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    • 1. 发明专利
    • 珠擊處理裝置
    • 珠击处理设备
    • TW201742707A
    • 2017-12-16
    • TW106112762
    • 2017-04-17
    • 新東工業股份有限公司SINTOKOGIO, LTD.
    • 梅岡雅人UMEOKA, MASATO山本翔一YAMAMOTO, SHOICHI
    • B24C3/02B24B31/023
    • B24C3/30B24C7/00B24C9/00
    • 本發明提供一種珠擊處理裝置,該裝置不會使投射效率降低且可以抑制投射材料往外部之飛散。 本發明的珠擊處理裝置係具備:箱櫃;收納於箱櫃內之滾筒,該滾筒具備能投入工件的開口,且能選擇性地配置於可供工件投入的工件投入位置、將工件由投射材料研掃的工件處理位置、及可供工件排出的工件排出位置;投射機,用以將投射材料投射於該滾筒內;以及蓋部,用以開閉滾筒之開口並且形成有投射材料之投射口,前述投射機即安裝在蓋部且從投射口投射投射材料;蓋部係設成當開啟滾筒之開口時使投射口配置於滾筒的開口之上方。
    • 本发明提供一种珠击处理设备,该设备不会使投射效率降低且可以抑制投射材料往外部之飞散。 本发明的珠击处理设备系具备:箱柜;收纳于箱柜内之滚筒,该滚筒具备能投入工件的开口,且能选择性地配置于可供工件投入的工件投入位置、将工件由投射材料研扫的工件处理位置、及可供工件排出的工件排出位置;投射机,用以将投射材料投射于该滚筒内;以及盖部,用以开闭滚筒之开口并且形成有投射材料之投射口,前述投射机即安装在盖部且从投射口投射投射材料;盖部系设成当打开滚筒之开口时使投射口配置于滚筒的开口之上方。
    • 3. 发明专利
    • 銹皮去除方法
    • 锈皮去除方法
    • TW201702003A
    • 2017-01-16
    • TW105111538
    • 2016-04-13
    • 新東工業股份有限公司SINTOKOGIO, LTD.
    • 後藤賢GOTO, SUGURU田沼直也TANUMA, NAOYA
    • B24C1/00B24C3/02B24C9/00
    • B21B45/06B24C1/00B24C7/00B24C11/00
    • 本發明提供一種銹皮去除方法,其係利用噴砂裝置將投射材料予以投射,而進行包含鐵系材料之被加工物之銹皮的去除者;該方法包含:投射材料裝填步驟,其將維氏硬度為HV300~600之範圍內之未使用之投射材料裝填至噴砂裝置;粒徑分佈調整步驟,其藉由噴砂裝置之作業而將該噴砂裝置內之投射材料之粒徑分佈以成為特定之粒徑分佈之方式予以調整;及銹皮去除步驟,其將粒徑分佈調整步驟後之投射材料投射至被加工物之表面;且在將粒徑分佈調整步驟後之投射材料之粒徑分佈區分為粒徑超過300μm之第1粒體、粒徑為300μm以下且超過75μm之第2粒體、及粒徑為75μm以下之第3粒體時,滿足(第2粒體之比率)≧(第1粒體之比率)≧(第3粒體之比率)。
    • 本发明提供一种锈皮去除方法,其系利用喷砂设备将投射材料予以投射,而进行包含铁系材料之被加工物之锈皮的去除者;该方法包含:投射材料装填步骤,其将维氏硬度为HV300~600之范围内之未使用之投射材料装填至喷砂设备;粒径分布调整步骤,其借由喷砂设备之作业而将该喷砂设备内之投射材料之粒径分布以成为特定之粒径分布之方式予以调整;及锈皮去除步骤,其将粒径分布调整步骤后之投射材料投射至被加工物之表面;且在将粒径分布调整步骤后之投射材料之粒径分布区分为粒径超过300μm之第1粒体、粒径为300μm以下且超过75μm之第2粒体、及粒径为75μm以下之第3粒体时,满足(第2粒体之比率)≧(第1粒体之比率)≧(第3粒体之比率)。
    • 8. 发明专利
    • 研磨材料定量供給裝置 APPARATUS FOR SUPPLYING CONSTANT AMOUNT OF ABRASIVE
    • 研磨材料定量供给设备 APPARATUS FOR SUPPLYING CONSTANT AMOUNT OF ABRASIVE
    • TW201201960A
    • 2012-01-16
    • TW100118990
    • 2011-05-31
    • 不二製作所股份有限公司
    • 間瀨惠二鹿野勝弘
    • B24C
    • B24C7/00B24C1/003B24C7/0053B24C7/0092
    • 提供一種研磨材料定量供給裝置,該研磨材料定量供給裝置可甚至以一定量供給乾冰顆粒、冰粒或其類似者作為研磨材料。為了取出含於一旋轉圓盤20之量測孔21中的研磨材料,一用於將壓縮氣體吹入至該等量測孔21中之每一者的研磨材料混合區段40具有一圓筒41',該圓筒41'在形成該等量測孔之位置處朝向該旋轉圓盤之一表面開放。一活塞43'插入至該圓筒中。一流體通道45經由該旋轉圓盤20之中介而朝向該圓筒41'開放,且該流體通道45之開放邊緣45a與該旋轉圓盤20之另一表面滑動接觸。該圓筒41'及該流體通道45中之一者經由一壓縮氣體引入路徑52之中介而與一壓縮氣體供給源連通。該圓筒41'及該流體通道45中之另一者與該研磨材料輸送路徑51連通。該活塞43'具有一通孔43a,該通孔43a以和形成該等量測孔之位置重合的方式穿透該活塞43'。
    • 提供一种研磨材料定量供给设备,该研磨材料定量供给设备可甚至以一定量供给干冰颗粒、冰粒或其类似者作为研磨材料。为了取出含于一旋转圆盘20之量测孔21中的研磨材料,一用于将压缩气体吹入至该等量测孔21中之每一者的研磨材料混合区段40具有一圆筒41',该圆筒41'在形成该等量测孔之位置处朝向该旋转圆盘之一表面开放。一活塞43'插入至该圆筒中。一流体信道45经由该旋转圆盘20之中介而朝向该圆筒41'开放,且该流体信道45之开放边缘45a与该旋转圆盘20之另一表面滑动接触。该圆筒41'及该流体信道45中之一者经由一压缩气体引入路径52之中介而与一压缩气体供给源连通。该圆筒41'及该流体信道45中之另一者与该研磨材料输送路径51连通。该活塞43'具有一通孔43a,该通孔43a以和形成该等量测孔之位置重合的方式穿透该活塞43'。
    • 9. 发明专利
    • 精密清潔用噴射式噴霧系統及方法
    • 精密清洁用喷射式喷雾系统及方法
    • TW203565B
    • 1993-04-11
    • TW081108100
    • 1992-10-09
    • 休斯飛機公司
    • 朗諾彼得生偉克隆須密
    • B08B
    • B24C7/00B24C1/003B24C3/322H05K3/26
    • 一種從一底質表面,譬如精細之表面或精密之零件,精密清潔污染物之系統及方法,其使用二氧化碳之雪流或其他清潔氣體流。該系統包括一封閉或密封之清潔容器,其中設有至少一噴射式噴霧裝置,供以將一清潔用雪流導引至要被清潔之表面。於清潔期間,扣墳要被清潔底質之清潔容器被保持於一真空,或者,於周遭壓力下填滿一清潔乾燥之氣體。被移出污染物與耗損之雪從清潔區中被移除,並被處置或再循環。該清潔之達成為藉由清潔用雪之脈動施加,結合該表面之間歇或連續加熱,使該表面於清潔用雪之施加時或施加前在一提高之溫度下。於系統內使用之噴射式噴霧裝置經導向,使清潔用雪流以5至45度之掠角接觸該平表面。當非平面之零件被清潔時,噴射式噴霧裝置經調整以提供約45至90度之角度。零件清潔度之監視係於清潔程序中完成,其藉由一光散射方法或藉由一排出氣體之粒子監視器及殘留氣體分析或排出氣體之其他分析。該系統特別有用於將污染物從精細之表面或精密之零件上移除,後者被使用於精密光學及電子裝置中。
    • 一种从一底质表面,譬如精细之表面或精密之零件,精密清洁污染物之系统及方法,其使用二氧化碳之雪流或其他清洁气体流。该系统包括一封闭或密封之清洁容器,其中设有至少一喷射式喷雾设备,供以将一清洁用雪流导引至要被清洁之表面。于清洁期间,扣坟要被清洁底质之清洁容器被保持于一真空,或者,于周遭压力下填满一清洁干燥之气体。被移出污染物与耗损之雪从清洁区中被移除,并被处置或再循环。该清洁之达成为借由清洁用雪之脉动施加,结合该表面之间歇或连续加热,使该表面于清洁用雪之施加时或施加前在一提高之温度下。于系统内使用之喷射式喷雾设备经导向,使清洁用雪流以5至45度之掠角接触该平表面。当非平面之零件被清洁时,喷射式喷雾设备经调整以提供约45至90度之角度。零件清洁度之监视系于清洁进程中完成,其借由一光散射方法或借由一排出气体之粒子监视器及残留气体分析或排出气体之其他分析。该系统特别有用于将污染物从精细之表面或精密之零件上移除,后者被使用于精密光学及电子设备中。