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1. 发明专利

TWI613545B 繪圖處理程序之分析方法與分析系統有权
简体标题：绘图处理进程之分析方法与分析系统
公开(公告)号：TWI613545B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW105132243
申请日：2016-10-05
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：馬明達 , MARMIN, ARTHUR , 賴俊宏 , LAI, CHUN HUNG , 黃迅倫 , HUANG, HSUN LUN , 盧俊銘 , LU, JUIN MING
IPC分类号： G06F11/34 , G06T1/20
CPC分类号： G06T1/20 , G06F11/3664 , G06K9/00 , G06K9/6223 , G06K9/6269 , G06K9/6287

2. 发明专利

TW201743227A 用於識別非精確匹配文字之雙認證方法审中-公开
简体标题：用于识别非精确匹配文本之双认证方法
公开(公告)号：TW201743227A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106101378
申请日：2017-01-16
申请人：底線科技公司 , BOTTOMLINE TECHNOLOGIES (DE) INC.
发明人：亞曼德布萊恩 , AMEND, BRIAN , 葛萊倫肖恩 , GLERUM, SEAN , 庫奇梅麗莎 , KUTSCH, MELISSA , 莫蘭潔西卡 , MORAN, JESSICA
IPC分类号： G06F17/30 , G06F17/27
CPC分类号： G06F17/2775 , G06F17/2211 , G06F17/24 , G06F17/25 , G06F17/273 , G06K9/00
摘要：一種用於匹配使用者輸入文字和儲存文字之電腦實施方法。該使用者輸入文字係使用一種萊文斯坦距離演算法而和其經儲存於一個資料庫中的文字串之各者作比較。對於各個比較，該萊文斯坦距離係分析以確定精確匹配、不匹配、與可能匹配。可能匹配係使用一種鍵盤距離演算法而進一步分析以區別匹配與不匹配。
简体摘要：一种用于匹配用户输入文本和存储文本之电脑实施方法。该用户输入文本系使用一种莱文斯坦距离算法而和其经存储于一个数据库中的文本串之各者作比较。对于各个比较，该莱文斯坦距离系分析以确定精确匹配、不匹配、与可能匹配。可能匹配系使用一种键盘距离算法而进一步分析以区别匹配与不匹配。

3. 发明专利

TW201743052A 用於產出關鍵缺陷之設計為基礎之取樣及分級處理审中-公开
简体标题：用于产出关键缺陷之设计为基础之采样及分级处理
公开(公告)号：TW201743052A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106132337
申请日：2014-04-15
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：庫瑞達賽特亞 , KURADA,SATYA , 巴布納西瑞哈維 , BABULNATH,RAGHAV , 聶瓦克 , NG,KWOK , 高理升 , GAO,LISHENG
IPC分类号： G01N21/956 , G06F19/00
CPC分类号： G06T7/0006 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N21/95607 , G01N2021/95676 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G01N2201/10 , G01N2201/12 , G06K9/00 , G06K9/66 , G06T7/0008 , G06T7/001 , G06T2207/20081 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供用於產出關鍵缺陷之設計為基礎之取樣及分級處理之方法及系統。一種方法包含使由一檢測系統之一光學子系統針對一晶圓所產生之各檢測影像圖框中的各影像塊(image patch)對準至針對該晶圓的設計資訊。該方法亦包含導出在該等影像塊中所偵測之缺陷之位置處的多層設計屬性。此外，該方法包含以該等多層設計屬性來建置一決策樹。該決策樹係用於將該等缺陷分離成對形成於該晶圓上之一裝置具有不同產出影響的等級(bin)。該方法亦包含使用該決策樹來分級處理該等缺陷。
简体摘要：本发明提供用于产出关键缺陷之设计为基础之采样及分级处理之方法及系统。一种方法包含使由一检测系统之一光学子系统针对一晶圆所产生之各检测影像图框中的各影像块(image patch)对准至针对该晶圆的设计信息。该方法亦包含导出在该等影像块中所侦测之缺陷之位置处的多层设计属性。此外，该方法包含以该等多层设计属性来建置一决策树。该决策树系用于将该等缺陷分离成对形成于该晶圆上之一设备具有不同产出影响的等级(bin)。该方法亦包含使用该决策树来分级处理该等缺陷。

4. 发明专利

TWI557649B 電子裝置及指紋辨識裝置控制方法有权
简体标题：电子设备及指纹辨识设备控制方法
公开(公告)号：TWI557649B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW103126347
申请日：2014-08-01
申请人：神盾股份有限公司 , EGIS TECHNOLOGY INC.
发明人：藍國能 , LAN, KUO NENG , 江元麟 , CHIANG, YUAN LIN
IPC分类号： G06K9/20 , G06K9/78
CPC分类号： G06K9/00087 , G06F1/32 , G06F1/325 , G06F1/3287 , G06K9/00 , G06K9/0002 , Y02D10/171 , Y02D50/20

5. 发明专利

TWI544779B ３次元攝像裝置有权
简体标题：３次元摄像设备
公开(公告)号：TWI544779B
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW099145843
申请日：2010-12-24
申请人：松下知識產權經營股份有限公司 , PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD.
发明人：平本政夫 , HIRAMOTO, MASAO , 三崎正之 , MISAKI, MASAYUKI , 瀧澤輝之 , TAKIZAWA, TERUYUKI , 鈴木正明 , SUZUKI, MASAAKI
IPC分类号： H04N13/00 , G03B35/08
CPC分类号： H04N13/211 , G03B35/08 , G03B35/10 , G06K9/00 , H04N13/214

6. 发明专利

TW201626328A 用於分集化及缺陷發現之動態分格审中-公开
简体标题：用于分集化及缺陷发现之动态分格
公开(公告)号：TW201626328A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104134248
申请日：2015-10-19
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：普莉霍爾馬丁 , PLIHAL, MARTIN , 亞納桑維狄亞薩吉爾 , ANANTHA, VIDYASAGAR
IPC分类号： G06T7/00 , G01N21/956 , G01N21/95 , G06K9/52
CPC分类号： G06T7/0004 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8854 , G06K9/00 , G06K9/52 , G06K9/6255 , G06T7/001 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供用於產生一晶圓之一缺陷樣本之方法及系統。一種方法包含將在一晶圓上偵測之缺陷分離至若干分格中，該等分格在該等缺陷之一或多個第一屬性之一第一集合之值上具有多樣性。該方法亦包含基於該等缺陷之一或多個第二屬性之一第二集合中之多樣性而自該等分格中之一或多者獨立地選擇該等分格內之缺陷。然後，使用該等選定缺陷來建立該晶圓之一缺陷樣本。以此方式，可容易地選擇具有多個屬性之分集化值之缺陷。
简体摘要：本发明提供用于产生一晶圆之一缺陷样本之方法及系统。一种方法包含将在一晶圆上侦测之缺陷分离至若干分格中，该等分格在该等缺陷之一或多个第一属性之一第一集合之值上具有多样性。该方法亦包含基于该等缺陷之一或多个第二属性之一第二集合中之多样性而自该等分格中之一或多者独立地选择该等分格内之缺陷。然后，使用该等选定缺陷来创建该晶圆之一缺陷样本。以此方式，可容易地选择具有多个属性之分集化值之缺陷。

7. 发明专利

TW201621010A 聲波式指紋辨識元件及其製造方法审中-公开
简体标题：声波式指纹辨识组件及其制造方法
公开(公告)号：TW201621010A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104100309
申请日：2015-01-06
申请人：業成光電(深圳)有限公司 , INTERFACE OPTOELECTRONICS CORPORATION , 英特盛科技股份有限公司 , GENERAL INTERFACE SOLUTION LIMITED
发明人：盧宏傑 , LU, HUNGCHIEH , 黃彥衡 , HUANG, YENHENG , 陳宗凱 , CHEN, CHUNGKAI , 黃世杰 , HUANG, SHIHCHIEH , 鄭立婷 , CHENG, LITING
IPC分类号： C09J7/02 , G06K9/00
CPC分类号： G06K9/0002 , G06F3/043 , G06F2203/04103 , G06K9/00
摘要：本發明提供一種聲波式指紋辨識元件。此聲波式指紋辨識元件包含感測電路基板、薄膜黏合層、壓電材料層以及保護層。薄膜黏合層係設置於感測電路基板上。此薄膜黏合層係由薄膜黏合材料形成，且薄膜黏合材料係由薄膜黏合劑及有機溶劑混合而成。其中，薄膜黏合劑為環氧樹脂，且有機溶劑為C3~C8且含羰基的有機溶劑。薄膜黏合劑於該薄膜黏合材料中的固含量為1%~90%。壓電材料層係設置於薄膜黏合層上。保護層係設置於壓電材料層上。本發明利用適當的有機溶劑與薄膜黏合劑混合，以製備薄膜黏合溶液，藉此可推算薄膜黏合劑之固含量、薄膜黏合溶液的黏度及固化時間，以得到最佳的製程條件。一種聲波式指紋辨識元件之製造方法亦揭露於此。
简体摘要：本发明提供一种声波式指纹辨识组件。此声波式指纹辨识组件包含传感电路基板、薄膜黏合层、压电材料层以及保护层。薄膜黏合层系设置于传感电路基板上。此薄膜黏合层系由薄膜黏合材料形成，且薄膜黏合材料系由薄膜黏合剂及有机溶剂混合而成。其中，薄膜黏合剂为环氧树脂，且有机溶剂为C3~C8且含羰基的有机溶剂。薄膜黏合剂于该薄膜黏合材料中的固含量为1%~90%。压电材料层系设置于薄膜黏合层上。保护层系设置于压电材料层上。本发明利用适当的有机溶剂与薄膜黏合剂混合，以制备薄膜黏合溶液，借此可推算薄膜黏合剂之固含量、薄膜黏合溶液的黏度及固化时间，以得到最佳的制程条件。一种声波式指纹辨识组件之制造方法亦揭露于此。

8. 发明专利

TWI528822B 接收裝置、控制應用程式之方法、程式及資訊處理系統有权
简体标题：接收设备、控制应用进程之方法、进程及信息处理系统
公开(公告)号：TWI528822B
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW101127366
申请日：2012-07-27
申请人：新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
发明人：北里直久 , KITAZATO, NAOHISA
IPC分类号： H04N5/44 , H04N21/43
CPC分类号： H04N21/8173 , G06F13/00 , G06K9/00 , G06K9/00744 , H04H60/372 , H04H60/56 , H04H2201/37 , H04N7/173 , H04N21/431 , H04N21/4331 , H04N21/4394 , H04N21/44008 , H04N21/442 , H04N21/4622 , H04N21/6125 , H04N21/6543 , H04N21/6582 , H04N21/8133 , H04N21/8166 , H04N21/8547 , H04N21/8586

9. 发明专利

TW201608476A 個人識別卡、個人識別卡的發放方法及系統、個人識別卡的認證方法及系統审中-公开
简体标题：个人识别卡、个人识别卡的发放方法及系统、个人识别卡的认证方法及系统
公开(公告)号：TW201608476A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW104116335
申请日：2015-05-21
申请人：國際商業技術硏究調査公司 , IBTRNC CO., LTD. , 安裕百 , AN, YOO BACK
发明人：安裕百 , AN, YOO BACK
IPC分类号： G06K17/00 , G06K19/08 , G06K9/00
CPC分类号： G06K9/00 , G06K17/00 , G06K19/08
摘要：本發明涉及個人識別卡、個人識別卡的發放方法及系統、個人識別卡的認證方法及系統。本發明一個實施例的個人識別卡的特徵在於，包括：卡主體；字母組合部，其在卡主體的第一面形成，形成有包括不規則地形成的複數個特徵圖案的第一圖案；及指紋部，其在卡主體的第一面或第二面形成，按印有使用者的活體指紋，比較從第一圖案提取的字母組合資訊與在資料庫部登記的字母組合資訊，比較從活體指紋提取的指紋資訊、從活體指紋提取並登記於資料庫部的指紋資訊及從使用者輸入的指紋簽名提取的指紋資訊，識別使用者。
简体摘要：本发明涉及个人识别卡、个人识别卡的发放方法及系统、个人识别卡的认证方法及系统。本发明一个实施例的个人识别卡的特征在于，包括：卡主体；字母组合部，其在卡主体的第一面形成，形成有包括不守则地形成的复数个特征图案的第一图案；及指纹部，其在卡主体的第一面或第二面形成，按印有用户的活体指纹，比较从第一图案提取的字母组合信息与在数据库部登记的字母组合信息，比较从活体指纹提取的指纹信息、从活体指纹提取并登记于数据库部的指纹信息及从用户输入的指纹签名提取的指纹信息，识别用户。

10. 发明专利

TW201539600A 檢測裝置、壓印裝置、及物品的製造方法审中-公开
简体标题：检测设备、压印设备、及物品的制造方法
公开(公告)号：TW201539600A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104103438
申请日：2015-02-02
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：稲田博志 , INADA, HIROSHI , 三島和彥 , MISHIMA, KAZUHIKO , 宮春吓文 , MIYAHARU, TAKAFUMI
IPC分类号： H01L21/66 , G02B11/00 , G03F7/20
CPC分类号： H01L21/304 , G03F9/7038 , G03F9/7076 , G06K9/00 , G06T7/0004 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供了一種檢測裝置、壓印裝置及物品的製造方法。所述檢測裝置被構造為檢測由具有彼此不同的柵格節距的柵格圖案產生的莫列波紋，所述檢測裝置包括：攝像單元，其被構造為拍攝所述莫列波紋的圖像；成像光學系統，其被構造為使攝像單元對所述莫列波紋進行成像；以及處理單元，其被構造為對由所述攝像單元拍攝到的所述莫列波紋的攝像結果進行處理，其中所述攝像單元拍攝包括具有不大於所述成像光學系統的分辨能力的寬度的多個圖案的標記，所述多個圖案佈置在測量方向上並且所述多個圖案的寬度和間隔之間的占空比被變化，並且所述處理單元透過對由所述攝像單元拍攝到的標記的所述攝像結果進行處理，來評估所述檢測裝置。
简体摘要：本发明提供了一种检测设备、压印设备及物品的制造方法。所述检测设备被构造为检测由具有彼此不同的栅格节距的栅格图案产生的莫列波纹，所述检测设备包括：摄像单元，其被构造为拍摄所述莫列波纹的图像；成像光学系统，其被构造为使摄像单元对所述莫列波纹进行成像；以及处理单元，其被构造为对由所述摄像单元拍摄到的所述莫列波纹的摄像结果进行处理，其中所述摄像单元拍摄包括具有不大于所述成像光学系统的分辨能力的宽度的多个图案的标记，所述多个图案布置在测量方向上并且所述多个图案的宽度和间隔之间的占空比被变化，并且所述处理单元透过对由所述摄像单元拍摄到的标记的所述摄像结果进行处理，来评估所述检测设备。

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