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1. 发明专利

TWI596121B 高分子化合物之製造方法，光阻組成物及光阻圖型之形成方法有权
简体标题：高分子化合物之制造方法，光阻组成物及光阻图型之形成方法
公开(公告)号：TWI596121B
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：TW101143604
申请日：2012-11-21
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：塩野大寿 , SHIONO, DAIJU , 平野智之 , HIRANO, TOMOYUKI , 太宰尚宏 , DAZAI, TAKAHIRO
IPC分类号： C08F220/38 , C08F220/58 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , C08F28/06 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041

2. 发明专利

TWI506362B 正型光阻材料及利用此之圖案形成方法有权
简体标题：正型光阻材料及利用此之图案形成方法
公开(公告)号：TWI506362B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104101888
申请日：2015-01-21
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 長谷川幸士 , HASEGAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/38 , C08F232/08 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F24/00 , C08F28/02 , C08F28/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/085 , G03F7/20 , G03F7/30

3. 发明专利

TWI555762B 化合物、樹脂及光阻組成物有权
简体标题：化合物、树脂及光阻组成物
公开(公告)号：TWI555762B
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW101136858
申请日：2012-10-05
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 坂本宏 , SAKAMOTO, HIROMU , 藤田真吾 , FUJITA, SHINGO
IPC分类号： C08F220/38 , C08F220/58 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C07D327/04 , C08F28/06 , G03F7/0397 , G03F7/2041

5. 发明专利

TW201533528A 正型光阻材料及利用此之圖案形成方法审中-公开
简体标题：正型光阻材料及利用此之图案形成方法
公开(公告)号：TW201533528A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW104101888
申请日：2015-01-21
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 長谷川幸士 , HASEGAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F220/38 , C08F232/08 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F24/00 , C08F28/02 , C08F28/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/085 , G03F7/20 , G03F7/30
摘要：一種正型光阻材料，係將包含以酸不穩定基取代羧基及/或苯酚性羥基之氫原子的重複單元、與通式(1)表示之具醬色呋喃酮(caramel furanone)酯之重複單元a的重量平均分子量為1,000~500,000之範圍的高分子化合物作為基礎樹脂; (R1 為氫原子或甲基，R2 為甲基或乙基，X為單鍵、酯基、醚基或具有內酯環之碳數1~12之連結基、伸苯基、或伸萘基。)。本發明之正型光阻材料抑制酸擴散之效果高，有高解像性且曝光後之圖案形狀與邊緣粗糙度為良好。
简体摘要：一种正型光阻材料，系将包含以酸不稳定基取代羧基及/或苯酚性羟基之氢原子的重复单元、与通式(1)表示之具酱色呋喃酮(caramel furanone)酯之重复单元a的重量平均分子量为1,000~500,000之范围的高分子化合物作为基础树脂; (R1 为氢原子或甲基，R2 为甲基或乙基，X为单键、酯基、醚基或具有内酯环之碳数1~12之链接基、伸苯基、或伸萘基。)。本发明之正型光阻材料抑制酸扩散之效果高，有高解像性且曝光后之图案形状与边缘粗糙度为良好。

6. 发明专利

TW201418802A 相位差板、圓偏光板以及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：相位差板、圆偏光板以及影像显示设备
公开(公告)号：TW201418802A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102138015
申请日：2013-10-22
申请人：日本傑恩股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：相松将 , AIMATSU, MASASHI , 大石仁志 , OOISHI, HITOSHI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/13363 , C09K19/34
CPC分类号： G02B5/3083 , C08F28/06 , C09K19/3838 , G02B1/04 , G02F1/13363 , G02F2001/133633 , G02F2001/133637
摘要：本發明係一種相位差板，其具有使含有逆波長分散聚合性液晶化合物及聚合性單體之組合物(A)硬化而成的光學異向性層，上述逆波長分散聚合性液晶化合物，於分子中具有主鏈液晶元以及鍵結於上述主鏈液晶元之側鏈液晶元，上述光學異向性層中，上述逆波長分散聚合性液晶化合物之上述主鏈液晶元及上述側鏈液晶元向不同方向配向，藉此，上述光學異向性層之雙折射Δn具有逆波長分散特性，以上述逆分散聚合性化合物置換上述組合物(A)中的上述聚合性單體之組合物(A0)，使其硬化而成之層的延遲，與上述光學異向性層的延遲滿足特定關係；以及包含該相位差板之圓偏光板及顯示裝置。
简体摘要：本发明系一种相位差板，其具有使含有逆波长分散聚合性液晶化合物及聚合性单体之组合物(A)硬化而成的光学异向性层，上述逆波长分散聚合性液晶化合物，于分子中具有主链液芯片以及键结于上述主链液芯片之侧链液芯片，上述光学异向性层中，上述逆波长分散聚合性液晶化合物之上述主链液芯片及上述侧链液芯片向不同方向配向，借此，上述光学异向性层之双折射Δn具有逆波长分散特性，以上述逆分散聚合性化合物置换上述组合物(A)中的上述聚合性单体之组合物(A0)，使其硬化而成之层的延迟，与上述光学异向性层的延迟满足特定关系；以及包含该相位差板之圆偏光板及显示设备。

7. 发明专利

TW201111334A 鹽及含有該鹽之光阻組成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201111334A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：TW099122800
申请日：2010-07-12
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：市川幸司 , 杉原昌子 , 山下裕子
IPC分类号： C07C , C07D , C08F , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/066 , C07C62/22 , C07C63/08 , C07C69/63 , C07C69/712 , C07C69/753 , C07C69/757 , C07C205/57 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/76 , C08F8/12 , C08F12/24 , C08F20/38 , C08F28/02 , C08F28/06 , C08F212/14 , C08F220/18 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/38 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , C08F12/22 , C08F2220/1883 , C08F2220/1891 , C08F220/20 , C08F2220/283 , C08F220/38
摘要：一種式(I-Pb)表示之鹽：
其中，X Pb 表示單鍵或-O-；R Pb 表示單鍵等；Y Pb 表示可聚合的基團；Z Pb 表示有機基團；X Pc 表示單鍵或C1-C4伸烷基；以及R Pc 表示可具有一個或多個取代基之C1-C10脂族烴基等。
简体摘要：一种式(I-Pb)表示之盐：其中，X Pb 表示单键或-O-；R Pb 表示单键等；Y Pb 表示可聚合的基团；Z Pb 表示有机基团；X Pc 表示单键或C1-C4伸烷基；以及R Pc 表示可具有一个或多个取代基之C1-C10脂族烃基等。

8. 发明专利

TW200948850A 低溫下不可逆之熱變色合成物 LOW TEMPERATURE IRREVERSIBLE THERMOCHROMIC COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：低温下不可逆之热变色合成物 LOW TEMPERATURE IRREVERSIBLE THERMOCHROMIC COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW200948850A
公开(公告)日：2009-12-01
申请号：TW098115210
申请日：2009-05-07
申请人：羅德島高等教育委員會
发明人：路奇特布萊特L , 尤勒威廉B
IPC分类号： C08G , C08L , C09K , C09D , B41M , G01K
CPC分类号： G01N25/00 , B41M5/284 , C08F28/06 , C08G61/126 , C09D11/50 , C09K9/02 , C09K2211/1425 , C09K2211/1458
摘要：在此提供一種新穎的聚塞吩組成物，係具有聚合烷氧基側鏈及其低溫不可逆活化(irreversible upon activation，以下簡稱IUA)熱變色組成物/合成物。該IUA熱變色組成物或合成物藉由加熱至一可逆熱變色轉變溫度(reversibie thermochromic transition temperature，以下簡稱RTTT)或高於該RTTT，以及冷卻至一不可逆熱變色轉變溫度(irreversible thermochromic transition temperature，以下簡稱IRTTT)至少2秒以被活化並顯示一IUA顏色。該活化的IUA熱變色組成物或合成物將維持它們的顏色直到該組成物或合成物被置於低於該IRTTT或低於該IRTTT再低約5℃之下。該活化的IUA熱變色組成物或合成物藉由暴露於一溫度為IRTTT或高於該IRTTT再低5℃下將被去活化並顯示一不同的顏色，除非該組成物或合成物再次被活化。該IUA熱變色組成物/合成物可被用以配製IUA熱變色指示器，其可監控儲存在低於一預定溫度下的物品並偵測該物品是否曾暴露於高於該預定溫度的一溫度下。
简体摘要：在此提供一种新颖的聚塞吩组成物，系具有聚合烷氧基侧链及其低温不可逆活化(irreversible upon activation，以下简称IUA)热变色组成物/合成物。该IUA热变色组成物或合成物借由加热至一可逆热变色转变温度(reversibie thermochromic transition temperature，以下简称RTTT)或高于该RTTT，以及冷却至一不可逆热变色转变温度(irreversible thermochromic transition temperature，以下简称IRTTT)至少2秒以被活化并显示一IUA颜色。该活化的IUA热变色组成物或合成物将维持它们的颜色直到该组成物或合成物被置于低于该IRTTT或低于该IRTTT再低约5℃之下。该活化的IUA热变色组成物或合成物借由暴露于一温度为IRTTT或高于该IRTTT再低5℃下将被去活化并显示一不同的颜色，除非该组成物或合成物再次被活化。该IUA热变色组成物/合成物可被用以配制IUA热变色指示器，其可监控存储在低于一预定温度下的物品并侦测该物品是否曾暴露于高于该预定温度的一温度下。

10. 发明专利

TWI537676B 樹脂及光阻組成物有权
简体标题：树脂及光阻组成物
公开(公告)号：TWI537676B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW100140499
申请日：2011-11-07
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 嶋田雅彥 , SHIMADA, MASAHIKO , 西村崇 , NISHIMURA, TAKASHI , 釜淵明 , KAMABUCHI, AKIRA , 金亨柱 , KIM, HYUNGJOO , 落合光良 , OCHIAI, MITSUYOSHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/18 , C08F20/28 , C08F20/32 , C08F20/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C07D327/04 , C08F20/58 , C08F28/06 , G03F7/2041

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