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1. 发明专利

TW201334657A 用於平版印刷之印刷板及其製備方法审中-公开
简体标题：用于平版印刷之印刷板及其制备方法
公开(公告)号：TW201334657A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101135641
申请日：2012-09-27
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD
发明人：黃智永 , HWANG, JI YOUNG , 具範謨 , KOO, BEOM MO
IPC分类号： H05K3/12
CPC分类号： B41N1/00 , B41C1/02 , B41M2205/14 , B41N1/006 , B41N3/03 , Y10T428/24802
摘要：本發明係關於一種用於平版印刷之印刷板及其製備方法，且根據本發明之用於平版印刷之印刷板，包括：一溝槽圖案，其中該溝槽圖案之至少一部份區域之深度與一剩餘區域之深度不同。本發明更包括一種二次蝕刻方法，以於製備一種用於平版印刷之印刷板時，控制實施一習知寬線寬時所表現出的問題：底部觸控(bottom touch)現象，進而製備該具有不同線寬及蝕刻深度之用於平版印刷之印刷板。
简体摘要：本发明系关于一种用于平版印刷之印刷板及其制备方法，且根据本发明之用于平版印刷之印刷板，包括：一沟槽图案，其中该沟槽图案之至少一部份区域之深度与一剩余区域之深度不同。本发明更包括一种二次蚀刻方法，以于制备一种用于平版印刷之印刷板时，控制实施一习知宽线宽时所表现出的问题：底部触摸(bottom touch)现象，进而制备该具有不同线宽及蚀刻深度之用于平版印刷之印刷板。

2. 发明专利

TWI411536B 可再成像印刷件有权
公开(公告)号：TWI411536B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW095136147
申请日：2006-09-29
申请人：全錄股份有限公司 , XEROX CORPORATION
发明人：加布里爾依夫台姆 , IFTIME, GABRIEL , 保羅F. 史密斯 , SMITH, PAUL F. , 彼得M. 卡茲梅爾 , KAZMAIER, PETER M. , 哈迪K. 馬哈巴狄 , MAHABADI, HADI K.
IPC分类号： B32B27/34 , B32B27/40 , G03F7/004 , G02F1/13
CPC分类号： B41N1/00 , B41M1/02

3. 发明专利

TW201334637A ＵＶ硬化之最適化审中-公开
简体标题：ＵＶ硬化之最适化
公开(公告)号：TW201334637A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101139441
申请日：2012-10-25
申请人：優尼畫素顯示器公司 , UNIPIXEL DISPLAYS, INC.
发明人：拉馬克里斯南愛德S , RAMAKRISHNAN, ED S.
IPC分类号： H05K1/00
CPC分类号： G03F7/2022 , B41M2205/14 , B41N1/00 , B41N1/06 , G03F7/20 , G03F7/2002 , G03F7/2014
摘要：一種製作柔版(flexoplate)之系統及方法，該柔版適用於印刷高解析度圖案。該方法包括控制該柔版之硬化條件，從而控制該柔版之性質，諸如底層厚度、圖案橫截面幾何形狀、印刷製程期間印刷特徵之可重複性及印刷製程期間該柔版之耐久性。
简体摘要：一种制作柔版(flexoplate)之系统及方法，该柔版适用于印刷高分辨率图案。该方法包括控制该柔版之硬化条件，从而控制该柔版之性质，诸如底层厚度、图案横截面几何形状、印刷制程期间印刷特征之可重复性及印刷制程期间该柔版之耐久性。

4. 发明专利

TWI522024B 用於平版印刷之印刷板及其製備方法有权
简体标题：用于平版印刷之印刷板及其制备方法
公开(公告)号：TWI522024B
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：TW101135641
申请日：2012-09-27
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：黃智永 , HWANG, JI YOUNG , 具範謨 , KOO, BEOM MO
IPC分类号： H05K3/12
CPC分类号： B41N1/00 , B41C1/02 , B41M2205/14 , B41N1/006 , B41N3/03 , Y10T428/24802

5. 发明专利

TW201332793A 模板及其製造方法审中-公开
简体标题：模板及其制造方法
公开(公告)号：TW201332793A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101132049
申请日：2012-09-03
申请人： LG化學公司 , LG CHEM, LTD
发明人：黃智泳 , HWANG, JI YOUNG , 朴濟燮 , PARK, JESEOB , 黃仁晳 , HWANG, IN-SEOK , 李承憲 , LEE, SEUNG HEON
IPC分类号： B41N1/24
CPC分类号： B41N1/00 , B41N1/06 , B41N1/12 , Y10T428/24802
摘要：本發明係有關於一種模板及其製造方法，且根據本發明，該模板包含含有一凹槽圖案之一模板，其中該凹槽圖案包含由彼此不相交的線狀圖案所組成的一區域，且由線狀圖案所組成的該區域係在該區域中包含兩個或以上的線狀圖案的線之方形區域，且該區域包含一區域，在該區域中線狀圖案的線寬度(W)及深度(D)、以及在方形區域中不包含線狀圖案的區域與用以形成圖案的光罩圖案之孔徑線寬度(W0)之比率(R)相對於線狀圖案而言，滿足特定的關係式。根據本發明之該模板可預防油墨的底部接觸現象傳送至該模板上。
简体摘要：本发明系有关于一种模板及其制造方法，且根据本发明，该模板包含含有一凹槽图案之一模板，其中该凹槽图案包含由彼此不相交的线状图案所组成的一区域，且由线状图案所组成的该区域系在该区域中包含两个或以上的线状图案的线之方形区域，且该区域包含一区域，在该区域中线状图案的线宽度(W)及深度(D)、以及在方形区域中不包含线状图案的区域与用以形成图案的光罩图案之孔径线宽度(W0)之比率(R)相对于线状图案而言，满足特定的关系式。根据本发明之该模板可预防油墨的底部接触现象发送至该模板上。

6. 发明专利

TWI520857B 模板及其製造方法有权
简体标题：模板及其制造方法
公开(公告)号：TWI520857B
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：TW101132049
申请日：2012-09-03
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：黃智泳 , HWANG, JI YOUNG , 朴濟燮 , PARK, JESEOB , 黃仁晳 , HWANG, IN-SEOK , 李承憲 , LEE, SEUNG HEON
IPC分类号： B41N1/24
CPC分类号： B41N1/00 , B41N1/06 , B41N1/12 , Y10T428/24802

7. 实用新型

TWM487207U 具應力分散結構的印刷鋼版失效
简体标题：具应力分散结构的印刷钢版
公开(公告)号：TWM487207U
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW103210170
申请日：2014-06-10
申请人：正中科技股份有限公司
发明人：林宜陽
IPC分类号： B41F15/34
CPC分类号： B41N1/00 , B41N1/248

8. 发明专利

TW200726646A 可再作圖像的印刷件 REIMAGEABLE PRINTING MEMBER 审中-公开
简体标题：可再作图像的印刷件 REIMAGEABLE PRINTING MEMBER
公开(公告)号：TW200726646A
公开(公告)日：2007-07-16
申请号：TW095136147
申请日：2006-09-29
申请人：全錄股份有限公司 XEROX CORPORATION
发明人：加布里爾依夫台姆 IFTIME, GABRIEL , 保羅F. 史密斯 SMITH, PAUL F. , 彼得M. 卡茲梅爾 KAZMAIER, PETER M. , 哈迪K. 馬哈巴狄 MAHABADI, HADI K.
IPC分类号： B32B , G03F , G02F
CPC分类号： B41N1/00 , B41M1/02
摘要：一種可再作圖像的印刷件例如供使用於軟版印刷術中者(flexography)包括具有複數的孔之一層,其中該等孔包括尺寸改變材料及該尺寸改變材料上之印刷材料在其中。因此,該等孔藏置垂直可膨脹之單元,其頂部位能自孔的開口突出在該層的頂面上。可將每一個孔個別定址來提供啓動尺寸改變材料中之尺寸改變之激勵。以此種方式,可使所選擇之單元以將圖像之相對部位印刷在使與該印刷構件接觸之圖像接受基板上。
简体摘要：一种可再作图像的印刷件例如供使用于软版印刷术中者(flexography)包括具有复数的孔之一层,其中该等孔包括尺寸改变材料及该尺寸改变材料上之印刷材料在其中。因此,该等孔藏置垂直可膨胀之单元,其顶部位能自孔的开口突出在该层的顶面上。可将每一个孔个别寻址来提供启动尺寸改变材料中之尺寸改变之激励。以此种方式,可使所选择之单元以将图像之相对部位印刷在使与该印刷构件接触之图像接受基板上。

9. 发明专利

TW496830B 具降低功率要素之微影印刷構件的成像方法失效
简体标题：具降低功率要素之微复印刷构件的成像方法
公开(公告)号：TW496830B
公开(公告)日：2002-08-01
申请号：TW089100642
申请日：2000-01-17
申请人：普瑞斯泰克股份有限公司
发明人：肯尼斯R.卡西迪 , 湯瑪士E.劉易斯 , 理查J.戴安莫透
IPC分类号： B41M
CPC分类号： B41C1/1033 , B41N1/00 , B41N1/14
摘要：以具降低螢光量要素使微影印刷構件成像的作用是利用一種印刷構件完成的，此印刷構件含有：一固態基板、覆蓋於基板上的氣體-產生及輻射-吸收層、以及一其微影親和性與基板呈反差的最頂層。於作業中，令輻射-吸收層在雷射光下的曝光作用會導致這個層變得十分熱。而這麼做會使氣體-產生層活動而導致氣體分解產物的演化及膨脹。這些氣體會使覆蓋其上的最頂層伸展而在曝光區域上產生一氣池，而破壞了成像層。若這個方法具有充分的爆發力，則氣泡頸部會擴張到超越入射雷射光束的直徑而自基板上將曝光區域外側之最頂層及其底下的成像層撕除。吾人能在一成像後的清潔程序期間很容易地去除整個受到影響的面積，而得到一比入射光束直徑更大的影像光點。
简体摘要：以具降低萤光量要素使微复印刷构件成像的作用是利用一种印刷构件完成的，此印刷构件含有：一固态基板、覆盖于基板上的气体-产生及辐射-吸收层、以及一其微影亲和性与基板呈反差的最顶层。于作业中，令辐射-吸收层在激光光下的曝光作用会导致这个层变得十分热。而这么做会使气体-产生层活动而导致气体分解产物的演进及膨胀。这些气体会使覆盖其上的最顶层伸展而在曝光区域上产生一气池，而破坏了成像层。若这个方法具有充分的爆发力，则气泡颈部会扩张到超越入射激光光束的直径而自基板上将曝光区域外侧之最顶层及其底下的成像层撕除。吾人能在一成像后的清洁进程期间很容易地去除整个受到影响的面积，而得到一比入射光束直径更大的影像光点。

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