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1. 发明专利

TW201821142A 寡矽烷之製造方法及寡矽烷之製造裝置审中-公开
简体标题：寡硅烷之制造方法及寡硅烷之制造设备
公开(公告)号：TW201821142A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106137008
申请日：2017-10-27
申请人：日商昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：埜村清志 , NOMURA, KIYOSHI , 內田博 , UCHIDA, HIROSHI
IPC分类号： B01D3/28 , B01D71/02 , B01D15/08 , C01B33/04
摘要：本發明提供可效率良好地製造目的之寡矽烷的寡矽烷之製造方法。係使包含將氫矽烷經脫氫縮合所得之寡矽烷之反應生成混合物流體在特定條件下供給於膜分離器，並在特定條件下與吸附材接觸。
简体摘要：本发明提供可效率良好地制造目的之寡硅烷的寡硅烷之制造方法。系使包含将氢硅烷经脱氢缩合所得之寡硅烷之反应生成混合物流体在特定条件下供给于膜分离器，并在特定条件下与吸附材接触。

2. 发明专利

TWI621134B 微波加熱用導電性樹脂組成物有权
简体标题：微波加热用导电性树脂组成物
公开(公告)号：TWI621134B
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW103119214
申请日：2014-06-03
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 若林正一郎 , WAKABAYASHI, SHOICHIRO , 原真尙 , HARA, MASANAO , 竇君 , DOU, JUN
IPC分类号： H01B1/22 , H05K3/10 , C08K3/04
CPC分类号： H01B1/22 , C08K3/04 , C08K3/041 , C08K3/042 , C08K3/044 , C08K3/045 , C08K3/046 , C08K3/08 , C08K2201/001 , C08K2201/016 , H01B13/003 , H05K1/095 , H05K3/1283 , H05K2201/0215 , H05K2201/0227 , H05K2201/0272 , H05K2201/0323 , H05K2203/102 , C08L63/00

3. 发明专利

TWI599611B 液狀環氧樹脂組成物有权
简体标题：液状环氧树脂组成物
公开(公告)号：TWI599611B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW103140996
申请日：2014-11-26
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：原真尚 , HARA, MASANAO , 竇君 , DOU, JUN , 若林正一郎 , WAKABAYASHI, SHOICHIRO , 內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 瀧本進一 , TAKIMOTO, SHINICHI , 大谷和男 , OOTANI, KAZUO
IPC分类号： C08L63/00 , C08G59/20 , C08G59/62
CPC分类号： C08G59/621

4. 发明专利

TW201712078A 平版印刷之絕緣性保護膜形成用組成物审中-公开
简体标题：平版印刷之绝缘性保护膜形成用组成物
公开(公告)号：TW201712078A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105117742
申请日：2016-06-04
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 伊藤祐司 , ITO, YUJI , 鳥羽正彦 , TOBA, MASAHIKO
IPC分类号： C09D11/033 , B41M1/06 , H01B3/30
CPC分类号： B41M1/06 , C09D11/033 , H01B3/30
摘要：本發明係關於一種絕緣性保護膜形成用組成物，其係使用作為絕緣性保護膜所使用之熱硬化性樹脂系，以不會使橡皮布(blanket)之硬化性樹脂之吸收產生問題的程度，使用平版印刷為了形成絕緣性保護膜的絕緣性保護膜形成用組成物。本發明之平版印刷之絕緣性保護膜形成用組成物，係含有：(A)具有交聯反應性基之質量平均分子量大於2×104、40×104以下的高分子量樹脂、(B)溶解度參數大於8.7、沸點為150℃以上350℃以下之溶劑、與(C)溶解度參數為7.0以上8.7以下、沸點為130℃以上未滿250℃之溶劑。
简体摘要：本发明系关于一种绝缘性保护膜形成用组成物，其系使用作为绝缘性保护膜所使用之热硬化性树脂系，以不会使橡皮布(blanket)之硬化性树脂之吸收产生问题的程度，使用平版印刷为了形成绝缘性保护膜的绝缘性保护膜形成用组成物。本发明之平版印刷之绝缘性保护膜形成用组成物，系含有：(A)具有交联反应性基之质量平均分子量大于2×104、40×104以下的高分子量树脂、(B)溶解度参数大于8.7、沸点为150℃以上350℃以下之溶剂、与(C)溶解度参数为7.0以上8.7以下、沸点为130℃以上未满250℃之溶剂。

5. 发明专利

TW201538610A 液狀環氧樹脂組成物审中-公开
简体标题：液状环氧树脂组成物
公开(公告)号：TW201538610A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW103140996
申请日：2014-11-26
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：原真尚 , HARA, MASANAO , 竇君 , DOU, JUN , 若林正一郎 , WAKABAYASHI, SHOICHIRO , 內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 瀧本進一 , TAKIMOTO, SHINICHI , 大谷和男 , OOTANI, KAZUO
IPC分类号： C08L63/00 , C08G59/20 , C08G59/62
CPC分类号： C08G59/621
摘要：提供可得到耐熱性優異的硬化物之低黏度的液狀環氧樹脂組成物。本發明之液狀環氧樹脂組成物含有(A)縮水甘油基醚化合物與(B)酚樹脂系硬化劑，(A)縮水甘油基醚化合物在25℃為液體，實質上不含碳-氯鍵，且(B)酚樹脂系硬化劑在25℃為固體。
简体摘要：提供可得到耐热性优异的硬化物之低黏度的液状环氧树脂组成物。本发明之液状环氧树脂组成物含有(A)缩水甘油基醚化合物与(B)酚树脂系硬化剂，(A)缩水甘油基醚化合物在25℃为液体，实质上不含碳-氯键，且(B)酚树脂系硬化剂在25℃为固体。

6. 发明专利

TWI494307B 環氧化合物之製造方法有权
简体标题：环氧化合物之制造方法
公开(公告)号：TWI494307B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW100124601
申请日：2011-07-12
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：新井良和 , ARAI, YOSHIKAZU , 內田博 , UCHIDA, HIROSHI
IPC分类号： C07D301/12 , C07D303/27
CPC分类号： C07D301/12

7. 发明专利

TW201530628A 導電圖案形成方法及使用彼之ｏｎ－ｃｅｌｌ型觸控面板之製造方法、及使用於彼之轉印用膜以及ｏｎ－ｃｅｌｌ型觸控面板审中-公开
简体标题：导电图案形成方法及使用彼之ｏｎ－ｃｅｌｌ型触摸皮肤之制造方法、及使用于彼之转印用膜以及ｏｎ－ｃｅｌｌ型触摸皮肤
公开(公告)号：TW201530628A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103138199
申请日：2014-11-04
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 宮村泰直 , MIYAMURA, YASUNAO , 岡恵理 , OKAZAKI, ERI , 大籏英樹 , OHATA, HIDEKI
IPC分类号： H01L21/28 , B82B3/00
CPC分类号： B32B7/06 , B32B7/12 , B32B2307/202 , B32B2457/202 , G06F3/0412 , G06F2203/04103
摘要：發明之課題在於提供可以簡單適用於液晶顯示元件及其他元件之導電圖案形成方法以及使用於彼之轉印用膜。本發明之解決手段係於支撐膜(10)之一方主面上形成接著層(12)，於接著層(12)上把包含金屬奈米線及/或金屬奈米管之導電性油墨塗布為特定的圖案，形成導電預備層(14)。於此圖案，也包含於接著層(12)的全面塗布為全面狀。對前述導電預備層(14)照射脈衝光，呈現或者提高導電性，變換為導電層(16)。因應必要在導電層(16)上形成保護層(18)而得到轉印用膜。剝離支撐膜(10)，透過接著層(12)把導電層(16)接著於基板(20)。使用具有保護層(18)的轉印膜的場合，除去保護層(18)，使導電層(16)露出，因應必要藉由蝕刻處理等把形成為全面狀的導電層(16)加工為特定的圖案。
简体摘要：发明之课题在于提供可以简单适用于液晶显示组件及其他组件之导电图案形成方法以及使用于彼之转印用膜。本发明之解决手段系于支撑膜(10)之一方主面上形成接着层(12)，于接着层(12)上把包含金属奈米线及/或金属奈米管之导电性油墨涂布为特定的图案，形成导电预备层(14)。于此图案，也包含于接着层(12)的全面涂布为全面状。对前述导电预备层(14)照射脉冲光，呈现或者提高导电性，变换为导电层(16)。因应必要在导电层(16)上形成保护层(18)而得到转印用膜。剥离支撑膜(10)，透过接着层(12)把导电层(16)接着于基板(20)。使用具有保护层(18)的转印膜的场合，除去保护层(18)，使导电层(16)露出，因应必要借由蚀刻处理等把形成为全面状的导电层(16)加工为特定的图案。

8. 发明专利

TWI461414B 環氧化合物的製造方法失效
简体标题：环氧化合物的制造方法
公开(公告)号：TWI461414B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW099108517
申请日：2010-03-23
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：永戶伸幸 , NAGATO, NOBUYUKI , 內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 堀越桂 , HORIKOSHI, KATSURA , 今泉光博 , IMAIZUMI, MITSUHIRO
IPC分类号： C07D301/12 , B01J31/02 , C07D303/18 , C07D303/44
CPC分类号： C07D301/12 , C07D303/16 , C07D303/40 , C07D303/44

9. 发明专利

TW201409334A 透明導電基板之製造方法、透明導電基板及靜電電容式觸控面板审中-公开
简体标题：透明导电基板之制造方法、透明导电基板及静电电容式触摸皮肤
公开(公告)号：TW201409334A
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW102115036
申请日：2013-04-26
申请人：國立大學法人大阪大學 , OSAKA UNIVERSITY , 昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：菅沼克昭 , SUGANUMA, KATSUAKI , 內田博 , UCHIDA, HIROSHI , 篠崎硏二 , SHINOZAKI, KENJI
IPC分类号： G06F3/044 , G02F1/1333 , H05K3/12
CPC分类号： G06F3/044 , G06F2203/04103 , H05K1/097 , H05K3/1208 , H05K3/1283 , H05K3/1291 , H05K3/28 , H05K2201/0108 , H05K2203/107
摘要：本發明提供一種不需利用真空製程、濕式蝕刻法，而以簡易之工法進行之圖型辨識性高之靜電電容式觸控面板用之透明導電基板之製造方法、透明導電基板及靜電電容式觸控面板。利用導電性膏於透明薄膜之至少一主面上形成電極用拉繞電極(routing electrode)圖型，在電極圖型形成部中，以連接於電極用拉回電極圖型之方式，利用包含金屬奈米線或金屬奈米粒子之透明導電圖型形成用油墨印刷電極圖型並乾燥，對乾燥後之電極圖型在光照射部18中照射脈衝光，使透明導電圖型形成用油墨中所含之金屬奈米線或金屬奈米粒子燒結。
简体摘要：本发明提供一种不需利用真空制程、湿式蚀刻法，而以简易之工法进行之图型辨识性高之静电电容式触摸皮肤用之透明导电基板之制造方法、透明导电基板及静电电容式触摸皮肤。利用导电性膏于透明薄膜之至少一主面上形成电极用拉绕电极(routing electrode)图型，在电极图型形成部中，以连接于电极用拉回电极图型之方式，利用包含金属奈米线或金属奈米粒子之透明导电图型形成用油墨印刷电极图型并干燥，对干燥后之电极图型在光照射部18中照射脉冲光，使透明导电图型形成用油墨中所含之金属奈米线或金属奈米粒子烧结。

10. 发明专利

TW201345347A 導電性圖案生成方法审中-公开
简体标题：导电性图案生成方法
公开(公告)号：TW201345347A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW101143973
申请日：2012-11-23
申请人：昭和電工股份有限公司 , SHOWA DENKO K. K.
发明人：內田博 , UCHIDA, HIROSHI
IPC分类号： H05K3/10 , H05K3/28 , H05K1/00
CPC分类号： H05K3/105 , H05K3/12 , H05K3/281 , H05K3/386 , H05K2203/1545
摘要：本發明提供一種能改善導電性圖案之導電性的導電性圖案生成方法。墨水層(12)係藉由塗印含金屬氧化物粒子和還原劑及/或金屬粒子之組合物(墨水)於基材(10)之表面上而形成，並藉由光照射或微波照射加熱該墨水層(12)，使得受熱部位顯現導電性且將該墨水層(12)轉化為導電層(14)。金屬粒子及/或金屬氧化物粒子係經短時間內快速加熱並在光照射或微波照射期間產生氣泡且使該導電層(14)內產生空隙，因此藉由適當之加壓機(16)對該導電層(14)施壓以壓碎該空隙而在獲得導電性圖案(18)之前改善該導電層(14)之導電性。當對該導電層(14)施壓時，可同時將絕緣保護膜(20)加壓密封於該導電層(14)形成於其上之基材的表面上。
简体摘要：本发明提供一种能改善导电性图案之导电性的导电性图案生成方法。墨水层(12)系借由涂印含金属氧化物粒子和还原剂及/或金属粒子之组合物(墨水)于基材(10)之表面上而形成，并借由光照射或微波照射加热该墨水层(12)，使得受热部位显现导电性且将该墨水层(12)转化为导电层(14)。金属粒子及/或金属氧化物粒子系经短时间内快速加热并在光照射或微波照射期间产生气泡且使该导电层(14)内产生空隙，因此借由适当之加压机(16)对该导电层(14)施压以压碎该空隙而在获得导电性图案(18)之前改善该导电层(14)之导电性。当对该导电层(14)施压时，可同时将绝缘保护膜(20)加压密封于该导电层(14)形成于其上之基材的表面上。

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