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1. 发明专利

TW274629B 能敏性材料及其使用方法失效
公开(公告)号：TW274629B
公开(公告)日：1996-04-21
申请号：TW084101588
申请日：1995-02-21
申请人：美國電話電報股份有限公司
发明人：亞加.喬希 , 提摩西.威德曼
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/167 , G03F7/0754 , G03F7/36
摘要：一類含囑極料在紫尸侑深層紫外線上顯示優良的選擇性，用輻小感應可將之轉變成透明也合物以形成圖型，此類材料可自氣相沈積，因此在製造電子及光學裝置上作為阻抗之使用上顯示優異的遠景。
简体摘要：一类含嘱极料在紫尸侑深层紫外在线显示优良的选择性，用辐小感应可将之转变成透明也合物以形成图型，此类材料可自气相沉积，因此在制造电子及光学设备上作为阻抗之使用上显示优异的远景。

2. 发明专利

TW232053B 由含矽材料來製造裝置的程序失效
简体标题：由含硅材料来制造设备的进程
公开(公告)号：TW232053B
公开(公告)日：1994-10-11
申请号：TW081108635
申请日：1992-10-29
申请人：美國電話電報公司
发明人：亞加.喬希 , 提摩西.威德曼
IPC分类号： G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/36 , G03F7/0754 , G03F7/167
摘要：一種含矽材料顯示對紫外線與深紫外線具有優秀的敏感度，以藉由可引導形成玻璃狀複合物之轉換的照射以形成圖型。這些物質可自汽相中沉澱且顯現極優秀的特質以形成圖型。這些物質可自汽相中沉澱且顯現極優秀的特質以Ｘ做為例如電子與光學裝置製造中的阻礙之用。
简体摘要：一种含硅材料显示对紫外线与深紫外线具有优秀的敏感度，以借由可引导形成玻璃状复合物之转换的照射以形成图型。这些物质可自汽相中沉淀且显现极优秀的特质以形成图型。这些物质可自汽相中沉淀且显现极优秀的特质以Ｘ做为例如电子与光学设备制造中的阻碍之用。

3. 发明专利

TW417039B 聚矽烷型感光性樹脂組合物及使用此組合物形成圖形之方法失效
简体标题：聚硅烷型感光性树脂组合物及使用此组合物形成图形之方法
公开(公告)号：TW417039B
公开(公告)日：2001-01-01
申请号：TW083109813
申请日：1994-10-22
申请人：日本塗料股份有限公司
发明人：上田英美 , 津島宏 , 住吉岩夫
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0754
摘要：本發明提出感光性樹脂組合物,其中改良了聚矽烷對光降解的敏感性且縮短光降解所需的時間。該感光性樹脂組合物包含:(a)具下示構造式的聚矽烷:CC[式中R1，R2，R3和R4可相同或相異,係選自:含取代基或不含取代基的脂烴基,脂環族烴基和芳烴基等之中者;且m和n皆為整數],
(b)光基產生劑;及
(c)氧化劑。
此外,也揭示用該感光性樹脂組合物形成圖形之方法。
简体摘要：本发明提出感光性树脂组合物,其中改良了聚硅烷对光降解的敏感性且缩短光降解所需的时间。该感光性树脂组合物包含:(a)具下示构造式的聚硅烷:CC[式中R1，R2，R3和R4可相同或相异,系选自:含取代基或不含取代基的脂烃基,脂环族烃基和芳烃基等之中者;且m和n皆为整数], (b)光基产生剂;及 (c)氧化剂。此外,也揭示用该感光性树脂组合物形成图形之方法。

4. 发明专利

TW408248B 感光樹脂組成物及使用該組成物來形成圖案之方法失效
简体标题：感光树脂组成物及使用该组成物来形成图案之方法
公开(公告)号：TW408248B
公开(公告)日：2000-10-11
申请号：TW085100827
申请日：1996-01-24
申请人：日本塗料股份有限公司
发明人：津島宏 , 三上滋 , 渡邊英美 , 今村毅 , 住吉岩夫
IPC分类号： G03F , G02B , G02F
CPC分类号： G03F7/0754 , G03F7/0757
摘要：揭露的是一感光樹脂組成物，包括：(a)一聚矽烷，其重均分子量不低於10000，它可溶於一有機溶劑；(b)一光自由基產生劑和一氧化劑之組合；(c)一矽油；和(d)一有機溶劑，並使用該組成物來形成圖案之方法。
因為與傳統的聚矽烷組成物比較，其光活性有極大改良，故縮短了曝光時間。因此，可能增加濾色片之生產。
简体摘要：揭露的是一感光树脂组成物，包括：(a)一聚硅烷，其重均分子量不低于10000，它可溶于一有机溶剂；(b)一光自由基产生剂和一氧化剂之组合；(c)一硅油；和(d)一有机溶剂，并使用该组成物来形成图案之方法。因为与传统的聚硅烷组成物比较，其光活性有极大改良，故缩短了曝光时间。因此，可能增加滤色片之生产。

5. 发明专利

TWI597574B 感光性樹脂組成物及其應用有权
简体标题：感光性树脂组成物及其应用
公开(公告)号：TWI597574B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW104127031
申请日：2015-08-19
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：蔡宇傑 , TSAI, YUJIE , 陳奕光 , CHEN, I KUANG
IPC分类号： G03F7/032 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/075 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/28 , G02F1/1333
CPC分类号： G03F7/0751 , G03F7/0754 , G03F7/162 , G03F7/2002 , G03F7/32 , G03F7/40

6. 发明专利

TW201708956A 感光性樹脂組成物及其應用审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物及其应用
公开(公告)号：TW201708956A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104127031
申请日：2015-08-19
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：蔡宇傑 , TSAI, YUJIE , 陳奕光 , CHEN, I KUANG
IPC分类号： G03F7/032 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/075 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/28 , G02F1/1333
CPC分类号： G03F7/0751 , G03F7/0754 , G03F7/162 , G03F7/2002 , G03F7/32 , G03F7/40
摘要：一種感光性樹脂組成物，包括鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基的化合物(B)、光起始劑(C)、溶劑(D)以及矽烷化合物(E)，其中矽烷化合物(E)包含如式(I)所示之矽烷化合物(E-1)：在式(I)中，A各自獨立為單鍵、伸烷基(alkylene)或伸芳基(arylene)，B各自獨立為具二苯基膦基的有機基團、氫原子、烷基、芳基或-OR，其中R為碳數為1至6之烷基或苯基，其中，至少一個B為具二苯基膦基的有機基團，至少一個B為-OR，且當B為-OR時，與該B連接的A為單鍵。本發明之感光性樹脂組成物所形成之薄膜具有良好的折射率及與鉬金屬密著性。
简体摘要：一种感光性树脂组成物，包括碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)以及硅烷化合物(E)，其中硅烷化合物(E)包含如式(I)所示之硅烷化合物(E-1)：在式(I)中，A各自独立为单键、伸烷基(alkylene)或伸芳基(arylene)，B各自独立为具二苯基膦基的有机基团、氢原子、烷基、芳基或-OR，其中R为碳数为1至6之烷基或苯基，其中，至少一个B为具二苯基膦基的有机基团，至少一个B为-OR，且当B为-OR时，与该B连接的A为单键。本发明之感光性树脂组成物所形成之薄膜具有良好的折射率及与钼金属密着性。

7. 发明专利

TWI471696B 用於濾色保護層之光阻樹脂組成物、使用其之濾色保護層以及包含其之影像感測器有权
简体标题：用于滤色保护层之光阻树脂组成物、使用其之滤色保护层以及包含其之影像传感器
公开(公告)号：TWI471696B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW099130299
申请日：2010-09-08
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：金宰賢 , KIM, JAE-HYUN , 崔世榮 , CHOI, SE-YOUNG , 金南光 , KIM, NAM-GWANG , 鄭宜濬 , JEONG, EUI-JUNE , 李昌珉 , LEE, CHANG-MIN
IPC分类号： G03F7/031 , C08G61/10
CPC分类号： G03F7/0007 , G03F7/032 , G03F7/0754 , G03F7/105

8. 发明专利

TW201128309A 用於濾色保護層之光阻樹脂組成物、使用其之濾色保護層以及包含其之影像感測器 PHOTOSRESIST RESIN COMPOSITION FOR COLOR FILTER PROTECTIVE LAYER, COLOR FILTER PROTECTIVE LAYER USING SAME, AND IMAGE SENSOR INCLUDING SAME 审中-公开
简体标题：用于滤色保护层之光阻树脂组成物、使用其之滤色保护层以及包含其之影像传感器 PHOTOSRESIST RESIN COMPOSITION FOR COLOR FILTER PROTECTIVE LAYER, COLOR FILTER PROTECTIVE LAYER USING SAME, AND IMAGE SENSOR INCLUDING SAME
公开(公告)号：TW201128309A
公开(公告)日：2011-08-16
申请号：TW099130299
申请日：2010-09-08
申请人：第一毛織股份有限公司
发明人：金宰賢 , 崔世榮 , 金南光 , 鄭宜濬 , 李昌珉
IPC分类号： G03F , C08G
CPC分类号： G03F7/0007 , G03F7/032 , G03F7/0754 , G03F7/105
摘要：本發明所揭露的是一用於濾色保護層之光敏樹脂組成物，該組成物包括一含括有由以下化學式1所表示之重覆單元之可交聯鹼溶性樹脂，一反應性不飽和化合物，一光聚合反應啟始劑以及一溶劑。
在化學式1至3中，R1至R6及A1至A3係如同在詳細說明中所述。
简体摘要：本发明所揭露的是一用于滤色保护层之光敏树脂组成物，该组成物包括一含括有由以下化学式1所表示之重复单元之可交联碱溶性树脂，一反应性不饱和化合物，一光聚合反应启始剂以及一溶剂。在化学式1至3中，R1至R6及A1至A3系如同在详细说明中所述。

9. 发明专利

TW354389B 形成薄膜圖案之方法失效
简体标题：形成薄膜图案之方法
公开(公告)号：TW354389B
公开(公告)日：1999-03-11
申请号：TW083109106
申请日：1994-10-01
申请人：日本塗料股份有限公司
发明人：橫山正明
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/265 , G03F7/0754
摘要：本發明提供一種用來形成一具有一絕佳圖案精確性的薄膜圖案。該方法包含下列步驟：(a)選擇性地將一設置於一基質上之由聚矽烷所形
成的聚矽烷層曝露於紫外光下，以形成一該薄
膜圖案之潛在影像，該聚矽烷係具有一如下式
之結構：
CC
其中R1、R2、R3及R4係獨立表示一選自於
由一取代或非取代脂族烴殘基、一脂環烴殘基
及一芳香烴殘基所構成之組群中的基團，而ｍ
及n係代表一整數；及(b) 浸漬該聚矽烷層，其中該薄膜圖案之該潛在影
像係於一金屬氧化物溶膠中形成，並接著乾
燥。
简体摘要：本发明提供一种用来形成一具有一绝佳图案精确性的薄膜图案。该方法包含下列步骤：(a)选择性地将一设置于一基质上之由聚硅烷所形成的聚硅烷层曝露于紫外光下，以形成一该薄膜图案之潜在影像，该聚硅烷系具有一如下式之结构： CC 其中R1、R2、R3及R4系独立表示一选自于由一取代或非取代脂族烃残基、一脂环烃残基及一芳香烃残基所构成之组群中的基团，而ｍ及n系代表一整数；及(b) 浸渍该聚硅烷层，其中该薄膜图案之该潜在影像系于一金属氧化物溶胶中形成，并接着干燥。

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