在一載具,兩側均可依序蝕刻。換言之,其一面在一腔中蝕刻,其後在另一腔中蝕刻第二面。一隔離閥位於該兩腔體之間,而該碟片載具在該腔之間移動該碟片。該載具可為一直線驅動載具,例如為磁化輪及直線馬達。
简体摘要：本发明提供一种用以蚀刻图案化媒介物盘片之系统。使用一可动非接触电极运行溅射蚀刻。该电极移动至接近接触但不接触该基板之位置,以耦合RF能量至该盘片。所蚀刻之材料可为金属,例如为Co/Pt/Cr或类似金属。该基板以垂直保持在一载具,两侧均可依序蚀刻。换言之,其一面在一腔中蚀刻,其后在另一腔中蚀刻第二面。一隔离阀位于该两腔体之间,而该盘片载具在该腔之间移动该盘片。该载具可为一直线驱动载具,例如为磁化轮及直线马达。

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