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1. 发明专利

TWI583815B 應用於真空處理裝置之基板展開裝置、具基板展開裝置之真空處理裝置及操作其之方法有权
简体标题：应用于真空处理设备之基板展开设备、具基板展开设备之真空处理设备及操作其之方法
公开(公告)号：TWI583815B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW103142730
申请日：2014-12-09
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：瑞絲佛羅里安 , RIES, FLORIAN , 索爾安提瑞爾斯 , SAUER, ANDREAS , 海恩史德分 , HEIN, STEFAN
IPC分类号： C23C14/56 , B65H18/02
CPC分类号： B05C9/08 , B05C1/0826 , B05C1/12 , B05C9/14 , B05C13/00 , B05C15/00 , B05D3/12 , B65G23/34 , C23C14/50 , C23C14/562 , C23C16/0209 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/481 , C23C16/545 , G11B5/85 , H01J37/3277

2. 发明专利

TW201533257A 應用於真空處理裝置之基板塗佈裝置,具基板塗佈裝置之真空處理裝置及其操作方法审中-公开
简体标题：应用于真空处理设备之基板涂布设备,具基板涂布设备之真空处理设备及其操作方法
公开(公告)号：TW201533257A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103142730
申请日：2014-12-09
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：瑞絲佛羅里安 , RIES, FLORIAN , 索爾安提瑞爾斯 , SAUER, ANDREAS , 海恩史德分 , HEIN, STEFAN
IPC分类号： C23C14/56 , B65H18/02
CPC分类号： B05C9/08 , B05C1/0826 , B05C1/12 , B05C9/14 , B05C13/00 , B05C15/00 , B05D3/12 , B65G23/34 , C23C14/50 , C23C14/562 , C23C16/0209 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/481 , C23C16/545 , G11B5/85 , H01J37/3277
摘要：一種用以處理可撓性基板的處理裝置，特別是一種用以處理可撓性基板的真空處理裝置。處理裝置包括一真空腔、一處理鼓及一加熱裝置。處理鼓位於真空腔內，其中處理鼓係繞一延伸於一第一方向之軸旋轉而配置。加熱裝置鄰近於處理鼓，其中加熱裝置係用以沿第一方向展開基板或用以沿第一方向保持基板之展開而配置，其中加熱裝置沿一與一基板傳輸方向平行之方向具有至少20毫米的一尺寸。
简体摘要：一种用以处理可挠性基板的处理设备，特别是一种用以处理可挠性基板的真空处理设备。处理设备包括一真空腔、一处理鼓及一加热设备。处理鼓位于真空腔内，其中处理鼓系绕一延伸于一第一方向之轴旋转而配置。加热设备邻近于处理鼓，其中加热设备系用以沿第一方向展开基板或用以沿第一方向保持基板之展开而配置，其中加热设备沿一与一基板传输方向平行之方向具有至少20毫米的一尺寸。

3. 发明专利

TWI372660B 具滾動轉子之連續塗敷方法及其裝置 A METHOD AND APPARATUS FOR CONTINUOUS COATING WITH A ROTATIONAL EXTRUSION DIE IN WHICH COATING MATERIALS FLOW IN A RADIAL DIRECTION 有权
简体标题：具滚动转子之连续涂敷方法及其设备 A METHOD AND APPARATUS FOR CONTINUOUS COATING WITH A ROTATIONAL EXTRUSION DIE IN WHICH COATING MATERIALS FLOW IN A RADIAL DIRECTION
公开(公告)号：TWI372660B
公开(公告)日：2012-09-21
申请号：TW098115082
申请日：2009-05-07
申请人：行政院原子能委員會核能研究所
发明人：張慧良 , 張榕修
IPC分类号： B05C
CPC分类号： B05C1/10 , B05C1/0804 , B05C1/12 , B05C11/1042 , B29C47/0021 , B29C47/025 , B29C47/122 , B29C2791/006 , B29C2947/92704 , B29C2947/92895 , H01L51/0002 , H01L51/56
摘要：一種具滾動轉子之連續塗敷方法及其裝置，依據本塗敷方法及其裝置行使塗敷作業時，其特徵係在於塗敷料在滾動轉子內之流動方向係由中心向四周呈徑向方向流動，並使被塗敷物之平面移動速度係相當於該滾動轉子外周塗敷面之切線速度，使該塗敷料沿著該滾動轉子之半徑方向流出該滾動轉子表面而垂直地進到該被塗敷物之表面，使該塗敷料之組成單元在該被塗敷物上主要呈現為垂直方向性排列之塗敷功效者。藉此，可確保塗敷作業獲得較佳之垂直方向性排列，並據此垂直方向排列之塗敷方法，可適用於需求垂直方向排列之有機電子元件、有機發光二極體或有機光伏電池等元件，亦或特別適用於P型與N型有機半導體一併混合塗敷之塊材異質接面之塗敷製程方面。
简体摘要：一种具滚动转子之连续涂敷方法及其设备，依据本涂敷方法及其设备行使涂敷作业时，其特征系在于涂敷料在滚动转子内之流动方向系由中心向四周呈径向方向流动，并使被涂敷物之平面移动速度系相当于该滚动转子外周涂敷面之切线速度，使该涂敷料沿着该滚动转子之半径方向流出该滚动转子表面而垂直地进到该被涂敷物之表面，使该涂敷料之组成单元在该被涂敷物上主要呈现为垂直方向性排列之涂敷功效者。借此，可确保涂敷作业获得较佳之垂直方向性排列，并据此垂直方向排列之涂敷方法，可适用于需求垂直方向排列之有机电子组件、有机发光二极管或有机光伏电池等组件，亦或特别适用于P型与N型有机半导体一并混合涂敷之块材异质接面之涂敷制程方面。

4. 发明专利

TWI510663B 基材搬運滾子有权
简体标题：基材搬运滚子
公开(公告)号：TWI510663B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW102145358
申请日：2013-12-10
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：大庭尚樹 , OHBA, NAOKI , 玉垣浩 , TAMAGAKI, HIROSHI
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： B05C1/003 , B05C1/10 , B05C1/12 , C23C14/541 , C23C14/562 , C23C16/46 , C23C16/545 , D21F5/022 , H05B3/0095

5. 发明专利

TW201016326A 具滾動轉子之連續塗敷方法及其裝置 A METHOD AND APPARATUS FOR CONTINUOUS COATING WITH A ROTATIONAL EXTRUSION DIE IN WHICH COATING MATERIALS FLOW IN A RADIAL DIRECTION 审中-公开
简体标题：具滚动转子之连续涂敷方法及其设备 A METHOD AND APPARATUS FOR CONTINUOUS COATING WITH A ROTATIONAL EXTRUSION DIE IN WHICH COATING MATERIALS FLOW IN A RADIAL DIRECTION
公开(公告)号：TW201016326A
公开(公告)日：2010-05-01
申请号：TW098115082
申请日：2009-05-07
申请人：行政院原子能委員會核能研究所
发明人：張慧良 , 張榕修
IPC分类号： B05C
CPC分类号： B05C1/10 , B05C1/0804 , B05C1/12 , B05C11/1042 , B29C47/0021 , B29C47/025 , B29C47/122 , B29C2791/006 , B29C2947/92704 , B29C2947/92895 , H01L51/0002 , H01L51/56
摘要：一種具滾動轉子之連續塗敷方法及其裝置，依據本塗敷方法及其裝置行使塗敷作業時，其特徵係在於塗敷料在滾動轉子內之流動方向係由中心向四周呈徑向方向流動，並使被塗敷物之平面移動速度係相當於該滾動轉子外周塗敷面之切線速度，使該塗敷料沿著該滾動轉子之半徑方向流出該滾動轉子表面而垂直地進到該被塗敷物之表面，使該塗敷料之組成單元在該被塗敷物上主要呈現為垂直方向性排列之塗敷功效者。藉此，可確保塗敷作業獲得較佳之垂直方向性排列，並據此垂直方向排列之塗敷方法，可適用於需求垂直方向排列之有機電子元件、有機發光二極體或有機光伏電池等元件，亦或特別適用於P型與N型有機半導體一併混合塗敷之塊材異質接面之塗敷製程方面。
简体摘要：一种具滚动转子之连续涂敷方法及其设备，依据本涂敷方法及其设备行使涂敷作业时，其特征系在于涂敷料在滚动转子内之流动方向系由中心向四周呈径向方向流动，并使被涂敷物之平面移动速度系相当于该滚动转子外周涂敷面之切线速度，使该涂敷料沿着该滚动转子之半径方向流出该滚动转子表面而垂直地进到该被涂敷物之表面，使该涂敷料之组成单元在该被涂敷物上主要呈现为垂直方向性排列之涂敷功效者。借此，可确保涂敷作业获得较佳之垂直方向性排列，并据此垂直方向排列之涂敷方法，可适用于需求垂直方向排列之有机电子组件、有机发光二极管或有机光伏电池等组件，亦或特别适用于P型与N型有机半导体一并混合涂敷之块材异质接面之涂敷制程方面。

6. 发明专利

TW201429839A 基材搬運滾子审中-公开
简体标题：基材搬运滚子
公开(公告)号：TW201429839A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102145358
申请日：2013-12-10
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：大庭尚樹 , OHBA, NAOKI , 玉垣浩 , TAMAGAKI, HIROSHI
IPC分类号： B65G39/10
CPC分类号： B05C1/003 , B05C1/10 , B05C1/12 , C23C14/541 , C23C14/562 , C23C16/46 , C23C16/545 , D21F5/022 , H05B3/0095
摘要：可提供一種基材搬運滾子(2a)，基材的搬運品質不會下降，對於基材可以確保寬度廣的溫度控制域。基材搬運滾子(2a)，是設於在薄膜基材(W)的表面施以成膜處理的成膜裝置(1)中，藉由繞中心軸周圍旋轉將薄膜基材(W)搬運者，具備：中央部區段(13a)，是位於沿著前述中心軸的軸方向上的中央部且具有第1外周面；及端部區段(12a、12b)，是具有位在中央部區段(13a)的軸方向上的兩外側且與基材(W)接觸的第2外周面，第2外周面具有比第1外周面更大的徑；及中央部昇降溫媒體機構，是使中央部區段(13a)的溫度變化；及兩端部昇降溫機構，是使前述各端部區段(12a、12b)的溫度與前述中央部區段(13a)獨立地變化。
简体摘要：可提供一种基材搬运滚子(2a)，基材的搬运品质不会下降，对于基材可以确保宽度广的温度控制域。基材搬运滚子(2a)，是设于在薄膜基材(W)的表面施以成膜处理的成膜设备(1)中，借由绕中心轴周围旋转将薄膜基材(W)搬运者，具备：中央部区段(13a)，是位于沿着前述中心轴的轴方向上的中央部且具有第1外周面；及端部区段(12a、12b)，是具有位在中央部区段(13a)的轴方向上的两外侧且与基材(W)接触的第2外周面，第2外周面具有比第1外周面更大的径；及中央部升降温媒体机构，是使中央部区段(13a)的温度变化；及两端部升降温机构，是使前述各端部区段(12a、12b)的温度与前述中央部区段(13a)独立地变化。

7. 发明专利

TW373223B 陰蔽罩之製造方法以及在此方法中所使用的耐蝕刻層塗佈裝置失效
简体标题：阴蔽罩之制造方法以及在此方法中所使用的耐蚀刻层涂布设备
公开(公告)号：TW373223B
公开(公告)日：1999-11-01
申请号：TW086114002
申请日：1997-09-25
申请人：東芝股份有限公司
发明人：二階堂勝 , 大竹康久 , 平原祥子
IPC分类号： H01J
CPC分类号： B05C1/0839 , B05C1/003 , B05C1/0826 , B05C1/0856 , B05C1/12 , B05C9/06 , H01J9/142 , H01J2209/015 , Y10S438/944
摘要：本發明係在塗佈耐蝕刻層時，由於防止因殘留有氣泡於小孔側之凹部而對於耐蝕刻層產生缺陷之情事，因而，不會往開孔形狀及開孔口形成不均勻，使之可獲得不具有不均勻品質之良好的陰蔽罩。為了達成該目的，以如圖１所示，將具備刮刀（doctor blade）之直徑約２０ｍｍ～約６０ｍｍ之照相凹版輥（gravure roll），配設於帶狀金屬薄板下方，而在其上方並不配置成相對間之支撐體，並供耐蝕刻層塗佈液於以搬送（輸送）金屬薄板之速度的４倍至２５倍之周邊速度朝與金屬薄板之輸送方向為逆向旋轉之照相凹版輥，而由刮刀刮去多餘之部分後，塗佈於金屬薄板。
简体摘要：本发明系在涂布耐蚀刻层时，由于防止因残留有气泡于小孔侧之凹部而对于耐蚀刻层产生缺陷之情事，因而，不会往开孔形状及开孔口形成不均匀，使之可获得不具有不均匀品质之良好的阴蔽罩。为了达成该目的，以如图１所示，将具备刮刀（doctor blade）之直径约２０ｍｍ～约６０ｍｍ之照相凹版辊（gravure roll），配设于带状金属薄板下方，而在其上方并不配置成相对间之支撑体，并供耐蚀刻层涂布液于以搬送（输送）金属薄板之速度的４倍至２５倍之周边速度朝与金属薄板之输送方向为逆向旋转之照相凹版辊，而由刮刀刮去多余之部分后，涂布于金属薄板。

8. 发明专利

TW290491B 多孔網之樹脂浸漬之方法失效
简体标题：多孔网之树脂浸渍之方法
公开(公告)号：TW290491B
公开(公告)日：1996-11-11
申请号：TW084100172
申请日：1995-01-10
申请人：蜆殼國際研究所
发明人：希利達.拉納斯瓦米.艾耶 , 查爾斯.大衛.雪力爾
IPC分类号： B29C
CPC分类号： B05C1/12 , B05C1/06 , B05C1/0834 , B29B15/122 , B29K2101/10 , H05K3/022
摘要：本發明揭示一種在以可熱固樹脂浸漬多孔網以減少樹脂廢物之方法。此方法涉及使用樹脂塗布裝置﹐其包含一可轉動輥﹐其上沉積液體形式可熱固樹脂﹔使纖維底材逆流接觸轉動輥上之可熱固樹脂﹐以轉移可熱固樹脂至纖維底材﹔在其與轉動輥接觸之前﹐自轉動輥移除任何未轉移樹脂﹐及沉積移除之樹脂於纖維底材上﹔及使含樹脂纖維網通過加熱區﹐以部份硬化樹脂。此方法特別適於電層合物預漬體之製備中無溶劑樹脂配方塗布玻璃網。
简体摘要：本发明揭示一种在以可热固树脂浸渍多孔网以减少树脂废物之方法。此方法涉及使用树脂涂布设备﹐其包含一可转动辊﹐其上沉积液体形式可热固树脂﹔使纤维底材逆流接触转动辊上之可热固树脂﹐以转移可热固树脂至纤维底材﹔在其与转动辊接触之前﹐自转动辊移除任何未转移树脂﹐及沉积移除之树脂于纤维底材上﹔及使含树脂纤维网通过加热区﹐以部份硬化树脂。此方法特别适于电层合物预渍体之制备中无溶剂树脂配方涂布玻璃网。

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