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    • 8. 发明专利
    • 氮化鎵螢光體之製造方法
    • 氮化镓萤光体之制造方法
    • TW498102B
    • 2002-08-11
    • TW088121932
    • 1999-12-15
    • 雙葉電子工業股份有限公司
    • 佐藤義孝須田順子片岡文昭土岐均野村裕司
    • C09K
    • C09K11/62C09K11/66Y10S438/935
    • 本發明提供一種藉由電子射線之激發而能產生實用上足夠亮度之氮化鎵(GaN)系螢光體之製造方法。
      詳言之,係於燒爐內部,將包含會與氫氣(H2)反應之元素物質和藉加熱而氣化之摻雜物質的化合物配置於上游側之加熱範圍之端部(b);而將作為螢光體母體之原料物質之鎵(Ga)化合物配置於下游側之加熱範圍的中央部(a)。使氨(NH3)氣體一邊流動,一邊藉由加熱器(2)將加熱管狀爐(1)內部加熱,使鎵化合物(4)之加熱溫度較高於摻雜物質之化合物(3)的溫度加熱。因氨氣,摻雜物質之化合物將被分解.分散,而於鎵化合物附近將形成包含硫(S)、氧(O)以及摻雜物質之大氣,結果可藉由S、O抑制因氫之還原作用,而難以發生GaN之分解。Ga化合物周圍將被氨氣及已成氣體狀之摻雜物質包覆而使GaN中擴散足夠量之摻雜物質。藉由本發明之製造方法可製得以較高溫度使摻雜物質充分摻雜而結晶性高的GaN螢光體。GaN螢光體具有較高之發光亮度。
    • 本发明提供一种借由电子射线之激发而能产生实用上足够亮度之氮化镓(GaN)系萤光体之制造方法。 详言之,系于烧炉内部,将包含会与氢气(H2)反应之元素物质和藉加热而气化之掺杂物质的化合物配置于上游侧之加热范围之端部(b);而将作为萤光体母体之原料物质之镓(Ga)化合物配置于下游侧之加热范围的中央部(a)。使氨(NH3)气体一边流动,一边借由加热器(2)将加热管状炉(1)内部加热,使镓化合物(4)之加热温度较高于掺杂物质之化合物(3)的温度加热。因氨气,掺杂物质之化合物将被分解.分散,而于镓化合物附近将形成包含硫(S)、氧(O)以及掺杂物质之大气,结果可借由S、O抑制因氢之还原作用,而难以发生GaN之分解。Ga化合物周围将被氨气及已成气体状之掺杂物质包覆而使GaN中扩散足够量之掺杂物质。借由本发明之制造方法可制得以较高温度使掺杂物质充分掺杂而结晶性高的GaN萤光体。GaN萤光体具有较高之发光亮度。
    • 9. 发明专利
    • 化合物及發光材料
    • 化合物及发光材料
    • TW201739753A
    • 2017-11-16
    • TW106105503
    • 2017-02-17
    • 住友化學股份有限公司SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED國立大學法人佐賀大學SAGA UNIVERSITY
    • 内藤翔太NAITO, SHOTA江良正直ERA, MASANAO
    • C07F7/24C09K11/06
    • C07C211/63C01G21/16C07F7/24C09K11/61C09K11/66
    • 本發明係提供一種有高發光強度之具有鈣鈦礦結構之化合物及含有前述化合物之發光材料。本發明係關於具有鈣鈦礦型結晶結構之化合物,其係以A、B、X、及M為成分,且將M之量除以M及B之合計量所得之莫耳比[M/(M+B)]之值為0.7以下。(A係在鈣鈦礦型結晶結構中,位於以B為中心之6面體之各頂點之1價陽離子。B係鉛離子。M係在鈣鈦礦型結晶結構中,取代一部分B之2價或3價金屬離子,且係選自在6配位之離子半徑為0.9Å以上1.5Å以下之金屬離子之陽離子。X係表示在鈣鈦礦型結晶結構中,位於以B為中心之8面體之各頂點之成分,且係選自由Cl-、Br-、F-、I-及SCN-所成之群組之1種以上之離子,並且至少含有氯化物離子或溴化物離子作為X)。
    • 本发明系提供一种有高发光强度之具有钙钛矿结构之化合物及含有前述化合物之发光材料。本发明系关于具有钙钛矿型结晶结构之化合物,其系以A、B、X、及M为成分,且将M之量除以M及B之合计量所得之莫耳比[M/(M+B)]之值为0.7以下。(A系在钙钛矿型结晶结构中,位于以B为中心之6面体之各顶点之1价阳离子。B系铅离子。M系在钙钛矿型结晶结构中,取代一部分B之2价或3价金属离子,且系选自在6配位之离子半径为0.9Å以上1.5Å以下之金属离子之阳离子。X系表示在钙钛矿型结晶结构中,位于以B为中心之8面体之各顶点之成分,且系选自由Cl-、Br-、F-、I-及SCN-所成之群组之1种以上之离子,并且至少含有氯化物离子或溴化物离子作为X)。