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    • 4. 发明专利
    • 顯微鏡系統 MICROSCOPE SYSTEM
    • 显微镜系统 MICROSCOPE SYSTEM
    • TW201229555A
    • 2012-07-16
    • TW100137820
    • 2011-10-19
    • 尼康股份有限公司
    • 大木裕史
    • G02B
    • G02B21/088G02B21/086G02B21/12G02B21/14G02B21/26G02B21/361G02B21/368G02F1/133528G02F1/137G02F2203/12
    • 本發明提供一種顯微鏡系統作為觀察樣本的光學顯微鏡系統,其包含:成像光學系統,其會形成來自樣本的透射光或反射光的影像;照射光源,其會將照射光照射至該樣本;照射光學系統,其具有第一空間光調變元件,用以在該成像光學系統之光瞳的共軛位置處改變該照射光的強度分佈,並且將從該照射光源處發出的光照射在該樣本上;影像感測器,其會偵測通過該成像光學系統的光;以及計算區段,其會以該第一空間光調變元件所形成的照射光的強度分佈以及由該影像感測器所偵測到的輸出資料為基礎來計算適合觀察該樣本的照射光強度分佈。
    • 本发明提供一种显微镜系统作为观察样本的光学显微镜系统,其包含:成像光学系统,其会形成来自样本的透射光或反射光的影像;照射光源,其会将照射光照射至该样本;照射光学系统,其具有第一空间光调制组件,用以在该成像光学系统之光瞳的共轭位置处改变该照射光的强度分布,并且将从该照射光源处发出的光照射在该样本上;影像传感器,其会侦测通过该成像光学系统的光;以及计算区段,其会以该第一空间光调制组件所形成的照射光的强度分布以及由该影像传感器所侦测到的输出数据为基础来计算适合观察该样本的照射光强度分布。