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    • 9. 发明专利
    • 光阻劑顯像廢液之再生處理方法及裝置
    • 光阻剂显像废液之再生处理方法及设备
    • TW464637B
    • 2001-11-21
    • TW087121874
    • 1998-12-30
    • 奧璐佳瑙股份有限公司
    • 菅原廣逸見廣實
    • C02F
    • B01D61/025B01D15/361B01D61/02B01D61/022B01D61/027B01D61/04B01D61/422B01D61/58B01D2311/04B01J39/04B01J41/04C02F1/04C02F1/26C02F1/42C02F1/441C02F1/442C02F1/469C02F9/00G03F7/3092G03F7/322B01D2311/2623B01D2311/2626
    • 本發明揭示主要含有光阻劑及四烷基銨(TAA)離子之光阻劑顯像廢液之再生處理之方法包括至少一簡單之膜分離步驟,其中使用毫微濾膜(NF膜)來處理光阻劑顯像廢液或由光阻劑顯像廢液產生之處理溶液以得到主要含有如光阻劑等雜質之濃縮物(NF濃縮物)及主要含有TAA離子之高純度滲透液(NF滲透液)。最好使NF濃縮物及/或NF滲透液(尤其NF滲透液)經過藉電滲析或電解之濃縮及純化步驟之處理,及/或經過藉離子交換處理之純化步驟之處理例如使用H型及TAA型中之一型之陰離子交換樹脂及/或陽離子交換樹脂者。在使NF濃縮物通過電滲析單元之脫鹽槽以進一步回收殘留於NF濃縮物內之TAA離子之同時,可以使NF滲透液以有利方式通過電滲析單元之濃縮槽,藉此可減少以脫鹽廢液排出之廢水之量。NF膜分離步驟最好以多段方式實施之。
    • 本发明揭示主要含有光阻剂及四烷基铵(TAA)离子之光阻剂显像废液之再生处理之方法包括至少一简单之膜分离步骤,其中使用毫微滤膜(NF膜)来处理光阻剂显像废液或由光阻剂显像废液产生之处理溶液以得到主要含有如光阻剂等杂质之浓缩物(NF浓缩物)及主要含有TAA离子之高纯度渗透液(NF渗透液)。最好使NF浓缩物及/或NF渗透液(尤其NF渗透液)经过藉电渗析或电解之浓缩及纯化步骤之处理,及/或经过藉离子交换处理之纯化步骤之处理例如使用H型及TAA型中之一型之阴离子交换树脂及/或阳离子交换树脂者。在使NF浓缩物通过电渗析单元之脱盐槽以进一步回收残留于NF浓缩物内之TAA离子之同时,可以使NF渗透液以有利方式通过电渗析单元之浓缩槽,借此可减少以脱盐废液排出之废水之量。NF膜分离步骤最好以多段方式实施之。